JPWO2007083748A1 - 圧力センサパッケージ及び電子部品 - Google Patents

圧力センサパッケージ及び電子部品 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2007083748A1
JPWO2007083748A1 JP2007533809A JP2007533809A JPWO2007083748A1 JP WO2007083748 A1 JPWO2007083748 A1 JP WO2007083748A1 JP 2007533809 A JP2007533809 A JP 2007533809A JP 2007533809 A JP2007533809 A JP 2007533809A JP WO2007083748 A1 JPWO2007083748 A1 JP WO2007083748A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure sensor
sensor package
semiconductor substrate
pressure
bump
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007533809A
Other languages
English (en)
Inventor
山本 敏
敏 山本
橋本 幹夫
橋本  幹夫
孝直 鈴木
孝直 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikura Ltd filed Critical Fujikura Ltd
Publication of JPWO2007083748A1 publication Critical patent/JPWO2007083748A1/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0042Constructional details associated with semiconductive diaphragm sensors, e.g. etching, or constructional details of non-semiconductive diaphragms
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/0061Electrical connection means
    • G01L19/0069Electrical connection means from the sensor to its support
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0051Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance
    • G01L9/0052Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance of piezoresistive elements
    • G01L9/0054Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance of piezoresistive elements integral with a semiconducting diaphragm
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched

Abstract

本発明の圧力センサパッケージ10は、半導体基板12の一面において、その中央域αの内部に空間13を備え、該空間の上部に位置する薄板化された領域をダイアフラム部14とし、該ダイアフラム部に感圧素子15を配置してなり、前記一面において、前記ダイアフラム部を除いた外縁域βに配置され、前記感圧素子ごとに電気的に接続された第1導電部17を少なくとも備えた圧力センサ11と、前記第1導電部には個別に、その上に配置され電気的に接続される第1バンプ18と、を備える。前記外縁域における半導体基板の厚さD1、前記ダイアフラム部の厚さD2、前記空間の高さD3、及び、前記中央域において、前記D2と前記D3を除いた半導体基板の残部の厚さD4は、(D2+D3)≪D4、かつ、D1≒D4、を満たす。

Description

本発明は、圧力センサパッケージ及び電子部品に関する。
本出願は、2006年1月19日に日本に出願された特願2006−10961号、及び、2006年9月21日に日本に出願された特願2006−256003号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
半導体基板を用いた圧力センサ(以下、半導体圧力センサとも呼ぶ。)としては、例えば、図11に示すものが挙げられる。この半導体圧力センサ100は、半導体基板101の裏面側からエッチングすることにより形成した薄肉のダイアフラム部102と、半導体基板101の表面側に形成された4つのゲージ抵抗103を有している。4つのゲージ抵抗103は、ホイートストーンブリッジを構成するように電気的に接続されている。ダイアフラム部102が圧力を受けて撓むと、各ゲージ抵抗103にダイアフラム部102の撓み量に応じた応力が発生し、この応力に応じてゲージ抵抗103の抵抗値が変化する。この抵抗値変化を電気信号として取り出すことにより、半導体圧力センサ100は圧力の検出をする(例えば、特許文献1の図5を参照)。
このような半導体圧力センサは、例えば、図12に示すようにパッケージ化された後、通常の使用に供される。すなわち、圧力センサパッケージ200は、絶縁体からなる基台201と、圧力導入口202を備えた樹脂等からなる蓋体203とからなる筐体204を必要的・必然的に備える。筐体204の内部空間において、圧力センサ205(100)が基台201に載置され、ワイヤボンド206によりリード207と電気的に接続された構造を有する。このような構造により、圧力センサパッケージ200を構成する圧力センサ205(100)は、リード207を介して、筐体204の外部に設けられる、例えば、図示しない増幅回路や補償回路と接続される。
特開2002−340714号公報
しかしながら、従来の圧力センサパッケージには、少なくとも次のような2つの課題があった。
(1)上述した筐体内に圧力センサを設置する構成のパッケージでは、圧力センサの小型化が図れたとしても、筐体自体は依然として元の大きさゆえに、直ちにパッケージ自体の小型化を図ることは困難である。
(2)上記構成のパッケージを製造する際には、半導体基板上に複数個の圧力センサを作製し、圧力センサを個別に利用するためチップ化した後、個々のチップをパッケージ化する必要がある。したがって、製造工程が多くなりパッケージの製造コストが嵩むため、低コスト化が図りにくい。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、圧力センサの機能を備えたウェハレベルパッケージを実現することにより、小型で低コストの圧力センサパッケージを提供することを1つの目的とする。また、このような圧力センサパッケージを搭載することにより、小型で軽量な電子部品を提供することを別の目的とする。
本発明の第1の態様(aspect)は、半導体基板の一面において、その中央域の内部に該一面と略平行して広がる空間を備え、該空間の上部に位置する薄板化された領域をダイアフラム部とし、該ダイアフラム部に感圧素子を配置してなり、前記一面において、前記ダイアフラム部を除いた外縁域に配置され、前記感圧素子と電気的に接続された第1導電部を少なくとも備えた圧力センサと、前記第1導電部には個別に、その上に配置され電気的に接続される第1バンプと、を備えてなる圧力センサパッケージであって、前記外縁域における半導体基板の厚さをD1、前記ダイアフラム部の厚さをD2、前記空間の高さをD3、前記中央域において、前記D2と前記D3を除いた半導体基板の残部の厚さをD4、と定義したとき、(D2+D3)≪D4、かつ、D1≒D4、であることを特徴とする。
本発明の第2の態様は、半導体基板の一面において、その中央域の内部に該一面と略平行して広がる空間を備え、該空間の上部に位置する薄板化された領域をダイアフラム部とし、該ダイアフラム部に感圧素子を配置してなり、前記一面において、前記ダイアフラム部を除いた外縁域に配置され、前記感圧素子と電気的に接続された第1導電部を少なくとも備えた圧力センサと、前記外縁域を覆うように設けられる第1絶縁部と、該第1絶縁部の上に配置され、前記第1導電部と個別に、電気的に接続される第2導電部と、該第2導電部には個別に、その上に配置され前記第1導電部と重ならない位置において、電気的に接続される第2バンプと、を備えてなる圧力センサパッケージであって、前記外縁域における半導体基板の厚さをT1、前記ダイアフラム部の厚さをT2、前記空間の高さをT3、前記中央域において、前記T2と前記T3を除いた半導体基板の残部の厚さをT4、と定義したとき、(T2+T3)≪T4、かつ、T1≒T4、であることを特徴とする。
本発明の第3の態様は、第2態様において、前記第2バンプのみ露呈させて、前記第2導電部を含む前記外縁域を覆うように設けられる第2絶縁部を備える。
本発明の第4の態様は、第2態様において、前記第2バンプのみ露呈させて、前記第2導電部を覆うように前記第1絶縁部に重ねて設けられる第2絶縁部を備え、前記第1絶縁部、第2絶縁部の少なくとも一方は島状を成す前記第2バンプの周囲に配置される。
本発明の第5の態様は、第2態様において、前記第2バンプどうしは互いに対称となる位置に配置されることを特徴とする。
本発明の第6の態様は、第1〜5のいずれか1つの態様において、前記圧力センサ内に、増幅回路及び/又は補償回路を備えたことを特徴とする。
本発明の第7の態様は、第2態様において、第1絶縁部が島状を有することを特徴とする。
本発明に係る電子部品は、第1〜7のいずれか1つの態様の圧力センサパッケージを搭載する。
本発明の第1態様の圧力センサパッケージ(以下、「第1の圧力センサパッケージ」とも呼ぶ。)では、圧力センサ自体が同一の半導体基板内においてダイアフラム部と、感圧素子と電気的に接続されると共に第1バンプを載置する第1導電部とを別な領域に配置し、ダイアフラム部を設けた中央域の各寸法D2〜D4と第1導電部を設けた外縁域の寸法D1が、前述した関係、すなわち(D2+D3)≪D4、かつ、D1≒D4、を満たすように構成される。つまり、第1の圧力センサパッケージは、ダイアフラム部と重なる位置の中央域には外縁域とほぼ同じ厚みをもち、同一部材からなる半導体基板を使用して構成される。このような構成は、圧力センサを第1バンプによって例えば外部基板と接続する際に、ダイアフラム部や感圧素子に加わる機械的あるいは熱的な影響を抑制する効果をもたらす。また、第1バンプを用いて外部基板と直接接続させる構成は、従来の圧力センサパッケージが必須としていた圧力センサを内包する筐体、及び、圧力センサと外部基板の間を電気的に繋ぐワイヤボンドやリード等の接続部材、を一切不要とする。したがって、本発明によれば、筐体などを必要とせず、小型化と低コスト化とを一緒に図ることが可能な圧力センサパッケージが得られる。
本発明の第2態様の圧力センサパッケージ(以下、「第2の圧力センサパッケージ」とも呼ぶ。)では、圧力センサ自体が同一の半導体基板内においてダイアフラム部と、感圧素子と電気的に接続されると共に第2バンプを載置する第2導電部と電気的に接続される第1導電部とを別な領域に配置し、ダイアフラム部を設けた中央域の各寸法T2〜T4と第1導電部及び第2導電部を設けた外縁域の寸法T1が、前述した関係、すなわち(T2+T3)≪T4、かつ、T1≒T4、を満たすように構成される。つまり、第2の圧力センサパッケージは、ダイアフラム部と重なる位置の中央域には外縁域とほぼ同じ厚みをもち、同一部材からなる半導体基板を使用して構成される。この構成では、第2導電部を備えたことにより、外縁域内において第1導電部とは重ならない任意の場所へ第2バンプを配置できるので、例えば外部基板の要求に応じた自由度の高い接続位置の設定が可能となる。また、このような第2導電部を備えた構成は、圧力センサを第2バンプによって例えば外部基板と接続する際に、ダイアフラム部や感圧素子に加わる機械的あるいは熱的な影響を抑制する効果も発揮する。さらに、第2バンプを用いて外部基板と直接接続させる構成は、従来の圧力センサパッケージが必須としていた圧力センサを内包する筐体、及び、圧力センサと外部基板の間を電気的に繋ぐワイヤボンドやリード等の接続部材、を一切不要とする。したがって、本発明によれば、外部基板の要求に応じた接続自由度を備えると共に、筐体などを必要とせず、小型化と低コスト化とを一緒に図ることが可能な圧力センサパッケージが得られる。
本発明に係る電子部品は、上述した構成を備える圧力センサパッケージを搭載する。この圧力センサパッケージは、搭載した際に嵩張る筐体などが不要なことから、圧力センサパッケージを収納する容積が大幅に低減されると共に、筐体などに相当する重量も削減される。よって、本発明によれば、小型で軽量な電子部品の提供が可能となる。
本発明の上記及び他の目的、作用・効果等については、本発明の実施形態の記載及び図面から、当業者に明らかになろう。
本発明の第1実施形態の圧力センサパッケージの要部断面側面図である。 本発明の第1実施形態の圧力センサパッケージの平面図である。 感圧素子(ゲージ抵抗)の電気的な配線図である。 本発明の第2実施形態の圧力センサパッケージの要部断面側面図である。 本発明の第2実施形態の圧力センサパッケージの平面図である。 本発明の第3実施形態の圧力センサパッケージの要部断面側面図である。 本発明の第3実施形態の圧力センサパッケージの平面図である。 電気回路を内蔵した基板の要部断面図である。 図5Aの基板の平面図である。 外部基板に実装された圧力センサパッケージの要部断面側面図である。 第3実施形態の圧力センサパッケージの製造における或る工程を示す要部断面側面図である。 図7Aの圧力センサパッケージの平面図である。 図7Aに示す工程の次の工程の圧力センサパッケージの要部断面側面図である。 図8Aの圧力センサパッケージの平面図である。 図8Aに示す工程の次の工程の圧力センサパッケージの要部断面側面図である。 図9Aの圧力センサパッケージの平面図である。 図9Aに示す工程の次の工程の圧力センサパッケージの要部断面側面図である。 図10Aの圧力センサパッケージの平面図である。 従来の圧力センサの断面側面図である。 従来の圧力センサパッケージの断面側面図である。 本発明の第4実施形態の圧力センサパッケージの要部断面側面図である。 本発明の第4実施形態の圧力センサパッケージの平面図である。 圧力センサパッケージの変形例の平面図である。 圧力センサパッケージの別の変形例の平面図である。 第2バンプの配置の一例を示す平面図である。 第2バンプの配置の別の例を示す平面図である。 第2バンプの配置の更に別の例を示す平面図である。 第2バンプの配置の他の例を示す平面図である。 外部基板に実装した本発明に係る圧力センサパッケージの要部断面側面図である。 図16Aに示す圧力センサパッケージの熱応力状態を示す平面図である。 外部基板に実装した従来の圧力センサパッケージの要部断面側面図である。 図17Aに示す圧力センサパッケージの熱応力状態を示す平面図である。 外部基板に実装した本発明に係る圧力センサパッケージの厚肉例の要部側面断面図である。 図18Aに示す圧力センサパッケージの厚肉例の熱応力状態を示す平面図である。 外部基板に実装した本発明に係る圧力センサパッケージの中肉例の要部側面断面図である。 図19Aに示す圧力センサパッケージの中肉例の熱応力状態を示す平面図である。 外部基板に実装した本発明に係る圧力センサパッケージの薄肉例の要部側面断面図である。 図20Aに示す圧力センサパッケージの薄肉例の熱応力状態を示す平面図である。 基板の厚さ(チップ厚)と基板内部の熱応力の最大値との関係を示す図である。
符号の説明
α、γ 中央域、
β、δ 外縁域、
10、20、40 圧力センサモジュール、
11、21 圧力センサ、
12、22 半導体基板、
13、23 空間、
14、24 ダイアフラム部、
15、25 感圧素子、
16、26 絶縁部、
17、27 第1導電部、
18 第1バンプ、
28 第1絶縁部、
29 第2導電部、
30 第2バンプ、
31 第2絶縁部、
62 回路。
5 照明ランプ
以下、図面を参照して、本発明の複数の実施の形態に基づいて、本発明を詳細に説明する。
本発明の圧力センサパッケージは、半導体基板の外縁部に配置された第1導電部上に第1バンプを設けてなる構造(第1形式の圧力センサパッケージ)と、半導体基板の外縁部に配置された第1導電部上に第2導電部を設け、第1導電部と重ならない位置にある第2導電部上に第2バンプを設けてなる構造(第2形式の圧力センサパッケージ)とに大きく分けることができる。もっとも、以下に記載する各実施形態は例示であって、例えば、ゲージ配置などは、これに限定されるものではない。
<第1実施形態>
先ず、図1A、図1B、及び図2を参照して、本発明の第1の実施形態の圧力センサパッケージ(第1形式の圧力センサパッケージ)について説明する。
図1Aは、図1Bに示す第1実施形態の圧力センサパッケージのA−A線に沿った断面を示す。
図1A及び1Bに示すように、第1形式の圧力センサパッケージ10を構成する圧力センサ11は、平板状の半導体基板12を基材とし、この半導体基板12の一面において、その中央域αの板厚方向の内部に該一面と略平行して広がる空間(基準圧力室)13を備え、該空間の上部に位置する薄板化された領域をダイアフラム部14とする。また、ダイアフラム部14には複数の感圧素子15が配置され、外縁領域まで延びている。さらに、前記一面において、前記ダイアフラム部を除いた外縁域βには、感圧素子15と電気的に接続された第1導電部17が配置されている。
なお、図示のように、第1バンプ18を載置するための第1導電部17を除く外縁域βは、パッシベーション膜、例えば、窒化膜、酸化膜のような薄い絶縁部16によって覆われる形態が好ましい。絶縁部16を設けることにより、感圧素子15が絶縁部16によって被覆した構成が得られる。
本第1実施形態の圧力センサパッケージ10においては、第1バンプ18以外の外縁域βは全て絶縁部16によって被覆されているので、第1バンプ18を、例えば外部基板(不図示)と接続させる際に、外部基板に対して感圧素子15の絶縁性を十分に確保できる。
また、絶縁部16は、感圧素子15の外気と接触を遮断するために、感圧素子15の耐食性を向上させる。また、絶縁部16があるために、感圧素子15がダイアフラム部14を介さずに直接、外部から受ける機械的な影響を大幅に低減する効果が得られる。
圧力センサ11を構成する第1導電部17の各々は、個別にその上に配置され電気的に接続される第1バンプ18を備える。
基板12の前記一面には、感圧素子15として機能するゲージ抵抗(R1〜R4)が配置される。各ゲージ抵抗は、不図示のリード配線等を介して、ホイートストーンブリッジ(図2)を構成するように電気的に接続されている。このような感圧素子15は、ダイアフラム部14の周縁部に配置することが好ましい。周縁部においては圧縮と引張の両応力が感圧素子15に加わりやすいので、感度のよい圧力センサが得られるからである。
図1Aに示すように、圧力センサ11は、外縁域βにおける半導体基板12の厚さをD1、ダイアフラム部14の厚さをD2、空間13の高さをD3、中央域αにおいて、前記D2と前記D3を除いた半導体基板12の残部の厚さをD4、と定義したとき、(D2+D3)≪D4、かつ、D1≒D4、とすることが好ましい。
したがって、本第1実施形態において、D1〜D4はそれぞれ、上記2式を満たすように適宜選択される。
D1〜D4が上記2式を満たすということは、第1の圧力センサパッケージ10を構成する圧力センサ11は、半導体基板12の一面からその厚さ方向に見たとき、その中央域αには、厚さD2が極めて薄いダイアフラム部14と高さD3が極めて低い空間13が存在し、その下方(図1Aでは上方側)にはこれらに比べて十分な厚さD4を有する残部が存在する。半導体基板12のこの厚さD4は、外縁域βにおける半導体基板12全体の厚さD1とほぼ等しい値に設計されていることを意味する。換言すると、ダイアフラム部14の厚さD2と、空間13の高さD3とを足した寸法(D2+D3)は極めて微小であって、例えば、5〜20μmである。空間高さD3は、例えば、1〜3μmである。
ここでは、中央域と外縁域に区別して呼称するが、両域は一体をなす一枚の半導体基板から構成されている。
ところで、上述のように、従来のセンサチップでは、パッケージする際に、チップへの熱的な影響(ひずみ等)を考慮して、ワイヤボンドが不可欠であり、これが小型化を阻害していた。しかしながら、本実施形態(本発明)では、センサチップ自体にバンプを設け、これを介して他の要素と直接連結できるようにされている。
したがって、本第1実施形態の圧力センサパッケージ10にあっては、従来の圧力センサパッケージが必須構成としていた圧力センサを内包する筐体などが不要となる。また、例えば、外部基板と接続可能な第1バンプ18も圧力センサ自体が備えているので、極めて小型の圧力センサパッケージが得られる。また、筐体などを構成する各部材が削減されると共に、筐体内に圧力センサをパッケージングする工程も不要となるので、大幅な低コスト化が図れる。さらには、複数の電気的な接続箇所が生じてしまうワイヤボンドやリード等を用いておらず、第1バンプ18のみによって外部基板と接続する構成としたことにより、優れた接続信頼性も同時に得られる。なお、本実施形態は例示であって、仕様等によりゲージ抵抗又はリード抵抗等の配置が変わっても良いことは言うまでもない。
<第2実施形態>
次に、図3A及び3Bを参照して、本発明の第2の実施形態の圧力センサパッケージ(第2形式の圧力センサパッケージ)について説明する。
図3Aは、図3Bに示す第2実施形態の圧力センサパッケージのB−B線に沿った断面を示す。
図3A及び3Bに示すように、第2形式の圧力センサパッケージ20を構成する圧力センサ21は、平板状の半導体基板22を基材とし、この半導体基板22の一面において、その中央域γの板厚方向の内部に該一面と略平行して広がる空間(基準圧力室)23を備え、該空間の上部に位置する薄板化された領域をダイアフラム部24とする。また、ダイアフラム部24には複数の感圧素子25が配置されている。さらに、前記一面において、前記ダイアフラム部を除いた外縁域δには、前記感圧素子25と電気的に接続された第1導電部27が配置されている。
なお、図示のように、第2導電部29と第2バンプ30とを載置するための第1導電部27を除く外縁域δは、パッシベーション膜、例えば、窒化膜、酸化膜のような薄い絶縁部26によって覆われる形態が好ましい。絶縁部26を設けることにより、感圧素子25が絶縁部26によって被覆した構成が得られる。
本第2実施形態の圧力センサパッケージ20においては、第1導電部27を設ける予定の領域以外の外縁域δは全て絶縁部26によって被覆されているので、第2導電部29や第2バンプ30を作製する前に圧力センサ21が放置あるいは保管されるような際に、外部基板に対して感圧素子25の絶縁性を十分に確保できる。
また、絶縁部26は、感圧素子25の外気と接触を遮断するため感圧素子25の耐食性を向上させる。また、絶縁部26があるために、感圧素子25がダイアフラム部24を介さずに直接、外部から受ける機械的な影響を大幅に低減する効果が得られる。
本第2実施形態の圧力センサパッケージ20において、圧力センサ21は、その外縁域δを覆うように配置される第1絶縁部28と、第1絶縁部28の上に配置され、第1導電部27と個別に、電気的に接続される第2導電部29と、第2導電部には個別に、その上に配置され前記第1導電部と重ならない位置において、電気的に接続される第2バンプと、を備える。第1絶縁部は、応力の緩衝層としてエポキシなどの感光性樹脂などが用いられる。
本第2実施形態の感圧素子25は、図1A及び1Bの其れと同様に、ゲージ抵抗(R1〜R4)が配置される。各ゲージ抵抗は、不図示のリード配線を介して、ホイートストーンブリッジ(図2)を構成するように電気的に接続されている。図3A及び3Bに示す圧力センサ21の場合も、これらの感圧素子25の配置は、圧縮と引張の両応力が感圧素子25に加わりやすいダイアフラム部24の周縁部が好ましい。
図3Aに示すように、圧力センサ21は、外縁域δにおける半導体基板22の厚さをT1、ダイアフラム部24の厚さをT2、空間23の高さをT3、中央域γにおいて、前記T2と前記T3を除いた半導体基板22の残部の厚さをT4、と定義したとき、(T2+T3)≪T4、かつ、T1≒T4、とすることが好ましい。
したがって、本第2実施形態において、T1〜T4はそれぞれ、上記2式を満たすように適宜選択される。
T1〜T4が上記2式を満たすということは、第2の圧力センサパッケージ20を構成する圧力センサ21は、半導体基板22の一面からその厚さ方向に見たとき、その中央域γには、厚さT2が極めて薄いダイアフラム部24と高さT3が極めて低い空間23が存在し、その下方(図3Aでは上方側)にはこれらに比べて十分な厚さT4を有する残部が存在する。半導体基板22のこの厚さT4は外縁域δにおける半導体基板22全体の厚さT1とほぼ等しい値に設計されていることを意味する。換言すると、ダイアフラム部24の厚さT2と、空間23の高さT3とを足した寸法(T2+T3)は極めて微小であって、例えば、5〜20μmである。空間高さT3は、例えば、1〜3μmである。
ここでは、中央域と外縁域に区別して呼称するが、両域は一体をなす一枚の半導体基板から構成されている。
特に、この構成では、第2導電部29を備えたことにより、外縁域δ内において第1導電部27とは重ならない任意の場所へ第2バンプ30を配置できるので、例えば外部基板の要求に応じた接続位置に第2バンプ30を設けることが可能となる。ゆえに、第2の圧力センサパッケージ20は、外部基板との接続位置について高い自由度を有する。
ところで、上述のように、従来のセンサチップでは、パッケージする際に、チップへの熱的な影響(ひずみ等)を考慮して、ワイヤボンドが不可欠であり、これが小型化を阻害していた。しかしながら、本実施形態(本発明)では、センサチップ自体にバンプを設け、これを介して他の要素と直接連結できるようにされている。
したがって、本第1実施形態の圧力センサパッケージ20にあっては、従来の圧力センサパッケージが必須構成としていた圧力センサを内包する筐体などが不要となり、また、例えば外部基板と接続可能な第2バンプ30も圧力センサ自体が備えているので、極めて小型の圧力センサパッケージが得られる。また、筐体などを構成する各部材が削減されると共に、筐体内に圧力センサをパッケージングする工程も不要となるので、大幅な低コスト化が図れる。さらには、複数の電気的な接続箇所が生じてしまうワイヤボンドやリード等を用いておらず、第2バンプ30のみによって外部基板と接続する構成としたことにより、優れた接続信頼性も同時に得られる。なお、本実施形態は例示であって、仕様等によりゲージ抵抗又はリード抵抗等の配置が変わっても良いことは言うまでもない。
<第3実施形態>
次に、図4A及び4Bを参照して、本発明の第3の実施形態の圧力センサパッケージ(第2形式の圧力センサパッケージをベース)について説明する。図4Aは、図4Bに示す第3実施形態の圧力センサパッケージのC−C線に沿った断面を示す。
図4A及び4Bに示す圧力センサパッケージ40は、図3A及び3Bに示した第2形式の圧力センサパッケージ20をベースとし、第2バンプ30のみ露出するように、外縁域δを覆う第2絶縁部31を配置した例である。第2絶縁部は、第1絶縁部と同様のエポキシ樹脂などが用いられる。
本第3実施形態の第2形式の圧力センサパッケージ40においては、第2バンプ30以外の外縁域δは全て第2絶縁部31によって被覆されているので、第2バンプ30を例えば外部基板(不図示)と接続させる際に、外部基板に対して第2導電部29の絶縁性を十分に確保できる。
また、第2絶縁部31は、第2導電部29の外気と接触を遮断するため第2導電部29の耐食性を向上させる。また、第2絶縁部31があるために、第2導電部29が外部から受ける機械的な影響を大幅に低減する効果が得られる。
ここで、センサパッケージの要部を構成する基板の内部に各種回路を内蔵させた構造を紹介する。
図5A及び5Bは、このような基板を示し、図5Aは、図5Bに示す基板のD−D線に沿った断面を示す。
図5に示した基板から構成される圧力センサパッケージ60は、図1A〜図4Bに示した第1形式または第2形式の圧力センサパッケージ10、20をベースとし、半導体基板11(21)の外縁域β(δ)にあって、電極パッドとして機能する第1導電部17(27)が設けられていない基板内部に、例えば、信号増幅や補償などの機能を備えた回路62を設けた例である。
このような回路62が設けられる位置は、ダイアフラム部64と重ならない位置であればよく、外縁域β(δ)内の特定の場所に限定されるものではない。なお、図5A及び図5Bにおいては特に、第1導電部17(27)と回路62の位置関係を明確に示すため、その他の構成物は適宜割愛して描写した。
上記第1、第2、及び第3実施形態について記載したと同様の理由から、このような形態の圧力センサパッケージ60にあっても、基板内部に回路62を備えているので、従来は外付けとされていた構成が不要となるので、接続部材や接続に要する製造工程が削減できるので製造コストが削減されるとともに、基板外部からの物理的あるいは化学的な影響が回避されるので電気的な接続品質の向上も図れる。
ここで、図6を参照して、本発明に係る圧力センサパッケージを外部基板に実装した一例を簡潔に説明する。
図6は、例えば、各種のプリント基板からなる外部基板71に対して、圧力センサパッケージ72はそれ自体が備えるバンプ73によって接続されており、本発明に係る圧力センサパッケージがチップサイズで実装可能であることを表している。
なお、図6においては特に、上記の実装される状態を明確に示すため、その他の構成物は適宜割愛して描写した。また、図6のバンプ配置は、上述した第2の圧力センサパッケージに相当する例を示しているが、本例はこれに限定されるものではなく、たとえば第1の圧力センサパッケージにおいても同様にチップサイズで実装可能である。
以下では、図7〜図10を参照して、図4A及び4Bに示す第3実施形態の圧力センサパッケージ(第2形式)を製造する工程について説明する。
本発明の総ての実施形態においては、圧力センサに対して、チップサイズパッケージを実現するための加工をウェハレベルで行う。このような半導体基板の内部に空間(基準圧力室)23を備えてなる構造の圧力センサは、例えば S. Armbruster 等により開示された方法(S. Armbruster et.al., "A NOVEL MICROMACHINING PROCESS FOR THE FABRICATION OF MONOCRYSTALLINE SI-MEMBRANES USING POROUS SILICON", Digest of Technical Papers Transducers '03, 2003, pp. 246.) により作製される。
まず、図7A及び7Bに示すように、圧力センサ21のダイアフラム24以外の領域に、絶縁樹脂層28を形成する。本製造方法においては、エポキシ樹脂などの感光性の樹脂を用い、一度ダイアフラムを含むウェハ全面に塗布した後、露光現像を行いダイアフラム部上にある樹脂のみを除去し、残部を絶縁樹脂層とした。このとき、電極パッドとして機能する第1導電部27上の樹脂も同時に除去することで、電気配線のための開口部を効率よく形成した。
次に、図8A及び8Bに示すように、第1導電部27と電気的に接続するように、第2導電部29として配線層を形成する。本製造方法においては、めっきにより銅(Cu)からなる配線層を形成した。なお、めっきにより配線層を形成することに限定されず、スパッタやCVD等、他の成膜方法でもよい。また、材料もCuだけでなく、AuやNi等、他の金属材料やこれらを適宜組み合わせたものでもよい。
次いで、図9A及び9Bに示すように、第2導電部29を含み、かつダイアフラム部24以外の領域に、第2絶縁部31として絶縁樹脂層を形成する。そして、エポキシ樹脂などの感光性の樹脂を用い、一度ダイアフラムを含むウェハ全面に塗布した後、露光現像を行いダイアフラム面上の樹脂も同時に除去することで、バンプ形成のための開口部を効率よく形成した。
最後に、図10A及び10Bに示すように、第2導電部29を構成する配線層と電気的に接続するようにバンプ30を形成する。ここでは、はんだボールを搭載してバンプを形成した。なお、バンプの形成方法はこれに限定されず、印刷やめっきにより形成することが可能である。
上述した工程により、図4A及び4Bの構成(第3実施形態)を備えた第2の圧力センサパッケージは作製される。しかしながら、図1A及び1Bや図3A及び3Bなどに例示した圧力センサパッケージもほぼ同様の製造方法により作製することができる。
<第4実施形態>
先ず、図13A及び13Bを参照して、本発明の第4の実施形態の圧力センサパッケージ(第2形式の圧力センサパッケージ)について説明する。本実施形態の図においては、パッシベーションなどの絶縁層を省略してある。
図13Aは、図13Bに示す第4実施形態の圧力センサパッケージのJ−J線に沿った断面を示す。図4A及び4Bに示した第3実施形態の圧力センサパッケージ40においては第1絶縁部が連続しているのに対して、図13A及び13Bに示す本第4実施形態の圧力センサパッケージ50は、複数の第2バンプ30は個別に、周囲に配置される第1絶縁部28及び第2絶縁部31が個々に独立した島状部35を成している。
図13A及び13Bに示す圧力センサパッケージ50では、第1絶縁部28の上に配置され、第1絶縁部28から一部が露呈された第1導電部27に対して電気的に接続される第2導電部29と、第2導電部を覆う第2絶縁部31を備える。この第2導電部29は、第2絶縁部31に形成された開口からその一部が露呈され、この露呈領域すなわち前記第1導電部と重ならない位置において、第2導電部29と電気的に接続される第2バンプ30が配置されている。
斯かる構成ために、絶縁部(絶縁樹脂層)がダイアフラム部に及ぼす影響を極力少なくすることができる。これにより、ダイアフラムの感度を高く維持でき、高精度なセンサを構築できる。
また、副次的な効果として、このように、それぞれの第2バンプ30に対応して、互いに独立した島状部35を形成することによって、島状部35どうしの間は、ダイアフラム部24と半導体基板22の外部との間を等圧に保つ圧力通路Sを設けることが可能となる。
換言すると、ダイアフラム部24が配置された半導体基板22の中央領域が、第1絶縁部28及び第2絶縁部31によって囲われることなく、半導体基板22の外部との間で通路Sによって、圧力の流入路と流出路を確保できる。
例えば、狭い管路中にこうした圧力センサパッケージ50を配置した場合、島状部35どうしの間の通路Sを通して、外部の圧力がダイアフラム部24に正確に伝わるので、狭小な環境下で密に設置された場合でも、正確かつ安定して圧力を検出することができる。
なお、島状部35は、個々の第2バンプ30ごとに形成するのが最も好ましく、それ以外にも、複数の第2バンプが1つの島状部を成していてもよい。
また、第2バンプ30の半導体基板22に対する配列は、図13A及び13Bに示したような、ダイアフラム部24を除いた外縁域において、各辺の中間部分に第2バンプ30をそれぞれ配置する形態に限定されない。すなわち、例えば、図14Aに示すように、半導体基板22のダイアフラム部24を除いた外縁域の四辺の角部にそれぞれ第2バンプ30を配置してもよい。そしてこの第2バンプ30の周辺の島状部35は、それぞれ外縁域の四辺のうちの二辺に沿って延びるように配置してもよい。
この構成によって、島状部35の長手方向Lでは、気体や液体が流れる方向に沿って開口部を広く設けて、流入、流出をよりスムーズに行うことが可能となる。例えば、細長い圧力通路などで、圧力通路の延長方向と島状部35の長手方向Lとが合致するように圧力センサパッケージ50を設置すれば、圧力通路中の圧力変化を正確に検出することが可能になる。
なお、図14Aの構成では、島状部35の平面形状を液滴形に形成しているが、図14Bに示すように、島状部35の平面形状を矩形に形成しても良い。またそれ以外にも、島状部35どうしの間隔が保たれるならば、島状部35の平面形状を楕円形や不定形など各種形状に形成しても良い。
こうした、島状部の効果を検証するために、第1絶縁部及び第2絶縁部を島状に形成したものと、従来のように一律に広げて形成したものとを用いて、圧力センサとしての特性を測定して比較を行ったところ、外部応力により変動するオフセット温度特性が大きく改善した。よって、本実施形態のような島状部の形成が、ダイアフラムに対する応力の影響の低減に効果的であることが確認された。なお、本実施形態においては、第2絶縁樹脂層がある構成について示したが、第2絶縁樹脂層がなく、第1絶縁樹脂層を島状にした構成においても同様の効果が得られる。
図15A〜15Dを参照して、本発明に係る圧力センサパッケージの第2バンプを配置する形成パターンを幾つか説明する。
図15Aは、一面が矩形を成す半導体基板22の四方のコーナー領域に第2バンプ30を配置した例であり、それぞれの第2バンプ30は互いに等間隔で対称形に配置されている。第2バンプ30を互いに等間隔で対称形に配置することによって、それぞれの第2バンプ30に掛かる応力の配分が均等にされるので、圧力センサパッケージ90の検出特性の変動を抑えることが可能になる。
図15Bに示すように、半導体基板22の各辺の中間部分で、かつ互いに等間隔で対称形になるように第2バンプ30を配置するようにしてもよい。図15Aの構成と同様の作用・効果が得られる。
また、図15C及び15Dに示すように、半導体基板22に対して互いに等間隔で対称形に配置される第2バンプ30は、互いに同じ大きさすることが好ましい。このように、第2バンプ30の大きさを均一に揃えることによって、それぞれの第2バンプ30に加わる応力を均等に配分できる。ゆえに、図15A及び15Bの配置は、圧力センサパッケージ90の検出特性の変動を抑える効果をもたらす。なお、以上の実施形態においては、絶対圧タイプのセンサについて記載した。しかしながら、中央部の残部にダイアフラム部に、応力の影響の出ない範囲で(中央域の内部に形成された)空間部に到達する貫通穴をあけることにより、相対圧タイプのセンサを構成することもできる。
以下、従来構造に対する、本発明に係る圧力センサパッケージの特徴的な作用・効果について、図16A〜図17Bを参照して簡潔に説明する。
ダイアフラムの存在する表面側とは反対の裏面側において、ダイアフラムをバックアップするような基板部分が大きく存在するパッケージ構成から成る本発明(図16A)と、そのようなバックアップ(基板部分)の無い従来構造(図17A)とを比較するシミュレーション(実験)を行った。
図16Aは、本発明に係る圧力センサパッケージの典型例80を、他の基板、具体的には、外部基板71に実装した構成を示し、図16Bは、この実装時におけるバンプ部分に作用する熱応力の集中度合い(熱応力状態)を示す。
他方、図17Aは、従来の典型的な圧力センサパッケージ82を、他の基板、具体的には、外部基板71に実装した構成を示し、図17Bは、この実装時におけるバンプ部分に作用する熱応力の集中度合い(熱応力状態)を示す。
図16Bおよび図17Bとの対比・比較から、本発明構造(典型例)の方が、発生する熱応力の大小の面で極めて優れている、すなわち、発生する熱応力が小さい、ということが良く理解できる。
次に、本発明に係る圧力センサパッケージにおいて、基板厚(D1あるいはT1)の大小に応じて、どのような作用・効果の違いが現われるかについて、図18A〜図20を参照して簡潔に説明する。
本発明に係る圧力センサパッケージとして、基板全厚の違う3つのもの、すなわち、図18Aに示す厚肉例(具体的には、400μm)、図19Aに示す中肉例(具体的には、200μm)、図20Aに示す薄肉例(具体的には、100μm)を用意して、それらを比較するシミュレーション(実験)を行った。
図18B、図19B、図20Bは、それぞれ、厚肉例、中肉例、薄肉例を実装した際のバンプ部分に作用する熱応力の集中度合い(熱応力の状態)を示す。
これらの図の対比・比較から、薄肉の場合には作用・効果の面で良好な結果を得ることができないこと、および、肉厚が或る程度であった方が作用・効果の面で優れていること、等が理解できる。
具体的に、最適ないし実用的な基板厚の上限および下限を見い出すために、更なる実験(熱信頼性試験)をおこなった。その実際の条件は次の通りである。
・−25℃/125℃ 1000サイクル(サイクル実行後にバンプ部分の観察)
・センサ各部寸法:D2=5μm;D3=2μm;D1=100μm, 150μm, 200μm, 300μm, 400μm, 500μm
・外部基板71=厚さ1mmのリジッド基板(FR4)
実験結果としては、図21からも理解され得るように、200μm以上の厚さを有するものでは、バンプ部の亀裂等の不具合は特に生じなかった。しかしながら、150μmでは3/10、100μmでは5/10、というように不良が生じた。
結論的には、基板厚(D1またはT1)は、200μm以上であることが望ましく、上限(最大厚)としては、実装面から500μm程度が実用上、望ましい、ということが言い得る。
なお、上述した本シミュレーション(実験)において、熱応力状態を示す図は、半導体パッケージとバンプとの接合部を上面(表面)側から見た図を示すものである。図16B、図17B、図18B、図19B、図20Bにおいて、点線で囲まれた箇所は、ダイアフラム部を示す。また、黒色の濃く表されている箇所ほど、応力が大きく作用していることを意味する。
本発明に係る圧力センサパッケージは、空気圧や水圧、油圧などの圧力を測定する用途に使用され、特に、ウェハレベルチップサイズパッケージ化により筐体等を不要とした構造を備えているので、薄型化や小型化、あるいは軽量化等が求められている各種の電子部品に好適である。
本発明の請求項1に記載の圧力センサパッケージは、半導体基板の一面において、その中央域の内部に該一面と略平行して広がる空間を備え、該空間の上部に位置する薄板化された領域をダイアフラム部とし、該ダイアフラム部に感圧素子を配置してなり、前記一面において、前記ダイアフラム部を除いた外縁域に配置され、前記感圧素子と電気的に接続された第1導電部を少なくとも備えた圧力センサと、前記第1導電部には個別に、その上に配置され電気的に接続される第1バンプと、を備えてなる圧力センサパッケージであって、前記外縁域における半導体基板の厚さをD1と定義したとき、該D1が200μm以上500μm以下であることを特徴とする。
本発明の請求項2に記載の圧力センサパッケージは、半導体基板の一面において、その中央域の内部に該一面と略平行して広がる空間を備え、該空間の上部に位置する薄板化された領域をダイアフラム部とし、該ダイアフラム部に感圧素子を配置してなり、前記一面において、前記ダイアフラム部を除いた外縁域に配置され、前記感圧素子と電気的に接続された第1導電部を少なくとも備えた圧力センサと、前記外縁域を覆うように設けられる第1絶縁部と、該第1絶縁部の上に配置され、前記第1導電部と個別に、電気的に接続される第2導電部と、該第2導電部には個別に、その上に配置され前記第1導電部と重ならない位置において、電気的に接続される第2バンプと、を備えてなる圧力センサパッケージであって、前記外縁域における半導体基板の厚さをT1と定義したとき、該T1が200μm以上500μm以下であることを特徴とする。
本発明の請求項3に記載の圧力センサパッケージは、請求項2に記載の圧力センサパッケージであって、前記第2バンプのみ露呈させて、前記第2導電部を含む前記外縁域を覆うように設けられる第2絶縁部を備える。
本発明の請求項4に記載の圧力センサパッケージは、請求項2に記載の圧力センサパッケージであって、前記第2バンプのみ露呈させて、前記第2導電部を覆うように前記第1絶縁部に重ねて設けられる第2絶縁部を備え、前記第1絶縁部、第2絶縁部の少なくとも一方は島状を成し、かつ、前記第2バンプの周囲に配置される。
本発明の請求項5に記載の圧力センサパッケージは、請求項2に記載の圧力センサパッケージであって、前記一面が矩形を成す半導体基板において、前記第2バンプどうしは互いに対称となる位置に配置されることを特徴とする。
本発明の請求項6に記載の圧力センサパッケージは、請求項1又は2に記載の圧力センサパッケージであって、前記圧力センサ内に、増幅回路及び/又は補償回路を備えたことを特徴とする。
本発明の請求項7に記載の圧力センサパッケージは、請求項2に記載の圧力センサパッケージであって、前記第1絶縁部が島状を有することを特徴とする。
本発明に係る電子部品は、請求項1又は2に記載の圧力センサパッケージを搭載する。
本発明の請求項1に記載の圧力センサパッケージ(以下、「第1の圧力センサパッケージ」とも呼ぶ。)では、圧力センサ自体が同一の半導体基板内においてダイアフラム部と、感圧素子と電気的に接続されると共に第1バンプを載置する第1導電部とを別な領域に配置してなり、第1導電部を設けた外縁域の寸法D1が200μm以上500μm以下として構成される。このような構成は、圧力センサを第1バンプによって例えば外部基板と接続する際に、ダイアフラム部や感圧素子に加わる機械的あるいは熱的な影響を抑制する効果をもたらす。また、第1バンプを用いて外部基板と直接接続させる構成は、従来の圧力センサパッケージが必須としていた圧力センサを内包する筐体、及び、圧力センサと外部基板の間を電気的に繋ぐワイヤボンドやリード等の接続部材、を一切不要とする。したがって、本発明によれば、筐体などを必要とせず、小型化と低コスト化とを一緒に図ることが可能な圧力センサパッケージが得られる。
本発明の請求項2に記載の圧力センサパッケージ(以下、「第2の圧力センサパッケージ」とも呼ぶ。)では、圧力センサ自体が同一の半導体基板内においてダイアフラム部と、感圧素子と電気的に接続されると共に第2バンプを載置する第2導電部と電気的に接続される第1導電部とを別な領域に配置してなり、第2導電部を設けた外縁域の寸法T1が200μm以上500μm以下として構成される。また、第2の圧力センサパッケージは、ダイアフラム部と重なる位置の中央域には外縁域とほぼ同じ厚みをもち、同一部材からなる半導体基板を使用して構成される。この構成では、第2導電部を備えたことにより、外縁域内において第1導電部とは重ならない任意の場所へ第2バンプを配置できるので、例えば外部基板の要求に応じた自由度の高い接続位置の設定が可能となる。また、このような第2導電部を備えた構成は、圧力センサを第2バンプによって例えば外部基板と接続する際に、ダイアフラム部や感圧素子に加わる機械的あるいは熱的な影響を抑制する効果も発揮する。さらに、第2バンプを用いて外部基板と直接接続させる構成は、従来の圧力センサパッケージが必須としていた圧力センサを内包する筐体、及び、圧力センサと外部基板の間を電気的に繋ぐワイヤボンドやリード等の接続部材、を一切不要とする。したがって、本発明によれば、外部基板の要求に応じた接続自由度を備えると共に、筐体などを必要とせず、小型化と低コスト化とを一緒に図ることが可能な圧力センサパッケージが得られる。



Claims (8)

  1. 半導体基板の一面において、その中央域の内部に該一面と略平行して広がる空間を備え、該空間の上部に位置する薄板化された領域をダイアフラム部とし、該ダイアフラム部に感圧素子を配置してなり、前記一面において、前記ダイアフラム部を除いた外縁域に配置され、前記感圧素子と電気的に接続された第1導電部を少なくとも備えた圧力センサと、前記第1導電部には個別に、その上に配置され電気的に接続される第1バンプと、を備えてなる圧力センサパッケージであって、
    前記外縁域における半導体基板の厚さをD1、前記ダイアフラム部の厚さをD2、前記空間の高さをD3、前記中央域において、前記D2と前記D3を除いた半導体基板の残部の厚さをD4、と定義したとき、(D2+D3)≪D4、かつ、D1≒D4、であることを特徴とする圧力センサパッケージ。
  2. 半導体基板の一面において、その中央域の内部に該一面と略平行して広がる空間を備え、該空間の上部に位置する薄板化された領域をダイアフラム部とし、該ダイアフラム部に感圧素子を配置してなり、前記一面において、前記ダイアフラム部を除いた外縁域に配置され、前記感圧素子と電気的に接続された第1導電部を少なくとも備えた圧力センサと、前記外縁域を覆うように設けられる第1絶縁部と、該第1絶縁部の上に配置され、前記第1導電部と個別に、電気的に接続される第2導電部と、該第2導電部には個別に、その上に配置され前記第1導電部と重ならない位置において、電気的に接続される第2バンプと、を備えてなる圧力センサパッケージであって、
    前記外縁域における半導体基板の厚さをT1、前記ダイアフラム部の厚さをT2、前記空間の高さをT3、前記中央域において、前記T2と前記T3を除いた半導体基板の残部の厚さをT4、と定義したとき、(T2+T3)≪T4、かつ、T1≒T4、であることを特徴とする圧力センサパッケージ。
  3. 前記第2バンプのみ露呈させて、前記第2導電部を含む前記外縁域を覆うように設けられる第2絶縁部を備えたことを特徴とする請求項2に記載の圧力センサパッケージ。
  4. 前記第2バンプのみ露呈させて、前記第2導電部を覆うように前記第1絶縁部に重ねて設けられる第2絶縁部を備え、前記第1絶縁部、第2絶縁部の少なくとも一方は島状を成す前記第2バンプの周囲に配置されることを特徴とする請求項2に記載の圧力センサパッケージ。
  5. 前記第2バンプどうしは互いに対称となる位置に配置されることを特徴とする請求項2に記載の圧力センサパッケージ。
  6. 前記圧力センサ内に、増幅回路及び/又は補償回路を備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の圧力センサパッケージ。
  7. 第1絶縁部は、島状を有することを特徴とする請求項2に記載の圧力センサパッケージ。
  8. 請求項1又は2に記載の圧力センサパッケージを搭載することを特徴とする電子部品。
JP2007533809A 2006-01-19 2007-01-19 圧力センサパッケージ及び電子部品 Pending JPWO2007083748A1 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006010961 2006-01-19
JP2006010961 2006-01-19
JP2006256003 2006-09-21
JP2006256003 2006-09-21
PCT/JP2007/050801 WO2007083748A1 (ja) 2006-01-19 2007-01-19 圧力センサパッケージ及び電子部品

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009120413A Division JP4991788B2 (ja) 2006-01-19 2009-05-18 圧力センサパッケージ及び電子部品

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPWO2007083748A1 true JPWO2007083748A1 (ja) 2009-06-11

Family

ID=38287698

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007533809A Pending JPWO2007083748A1 (ja) 2006-01-19 2007-01-19 圧力センサパッケージ及び電子部品
JP2009120413A Expired - Fee Related JP4991788B2 (ja) 2006-01-19 2009-05-18 圧力センサパッケージ及び電子部品

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009120413A Expired - Fee Related JP4991788B2 (ja) 2006-01-19 2009-05-18 圧力センサパッケージ及び電子部品

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7549344B2 (ja)
EP (1) EP1975587A1 (ja)
JP (2) JPWO2007083748A1 (ja)
CN (1) CN101375146B (ja)
WO (1) WO2007083748A1 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5248317B2 (ja) 2006-11-29 2013-07-31 株式会社フジクラ 圧力センサモジュール
US8673769B2 (en) * 2007-06-20 2014-03-18 Lam Research Corporation Methods and apparatuses for three dimensional integrated circuits
JP5331546B2 (ja) * 2008-04-24 2013-10-30 株式会社フジクラ 圧力センサモジュール及び電子部品
JP2010199148A (ja) * 2009-02-23 2010-09-09 Fujikura Ltd 半導体センサデバイス及びその製造方法、パッケージ及びその製造方法、モジュール及びその製造方法、並びに電子機器
JP5216041B2 (ja) * 2010-04-07 2013-06-19 ダイキン工業株式会社 透明圧電シートをそれぞれ有するフレーム付透明圧電シート、タッチパネル、および電子装置
US8378435B2 (en) 2010-12-06 2013-02-19 Wai Yew Lo Pressure sensor and method of assembling same
CN102589753B (zh) 2011-01-05 2016-05-04 飞思卡尔半导体公司 压力传感器及其封装方法
US8511171B2 (en) * 2011-05-23 2013-08-20 General Electric Company Device for measuring environmental forces and method of fabricating the same
US9029999B2 (en) 2011-11-23 2015-05-12 Freescale Semiconductor, Inc. Semiconductor sensor device with footed lid
JP5935352B2 (ja) * 2012-01-27 2016-06-15 富士電機株式会社 Son構造を有する物理量センサの製造方法。
US9297713B2 (en) 2014-03-19 2016-03-29 Freescale Semiconductor,Inc. Pressure sensor device with through silicon via
US9362479B2 (en) 2014-07-22 2016-06-07 Freescale Semiconductor, Inc. Package-in-package semiconductor sensor device
CN107527874B (zh) 2016-06-20 2023-08-01 恩智浦美国有限公司 腔式压力传感器器件
CN107941407B (zh) * 2017-11-19 2019-05-21 东北大学 一种微压高过载传感器芯片

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0495740A (ja) * 1990-08-06 1992-03-27 Toyota Autom Loom Works Ltd 半導体装置
JPH08210935A (ja) * 1995-02-07 1996-08-20 Tokai Rika Co Ltd 圧力センサ
US6809421B1 (en) * 1996-12-02 2004-10-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Multichip semiconductor device, chip therefor and method of formation thereof
JP4074051B2 (ja) 1999-08-31 2008-04-09 株式会社東芝 半導体基板およびその製造方法
JP2002082009A (ja) * 2000-06-30 2002-03-22 Denso Corp 圧力センサ
JP4250868B2 (ja) 2000-09-05 2009-04-08 株式会社デンソー 半導体圧力センサの製造方法
JP2002340714A (ja) 2001-05-15 2002-11-27 Matsushita Electric Works Ltd 半導体圧力センサ及びその製造方法
JP2004170148A (ja) * 2002-11-18 2004-06-17 Fujikura Ltd 絶対圧タイプ圧力センサモジュール
JP4322508B2 (ja) * 2003-01-15 2009-09-02 新光電気工業株式会社 半導体装置の製造方法
US7284443B2 (en) * 2003-01-30 2007-10-23 Fujikura Ltd. Semiconductor pressure sensor and process for fabricating the same
JP2006010961A (ja) 2004-06-24 2006-01-12 Mitsubishi Cable Ind Ltd フォトニッククリスタルファイバおよびレーザ加工機
JP2006105624A (ja) * 2004-09-30 2006-04-20 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd ダイアフラムチップとそれを用いた圧力センサ及びダイアフラムチップの製造方法
JP2006256003A (ja) 2005-03-16 2006-09-28 Honda Motor Co Ltd 構造板
JP2006324320A (ja) * 2005-05-17 2006-11-30 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP2007234881A (ja) * 2006-03-01 2007-09-13 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体チップを積層した半導体装置及びその製造方法
JP4955349B2 (ja) * 2006-09-07 2012-06-20 新光電気工業株式会社 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN101375146B (zh) 2010-08-11
JP4991788B2 (ja) 2012-08-01
WO2007083748A1 (ja) 2007-07-26
US7549344B2 (en) 2009-06-23
CN101375146A (zh) 2009-02-25
EP1975587A1 (en) 2008-10-01
US20080276713A1 (en) 2008-11-13
JP2009180746A (ja) 2009-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4991788B2 (ja) 圧力センサパッケージ及び電子部品
US7530276B2 (en) Semiconductor pressure sensor and manufacturing method thereof
CN101389940B (zh) 带有硅玻璃料结合帽的压力传感器
US7563634B2 (en) Method for mounting semiconductor chips, and corresponding semiconductor chip system
US7849749B2 (en) Pressure sensor module
US8127617B2 (en) Pressure sensor, manufacturing method thereof, and electronic component provided therewith
KR20170101794A (ko) 혹독한 매체 적용에 대한 반도체 압력 센서
JP2007248212A (ja) 圧力センサパッケージ及び電子部品
JP5331546B2 (ja) 圧力センサモジュール及び電子部品
US7242065B2 (en) Compact pressure sensor with high corrosion resistance and high accuracy
JP3915605B2 (ja) 圧力センサ装置
JP3908266B2 (ja) 半導体圧力センサ及びその製造方法
JP2007322191A (ja) 半導体加速度センサ
JP6714439B2 (ja) 歪検出器及びその製造方法
JP6248009B2 (ja) 圧力センサ
JP4207847B2 (ja) 圧力センサ
JP5779487B2 (ja) 圧力センサモジュール
JP2010071817A (ja) 半導体センサ内蔵パッケージ
JP2016102763A (ja) 半導体センサ装置
JPH04290245A (ja) 半導体装置の熱応力測定素子
JP4019966B2 (ja) 圧力センサ装置
JP2018101658A (ja) センサモジュールおよびセンサモジュールの製造方法
Wohlgemuth et al. P1. 14-Miniaturised Ceramic Packages for Piezoresistive Pressure Sensors
JP2004247397A (ja) ワイヤボンディング用構造体

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090317

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090518

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20090522

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20090717

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110131