JPWO2006095733A1 - 非晶質透明導電膜、ターゲット及び非晶質透明導電膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
この非晶質透明導電膜は、弱酸でのエッチング加工性に富み、エッチング残渣のない良好な特性を示すが、その非晶質性のために、導電膜の表面が高抵抗な層を有する薄膜になることが知られている。
その表面の高抵抗層の存在のため、TFT−LCD基板と外部回路を接続するための異方導電フィルム(ACF)や検査用プローブとの間に接触抵抗を発生する等の問題を生じる可能性があった。
1.酸素6配位である金属酸化物を主成分とする非晶質透明導電膜であって、前記非晶質透明導電膜の、X線散乱測定により求められる動径分布関数(RDF)において、原子間距離が0.30nmから0.36nmの間のRDFの最大値をA、原子間距離が0.36nmから0.42nmの間のRDFの最大値をBとした場合に、A/B>1の関係を満たす非晶質透明導電膜。
2.さらに、原子間距離が0.18nmから0.26nmの間のRDFの最大値をCとした場合に、A/C>2.8の関係を満たす1に記載の非晶質透明導電膜。
3.酸素6配位である金属酸化物を主成分とする非晶質透明導電膜であって、X線光電子分光測定(XPS)における前記非晶質透明導電膜の酸素2p軌道に起因する価電子帯ピークと伝導帯電子に起因するピークの間(バンドギャップ間)にピーク成分を含まない非晶質透明導電膜。
5.前記酸化インジウムの非晶質透明導電膜中に占める割合が、70〜95質量%である4に記載の非晶質透明導電膜。
6.前記非晶質透明導電膜が、さらに正三価以上の金属酸化物を含む1〜5のいずれかに記載の非晶質透明導電膜。
8.上記7に記載のターゲットを使用し、スパッタリング系内の水の分圧を1×10−4Pa以下としてスパッタリングする工程を有する、1〜6のいずれかに記載の非晶質透明導電膜の製造方法。
9.酸素6配位である金属酸化物を主成分とするターゲットを用い、スパッタリングして非晶質透明導電膜を成膜する工程と、前記非晶質透明導電膜を大気に接触させる前に、前記非晶質透明導電膜の表面に水素を接触させる工程と、を有する1〜6のいずれかに記載の非晶質透明導電膜の製造方法。
本発明の非晶質透明導電膜は、酸素6配位である金属酸化物を主成分とする。
酸素6配位である金属原子としては、In,Sn,Ga,Ti,V等が挙げられる。これらは、金属原子が八面体の中心に配置し、酸素原子が、八面体の頂点に位置する配位構造をとる。好ましい金属原子としては、In,Snが挙げられる。
非晶質透明導電膜は、上述した金属酸化物の1種単体から形成されていてもよく、また、2種以上から形成されていてもよい。非晶質透明導電膜の非晶安定性を増すために、酸化インジウムと酸化亜鉛を含んで形成されることが好ましい。
正三価以上の金属酸化物としては、Ga、Ge、Sn等の金属酸化物が挙げられる。
尚、上記の金属酸化物以外のものも、導電膜の表面の抵抗層に影響しない範囲で添加することができる。
図1においては、酸素が6配位した金属酸化物を八面体で表現している。隣接する金属原子の配列は、八面体同士が稜を共有する場合(以下、稜共有という:図1においてAと示す)と、頂点を共有する場合(以下、頂点共有という:図1においてBと示す)の2通りが考えられる。この2つの共有形態では、頂点共有より稜共有の方が、金属原子間距離が小さい。金属原子間距離が比較的小さい、稜共有している金属原子同士では、その電子軌道の重なりが大きいため、電気伝導に寄与するキャリア電子が動きやすい。
従って、非晶質透明導電膜において、稜共有で連結している酸素6配位金属原子八面体鎖の割合を多くすることにより、そのキャリア移動度を高くできるため、非晶質透明導電膜の表面に生じる抵抗層の高抵抗化を抑制できる。
図2は、後述する実施例1で作製した非晶質透明導電膜の動径分布関数(RDF)を示す図である。
尚、動径分布関数(RDF)は、X線散乱曲線を解析することによって求めることができる。具体的には、基板上に成膜した非晶質透明導電膜について、微小角入射X線散乱法による測定をし、基板からの散乱を含まない導電膜からの散乱を測定することでX線散乱曲線を得る。そして、この散乱曲線をフーリエ変換することにより動径分布関数(RDF)が得られる。
本発明では、この存在比をA/B>1、好ましくは、さらにA/C>2.8を満たすようにすることによって、電気伝導に寄与するキャリア電子が動きやすくなり、キャリア移動度の高い構造とすることができる。このため、非晶質性であっても、導電膜表面に高抵抗層を有する薄膜とはなりにくく、その結果、ACFや検査用プローブとの接触抵抗を低減できる。
金属酸化物を非晶質成膜する場合、バンドギャップ内にピークを持つ場合が多い。バンドギャップ内ピークは、不安定な構造欠損によるものであり、成膜後に大気中で空気に触れた時に、酸素や水分を吸着するため、特に、導電膜表面において高抵抗な層を形成しやすい。
本発明の非晶質透明導電膜は、X線光電子分光測定(XPS)において、バンドギャップ間にピーク成分を含まないため、非晶質性であっても導電膜表面に高抵抗層を有する薄膜とはなりにくい。
スパッタリングは、本技術分野にて通常使用されているスパッタリング装置を使用して実施できる。
本発明の製造方法においては、スパッタリングターゲットとして、ターゲット中の酸素量が、金属酸化物の化学量論量以下であるものを使用する。ここで、酸素量は、X線光電子分光法で測定した原子比から求めた値である。(ターゲット中の酸素量)と(金属酸化物の化学量論量)との差は、0.003以上であることが好ましく、0.005以上であることがより好ましい。
例えば、酸化インジウム(89.3質量%)及び酸化亜鉛(10.7質量%)からなるスパッタリングターゲットの場合、原子量比[O/(In+Zn+O)]が0.586以下であれば、酸素量は化学量論量以下となる。
このようにすることによって、非晶質透明導電膜中に酸素の欠損ができるため、キャリア電子数を増やすことができる。
水素を接触させる具体的な方法としては、スパッタリング装置のスパッタ室内にて、真空下、基板上に非晶質透明導電膜を成膜した後、基板を大気に曝す前に、水素をスパッタ室に供給する方法が挙げられる。この際、水素は不活性ガス(アルゴン等)と混合して使用してもよい。
処理条件は、特に制限はないが、例えば、処理温度は、150〜300℃程度、処理時間は1分〜60分程度とすればよい。
[実施例]
実施例1
(1)スパッタリングターゲットの作製
原料粉末としては、何れも平均粒径が1μm以下の酸化インジウム粉末、酸化亜鉛粉末を使用した。酸化インジウムが89.3質量%、酸化亜鉛が10.7質量%となるように所定量を秤量、混合した後、樹脂製ポットに入れて水を媒体として湿式ボールミル混合した。
尚、造粒の際の助剤として、ポリビニルアルコールを添加した。尚、ポリアクリル酸やステアリン酸を添加した場合においても同様に問題なく造粒できた。
粉砕・混合は、硬質酸化ジルコンボールを用い、混合時間を20時間とした。その後、混合スラリーを取り出し、濾過、乾燥・造粒した。得られた造粒物を成形型に入れ、冷間静水圧プレスで3ton/cm2の圧力をかけて所定形状に成形して成形体を得た。
その後、空気の流入を停止し、1450℃から1300℃までを10℃/分で降温した。その後、炉内容積0.1m3当たり10リットル/分の割合でアルゴンを流入させ、1300℃で3時間保持した後、放冷した。
また、焼結体中の亜鉛含有量をICP発光分析法で定量分析したところ、原料粉末を混合する際の仕込み組成が維持されていることが確認できた。
これを、インジウム系合金を用いてバッキングプレートに貼り合わせてスパッタリング用ターゲットとした。
得られたスパッタリングターゲットの密度は6.84g/cc、酸素量(原子量比、以下同じ)は、0.578であった。
上記(1)で作製したスパッタリングターゲットをスパッタリング装置に装填し、シリコン基板上に透明導電膜を成膜した。成膜条件は、到達真空度を0.0001Pa以下、成膜温度を150℃とし、スパッタリングガスとして、酸素1体積%、アルゴン99体積%(スパッタ圧0.3Pa)を使用して、透明導電膜の膜厚が150nmとなるように処理時間等を調整した。
この導電膜について、成膜した後、大気に曝す前に、水素9体積%、アルゴン91体積%からなる混合ガスをスパッタリング装置内に導入し、150℃、1時間の条件で処理を行なった。
A.動径分布関数(RDF)
放射光施設SPring−8を使用して得られる放射光から取り出される20keVのエネルギーのX線を用いて、微小角入射X線散乱法によってX線散乱測定を行い、X線散乱曲線を得た。
この散乱曲線をフーリエ変換して動径分布関数(RDF)を得た。
放射光施設SPring−8を使用して得られる放射光から取り出される8keVのエネルギーのX線を用いて、光電子分光測定を行い、スペクトルを得た。ピークの基準は、インジウムの3d5/2を445eVに設定した。
ホール測定装置(RESITEST8340、東陽テクニカ社製)を使用して測定した。
D.接触抵抗
ロレスタ抵抗測定計(三菱化学社製)で測定したときに、オーバーレンジ(2MΩ)にならないものを○とし、それ以外を×とした。
評価結果を表1に示す。
この結果から、原子間距離が0.18nmから0.26nmの間のピークの最大値をC、距離が0.30nmから0.36nmの間のピークの最大値をA、距離が0.36nmから0.42nmの間のピークの最大値をBとした場合、A/C=3.0、A/B=1.2であることがわかった。
また、図3に、実施例1及び後述する比較例1で作製した透明導電膜のX線光電子分光測定のチャートを示す。
この結果から実施例1では、酸素2p軌道に起因する価電子帯ピークと伝導帯電子に起因するピーク間、即ち、バンドギャップ間にピーク成分は存在しないことが確認できた。これは、バンドギャップ間強度が、価電子帯ピークの最高強度の1%以下の強度であることで、ピーク成分無しと判断した。
成膜温度を室温(25℃)とし、成膜後の水素−アルゴン混合ガスを使用した処理をしなかった他は、実施例1と同様にして透明導電膜を成膜し、評価した。評価結果を表1に示す。
酸化インジウム(63.0wt%)、酸化亜鉛(37.0wt%)からなるスパッタリングターゲット(密度:5.66g/cc、酸素量:0.551)を用い、成膜後の水素−アルゴン混合ガスを使用した処理をしなかった他は、実施例1と同様にして透明導電膜を成膜し、評価した。評価結果を表1に示す。
酸化インジウム(97wt%)、酸化セリウム(3wt%)からなるスパッタリングターゲット(密度:6.09g/cc、酸素量:0.593)を用い、成膜後の水素−アルゴン混合ガスを使用した処理をしなかった他は、実施例1と同様にして透明導電膜を成膜し、評価した。評価結果を表1に示す。
酸化インジウム(90wt%)、酸化錫(10wt%)からなるスパッタリングターゲット(密度:7.0g/cc、酸素量:0.609)を用い、到達真空度を0.015Paとした他は、実施例2と同様にして透明導電膜を成膜し、評価した。評価結果を表1に示す。
酸化インジウム(94wt%)、酸化亜鉛(6wt%)からなるスパッタリングターゲット(密度:5.74g/cc、酸素量0.596)を用い、実施例2と同様にして透明導電膜を成膜し、評価した。評価結果を表1に示す。
酸化インジウムのみからなるスパッタリングターゲット(密度:6.87g/cc、酸素量:0.605)を用いた他は、比較例1と同様にして透明導電膜を成膜し、評価した。評価結果を表1に示す。
比較例3で作成した透明導電膜を空気中で250℃、30分間加熱した。加熱処理後の透明導電膜について、実施例1と同様の評価をした。
Claims (9)
- 酸素6配位である金属酸化物を主成分とする非晶質透明導電膜であって、
前記非晶質透明導電膜の、X線散乱測定により求められる動径分布関数(RDF)において、原子間距離が0.30nmから0.36nmの間のRDFの最大値をA、原子間距離が0.36nmから0.42nmの間のRDFの最大値をBとした場合に、A/B>1の関係を満たす非晶質透明導電膜。 - さらに、原子間距離が0.18nmから0.26nmの間のRDFの最大値をCとした場合に、A/C>2.8の関係を満たす請求項1に記載の非晶質透明導電膜。
- 酸素6配位である金属酸化物を主成分とする非晶質透明導電膜であって、
X線光電子分光測定(XPS)における前記非晶質透明導電膜の酸素2p軌道に起因する価電子帯ピークと伝導帯電子に起因するピークの間(バンドギャップ間)にピーク成分を含まない非晶質透明導電膜。 - 前記主成分の酸素6配位である金属酸化物が、酸化インジウムであり、さらに酸化亜鉛を含有する請求項1〜3のいずれかに記載の非晶質透明導電膜。
- 前記酸化インジウムの非晶質透明導電膜中に占める割合が、70〜95質量%である請求項4に記載の非晶質透明導電膜。
- 前記非晶質透明導電膜が、さらに正三価以上の金属酸化物を含む請求項1〜5のいずれかに記載の非晶質透明導電膜。
- 酸素量を金属酸化物の化学量論量以下とした酸素6配位である金属酸化物を主成分とするターゲット。
- 請求項7に記載のターゲットを使用し、
スパッタリング系内の水の分圧を1×10−4Pa以下としてスパッタリングする工程を有する、請求項1〜6のいずれかに記載の非晶質透明導電膜の製造方法。 - 酸素6配位である金属酸化物を主成分とするターゲットを用い、スパッタリングして非晶質透明導電膜を成膜する工程と、
前記非晶質透明導電膜を大気に接触させる前に、前記非晶質透明導電膜の表面に水素を接触させる工程と、
を有する請求項1〜6のいずれかに記載の非晶質透明導電膜の製造方法。
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JP3179287B2 (ja) | 1993-12-28 | 2001-06-25 | 出光興産株式会社 | 導電性透明基材およびその製造方法 |
JPH0950712A (ja) * | 1995-08-07 | 1997-02-18 | Hitachi Ltd | 透明導電膜及びその形成方法 |
JP4187315B2 (ja) * | 1998-08-07 | 2008-11-26 | 帝人株式会社 | 液晶表示用透明導電積層体の製造方法 |
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US6828045B1 (en) * | 2003-06-13 | 2004-12-07 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Organic electroluminescence element and production method thereof |
JP2002170666A (ja) * | 2000-11-29 | 2002-06-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
JP2003016858A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-17 | Sanyo Electric Co Ltd | インジウムスズ酸化膜の製造方法 |
ES2383352T3 (es) * | 2001-07-17 | 2012-06-20 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Diana de pulverización catódica para la deposición de una película conductora transparente |
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