JPWO2006051784A1 - 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ - Google Patents

Abstract

本発明は、反射防止層及び基材樹脂層を少なくとも有し、前記基材樹脂層が熱可塑性樹脂を主たる成分とする、ａ層及びｂ層を少なくとも含んでなり、前記ａ層の曲げ弾性率がｂ層の曲げ弾性率より大きく、かつ前記ａ層が反射防止層側に存在することを特徴とする反射防止フィルム、この反射防止フィルムを偏光子に貼り合わせてなることを特徴とする偏光板、並びにこの偏光板を備えることを特徴とするディスプレイである。本発明によれば、透明樹脂基材上に反射防止層が積層された反射防止フィルムであって、反射防止性能、靭性及び表面硬度のすべての面に優れる反射防止フィルム、この反射防止フィルムを用いた偏光板、及びこの偏光板を備えるディスプレイが提供される。

Description

本発明は、強靭で表面硬度が高い反射防止フィルム、この反射防止フィルムを偏光子に貼り合わせてなる偏光板、及びこの偏光板を備えるディスプレイに関する。

従来から、複数の樹脂を積層することにより、それぞれの樹脂の特徴を生かした多層フィルムを作製することが広く知られている。
例えば、特開平６−２５５０５３号公報には、少なくとも２層以上を有する熱可塑性樹脂シートにおいて、その少なくとも１層が、非晶質ポリオレフィンであることを特徴とする成形用熱可塑性樹脂シート及びその成形体が記載されている。この熱可塑性樹脂シートは、水蒸気バリア性、透明性に優れるとともに、金型との融着性が無く、広い温度範囲で成形が可能であると記載されている。

特開平８−２８１８８２号公報には、ポリスチレン層／アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体層／ポリスチレン層のサンドイッチ状積層体からなるポリスチレン系フィルムが記載されている。この積層フィルムは、安価で、透明性、耐衝撃性に優れ、また縦方向又は横方向の引き裂き強度のバランスがよいフィルムであるとされている。

また、偏光板保護フィルムとして多層フィルムを用いる技術も知られている。例えば、特開２０００−２０６３０３号公報には、トリアセチルセルロースよりも吸湿度が小さい、正の光弾性定数を有する樹脂層と負の光弾性定数を有する樹脂層とが積層され、光弾性定数が特定値よりも小さいことを特徴とする偏光板保護フィルムが記載されている。さらにこの偏光板保護フィルムは、高温高湿の環境に置かれた場合であっても、表示ムラやコントラストの低下が生じないと記載されている。

特開２００２−２４９６００号公報には、中間層の両側に表面層が積層された３層積層体からなり、少なくとも中間層には紫外線吸収剤が配合されており、中間層の紫外線吸収剤濃度が表面層より高く設定されてなる、波長３８０ｎｍ以下の紫外線透過率が４０％以下であるノルボルネン樹脂フィルムが記載されている。また、この樹脂フィルムは、押出成形時に紫外線吸収剤が揮発することによる外観不良が起こらないと記載されている。

一方、透明樹脂基材上に反射防止層が積層された反射防止フィルムが、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等のフラットパネルディスプレイの表面の反射防止用フィルム等として用いられている。そして、このような反射防止フィルムには、優れた反射防止性能に加えて、強靭で表面硬度の高いものが求められている。

しかしながら、上記特許文献に記載された多層フィルムを用いても、強靭で優れた表面硬度を有する反射防止フィルムを得ることはできず、さらなる改良が求められている。

本発明は、上記した従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、透明樹脂基材上に反射防止層が積層された反射防止フィルムであって、反射防止性能、靭性及び表面硬度のすべてに優れる反射防止フィルム、この反射防止フィルムを用いた偏光板、及びこの偏光板を備えるディスプレイを提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく、基材樹脂フィルムに反射防止層を積層する反射防止フィルムについて鋭意研究した結果、曲げ弾性率が相対的に大きい熱可塑性樹脂を含むａ層と、曲げ弾性率が相対的に小さい熱可塑性樹脂を含むｂ層を積層してなる透明樹脂フィルムのａ層上に反射防止層を形成すると、反射防止機能、靭性及び表面硬度のすべての面に優れた反射防止フィルムを得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。

かくして本発明の第１によれば、下記（１）〜（７）の反射防止フィルムが提供される。
（１）反射防止層及び基材樹脂層を少なくとも有し、前記基材樹脂層が熱可塑性樹脂を主たる成分とする、ａ層及びｂ層を少なくとも含んでなり、前記ａ層の曲げ弾性率がｂ層の曲げ弾性率より大きく、かつ前記ａ層が反射防止層側に存在することを特徴とする反射防止フィルム。
（２）前記ａ層の熱可塑性樹脂が、ビニル芳香族重合体、ポリアクリレート重合体、ポリメタクリレート重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体及びその水素化物のいずれかである（１）の反射防止フィルム。
（３）前記ｂ層の熱可塑性樹脂が、脂環式構造含有重合体、セルロース重合体、ポリエステル重合体のいずれかである（１）又は（２）の反射防止フィルム。

（４）前記ａ層とｂ層の曲げ弾性率の差が、０．２ＧＰａ〜２．５ＧＰａである（１）〜（３）のいずれかの反射防止フィルム。
（５）前記ａ層とｂ層の組み合わせが、ａ層／ｂ層で表したとき、ビニル芳香族重合体／脂環式構造含有重合体、ポリアクリレート重合体／脂環式構造含有重合体、ポリメタクリレート重合体／脂環式構造含有重合体のいずれかである（１）〜（４）のいずれかの反射防止フィルム。
（６）前記反射防止層が、屈折率１．４０以下の低屈折率層を含む層であることを特徴とする（１）〜（５）のいずれかの反射防止フィルム。
（７）前記基材樹脂層が、共押出法により得られたものであることを特徴とする（１）〜（６）のいずれかの反射防止フィルム。

本発明の第２によれば、下記（８）の偏光板が提供される。
（８）本発明の反射防止フィルムを偏光子に貼り合わせてなることを特徴とする偏光板。
また本発明の第３によれば、下記（９）のディスプレイが提供される。
（９）本発明の偏光板を備えることを特徴とするディスプレイ。

本発明の反射防止フィルムの基材樹脂層における層構成例を示す図である。 本発明の反射防止フィルムの層構成例を示す図である。 本発明の偏光板の層構成例を示す図である。 本発明のディスプレイ（液晶表示装置）を構成する液晶表示素子の層構成断面図である。 図４に示す液晶表示セルの層構成断面図である。 可とう性評価試験方法を示す図である。

以下、本発明を詳細に説明する。
１）反射防止フィルム
本発明の反射防止フィルムは、反射防止層及び基材樹脂層を少なくとも有し、前記基材樹脂層が熱可塑性樹脂を主たる成分とする、ａ層及びｂ層を少なくとも含んでなり、前記ａ層の曲げ弾性率がｂ層の曲げ弾性率より大きく、かつ前記ａ層が反射防止層側に存在することを特徴とする。

（１）基材樹脂層
本発明の反射防止フィルムの基材樹脂層は、熱可塑性樹脂を主たる成分とする、ａ層及びｂ層を少なくとも含むものである。ここで、「熱可塑性樹脂を主たる成分とする」とは、ａ層及びｂ層を構成する樹脂成分が熱可塑性樹脂であって、所望により配合剤等が含まれていてもよいという意味である。

（ｉ）ａ層
ａ層に含まれる熱可塑性樹脂としては、透明性の高い熱可塑性樹脂であれば、特に制限されない。なかでも、光線透過率が８０％以上、ヘイズが０．５％以下であるものが好ましい。

ａ層に含まれる熱可塑性樹脂の好ましい具体例としては、ビニル芳香族重合体、ポリ（メタ）アクリレート重合体、ポリアクリロニトリル重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体及びその水素化物が挙げられる。これらは１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートの意である。

ビニル芳香族重合体としては、ポリスチレン、スチレン及び／又はスチレン誘導体と、アクリロニトリル、無水マレイン酸、メチルメタクリレート及びブタジエンから選ばれる少なくとも一種との共重合体；スチレンと共役ジエンとの共重合体の水素化物（芳香族環の水素化物を含む）；等が挙げられる。ここで、スチレン誘導体としては、４−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−クロロスチレン、４−メトキシスチレン、４−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン、α−メチルスチレン等が挙げられる。

ポリ（メタ）アクリレート重合体としては、（メタ）アクリル酸エステル化合物の単独重合体、（メタ）アクリル酸エステル化合物の２種以上の共重合体、（メタ）アクリル酸エステル化合物と他の共重合性単量体との共重合体等が挙げられる。ここで、（メタ）アクリル酸エステルとは、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの意である。

（メタ）アクリル酸エステル化合物の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

ポリアクリロニトリル重合体としては、アクリロニトリルの単独重合体、アクリロニトリル、およびアクリロニトリルと共重合可能な単量体との共重合体等が挙げられる。アクリロニトリルと共重合可能な単量体としては、アクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル、スチレン、酢酸ビニル、メタアクリル酸グリシジル、ジビニルベンゼン、ポリエチレングリコール（ｎ＝１〜９）ジメタクリレート等が挙げられる。

ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニルシクロアルカン又はビニルシクロアルケン由来の繰り返し単位を有する重合体である。ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキサン等のビニルシクロアルカン、ビニルシクロヘキセン等のビニルシクロアルケン等のビニル脂環式炭化水素化合物の重合体及びその水素化物；スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素化合物の重合体の芳香環部分の水素化物等が挙げられる。

また、ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニル脂環式炭化水素化合物やビニル芳香族炭化水素化合物と、これらの単量体と共重合可能な他の単量体とのランダム共重合体、ブロック共重合体等の共重合体及びその水素化物であってもよい。ブロック共重合としては、ジブロック、トリブロック、又はそれ以上のマルチブロックや傾斜ブロック共重合等が挙げられるが、特に制限はない。

ａ層の好ましい樹脂としては、ビニル芳香族重合体、ポリ（メタ）アクリレート重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体及びその水素化物が好ましく、ポリスチレン、スチレン・マレイン酸共重合体、ポリメチルメタクリレート、ビニル脂環式炭化水素重合体及びその水素化物がさらに好ましい。

（ii）ｂ層
ｂ層を構成する熱可塑性樹脂としては、透明性の高い熱可塑性樹脂であれば、特に制限されない。なかでも、光線透過率が８０％以上、ヘイズが０．５％以下であるものが好ましい。

ｂ層を構成する樹脂の好ましい具体例としては、脂環式構造含有重合体、セルロース重合体、ポリエステル重合体、ポリカーボネート重合体、ポリスルホン重合体、ポリエーテルスルホン重合体、ビニル芳香族重合体、ポリオレフィン重合体、ポリビニルアルコール重合体、ポリ塩化ビニル重合体、ポリ（メタ）アクリレート重合体が挙げられる。これらの重合体は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。

これらの中でも、透明性に優れること等から、脂環式構造含有重合体；セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース重合体；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル重合体が好ましく、透明性、寸法安定性、軽量性等の観点から、脂環式構造含有重合体、セルローストリアセテート、ポリエチレンテレフタレートがより好ましく、低吸湿性、寸法安定性の観点から脂環式構造含有重合体が特に好ましい。

脂環式構造含有重合体は、重合体の繰り返し単位中に脂環式構造を有するものであり、主鎖中に脂環式構造を有する重合体及び側鎖に脂環式構造を有する重合体のいずれも用いることができる。

脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。脂環式構造を構成する炭素数に特に制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは５〜１５個である。脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲にあると、耐熱性及び柔軟性に優れた基材樹脂フィルムを得ることができる。

脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、通常５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位が過度に少ないと耐熱性が低下し好ましくない。なお、脂環式構造含有重合体における脂環式構造を有する繰り返し単位以外の繰り返し単位は、使用目的に応じて適宜選択される。

脂環式構造含有重合体の具体例としては、ノルボルネン重合体、単環の環状オレフィン重合体、環状共役ジエン重合体、及びこれらの水素化物等が挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン重合体が好ましい。

ノルボルネン重合体としては、具体的には、ノルボルネン単量体の開環重合体、ノルボルネン単量体と開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、及びそれらの水素化物、ノルボルネン単量体の付加重合体、ノルボルネン単量体と付加共重合可能なその他の単量体との付加共重合体等が挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン単量体の開環（共）重合体水素化物が特に好ましい。

ノルボルネン単量体としては、例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１^２，５］デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ［４．３．０．１^２，５］デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、及びこれらの化合物の誘導体（例えば、環に置換基を有するもの）等を挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基等を挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

ノルボルネン単量体と開環共重合可能なその他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のモノ環状オレフィン類及びその誘導体；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン等の環状共役ジエン及びその誘導体；等が挙げられる。

ノルボルネン単量体の開環重合体及びノルボルネン単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との開環共重合体は、単量体を開環重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。
開環重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。

ノルボルネン単量体と付加共重合可能なその他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン等の炭素数２〜２０のα−オレフィン及びこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン等のシクロオレフィン及びこれらの誘導体；１，４−ヘキサジエン等の非共役ジエン等が挙げられる。これらの単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。

ノルボルネン単量体の付加重合体及びノルボルネン単量体とこれと付加共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。付加重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。

ノルボルネン単量体の開環重合体、ノルボルネン単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、ノルボルネン単量体の付加重合体、及びノルボルネン単量体とこれと付加共重合可能なその他の単量体との付加共重合体の水素化物は、公知の水素化触媒を添加し、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは９０％以上水素化することによって得ることができる。

単環の環状オレフィン重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の付加重合体を挙げることができる。
また、環状共役ジエン重合体としては、例えば、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン単量体を１，２−付加重合又は１，４−付加重合した重合体を挙げることができる。

前記ａ層及びｂ層を構成する熱可塑性樹脂の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン）を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリイソプレン（溶媒としてトルエンを用いた場合はポリスチレン）換算の重量平均分子量が、通常１０，０００〜３００，０００、好ましくは１５，０００〜２５０，０００、より好ましくは２０，０００〜２００，０００の範囲である。分子量がこのような範囲にあるときに、基材樹脂層の機械的強度及び成形加工性とが高度にバランスされ好適である。

前記ａ層及びｂ層を構成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００〜２５０℃の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にあるとき、フィルム状の基材樹脂層を製造する場合、高温・高湿度下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れるフィルムを得ることができる。

前記ａ層及びｂ層を構成する熱可塑性樹脂の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は特に制限されないが、通常１．０〜１０．０、好ましくは１．０〜６．０、より好ましくは１．１〜４．０の範囲である。このような範囲に分子量分布を調整することによって、フィルム状の基材樹脂層を製造する場合、機械的強度と成形加工性が良好にバランスされたフィルムを得ることができる。

（曲げ弾性率）
本発明の反射防止フィルムの基材樹脂層は、熱可塑性樹脂を主たる成分とする、ａ層及びｂ層を少なくとも含み、前記ａ層の曲げ弾性率がｂ層の曲げ弾性率より大きいことを特徴とする。

曲げ弾性率は、物体に曲げ荷重をかけた場合の荷重とたわみの比をいい、より詳しくは、規定された２点のひずみをε１、ε２とし、これらに対応する応力をρ１、ρ２とするとき、応力差（ρ２−ρ１）をひずみ差（ε２−ε１）で除した値である。

一般的に強靭なポリマーは曲げ弾性率が小さく、表面硬度の高いポリマーは曲げ弾性率が大きい。本発明は、反射防止フィルムの基材樹脂層として、曲げ弾性率が相対的に大きく表面硬度の高いａ層と、相対的に曲げ弾性率が小さく靭性に優れるｂ層とを組み合わせて形成したものを用い、かつ、前記ａ層をｂ層よりも反射防止層側（視認側）に配置することにより、強靭で、表面硬度が高い反射防止フィルムを提供するものである。

前記ａ層の曲げ弾性率は、ｂ層の曲げ弾性率より相対的に大きいものであればよいが、より強靭で、表面硬度が高い反射防止フィルムを得る上では、ａ層の曲げ弾性率が３ＧＰａ以上、好ましくは３ＧＰａ〜４ＧＰａであり、ｂ層の曲げ弾性率が３ＧＰａ未満、好ましくは０．１ＧＰａ〜３ＧＰａであるのが好ましい。ａ層の曲げ弾性率が４ＧＰａをこえると、不透明または溶融粘度が高くなり、フィルム成形が困難になるおそれがある。また、ｂ層の曲げ弾性率が０．１ＧＰａ未満となると、溶融時の粘度が低くなり、フィルム成形が困難になるおそれがある。

前記ａ層とｂ層の曲げ弾性率の差は、ａ層の曲げ弾性率がｂ層の曲げ弾性率より相対的に大きいものであれば特に制限されないが、好ましくは０．２ＧＰａ〜２．５ＧＰａ、より好ましくは、０．５ＧＰａ〜２．０ＧＰａである。ａ層とｂ層の曲げ弾性率の差があまりに小さいと、得られる反射防止フィルムの強靭性と表面硬度とのバランスが悪くなるおそれがある。一方、曲げ弾性率の差があまりに大きくなると、フィルム成形時に均一な積層フィルムを成膜するのが困難となるおそれがある。

ａ層とｂ層との好ましい組み合わせとしては、透湿性、強靭性及び表面硬度が高度にバランスされることから、ａ層／ｂ層で表して、ビニル芳香族重合体／脂環式構造含有重合体、ポリ（メタ）アクリレート重合体／脂環式構造含有重合体が挙げられる。なかでも、ポリスチレン／脂環式構造含有重合体、スチレン・マレイン酸共重合体／脂環式構造含有重合体、ポリメチルメタクリレート／脂環式構造含有重合体の組み合わせが特に好ましい。

前記基材樹脂層は、少なくともａ層とｂ層を含む積層体であればよいが、前記ｂ層を介してａ層の反対側にｃ層をさらに有するものや、ａ層とｂ層の間に所望によりｘ層を介して積層されたものであってもよい。

前記ｃ層は、反射防止フィルムのカールを防止するために設けられ、ａ層を構成する樹脂とｂ層を構成する樹脂の双方に親和性がある材質のものから形成することができる。例えば、透明性が高く、ａ層とｂ層を構成する樹脂の双方に親和性がある熱可塑性樹脂からなるものが挙げられる。またｃ層は、ａ層又はｂ層と同じ樹脂から形成することもできる。

ｃ層は反射防止フィルムのカールを防止するために設けられるが、その厚みが薄すぎても厚すぎてもカールを防止できない。ｃ層の厚みは、通常５〜１００μｍ、好ましくは１０〜５０μｍである。

前記ｘ層は、ａ層とｂ層を構成する樹脂の双方に親和性のある樹脂から形成することができる。例えば、ポリエステルウレタン樹脂、ポリエーテルウレタン樹脂、ポリイソシアネート樹脂、ポリオレフィン共重合体、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム、これらの重合体に極性基を導入した変性物、等が挙げられる。これらの中で、ポリオレフィン共重合体、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、及びそれらの変性物が好適に用いられる。

ポリオレフィン共重合体としては、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体等のオレフィン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体；エチレンなどのオレフィン及び（メタ）アクリル酸エステルに、さらに他の共重合可能な単量体（プロピレン、マレイン酸、酢酸ビニル等）を共重合した三元共重合体；エチレン−酢酸ビニル共重合体；エチレン−スチレン共重合体；エチレン−（メタ）アクリル酸グリシジルエステル共重合体；等が挙げられる。

また、これらのポリオレフィン共重合体に極性基を導入する方法としては、酸化、ケン化、塩素化、クロルスルホン化、不飽和カルボン酸付加、等が挙げられる。これらの中で、不飽和カルボン酸付加が好ましく用いられる。

主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格又は少なくともその一部に水素添加したポリブタジエン骨格を有する樹脂が挙げられ、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ共重合体）、その水素添加物（ＳＥＢＳ共重合体）等が挙げられる。なかでも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物の変性物が好適である。

これらの重合体の変性物を得るために用いる極性基を導入するための化合物としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸；塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体；等が挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物は、密着性に優れるので、好適に用いることができる。不飽和カルボン酸又はその無水物の中では、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等は、２種以上を混合して用い、変性することもできる。

基材樹脂層を製造する方法は特に制限されず、例えば、（ｉ）ａ層とｂ層とを別々に成膜し、ｘ層を介してドライラミネーションにより積層して積層体とする方法、(ii)共押出法により成膜して積層体を得る方法等が挙げられる。なかでも、層間剥離強度が大きい積層体を得ることができ、かつ、生産効率が優れることから、(ii)の共押出法が好ましい。
共押出法により積層体を得る方法は、具体的には、複数の押出機を用い、ａ層を構成する樹脂材料とｂ層を構成する樹脂材料とを多層ダイから押出すことにより成膜するものである。

また、共押出する場合は、本発明の目的を阻害しない範囲で、配合剤を、ａ層、ｂ層及び／又はｃ層に添加することができる。

用いる配合剤としては特に限定されず、例えば、層状結晶化合物；無機微粒子；酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤；滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤；染料や顔料等の着色剤；帯電防止剤；等が挙げられる。これらの配合剤は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。配合剤の配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜定めることができる。

得られる基材樹脂層全体の厚みは、通常３０〜２００μｍ、好ましくは４０〜１５０μｍ、特に好ましくは５０〜１００μｍである。

また、基材樹脂層に含まれるａ層の厚みは、通常５〜１００μｍ、好ましくは１０〜５０μｍである。ａ層の厚みが５μｍより薄いと表面硬度を高くすることができなくなる。
その一方、厚みが１００μｍより厚くなると、フィルムが脆くなるため好ましくない。

ｂ層の厚みは、通常５〜１００μｍ、好ましくは１０〜５０μｍである。ｂ層の厚みが５μｍより薄いとフィルムが脆くなるため好ましくない。その一方、厚みが１００μｍより厚くなると、フィルムの透明性が低下するおそれがある。また、反射防止フィルム全体の厚みが増加して、ディスプレイの小型化に支障が生じるおそれがある。

基材樹脂層がｘ層を有するとき、ｘ層の厚みは通常０．１〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍ、より好ましくは２〜７μｍである。ｘ層の厚みが２０μｍより厚くなると、表面硬度を高くできなくなるおそれがある。

本発明の反射防止フィルムにおいては、前記基材樹脂層は透湿度が低いことが好ましい。後述するように、偏光子は、空気中の水分を吸収して偏光度が徐々に低下する性質があるので、偏光子に透湿度の低い基材樹脂層を貼り合わせることにより、耐久性に優れる偏光板を得ることができる。
透湿度は、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠した方法で測定することができる。

また基材樹脂層としては、その片面又は両面に表面改質処理が施されたものを用いることもできる。表面改質処理を行うことにより、低屈折率層や後述するその他の層との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。

エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に浸漬し、その後充分に水で洗浄する方法が挙げられる。薬品処理では、浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度等に応じて、処理時間等を調整する必要がある。

基材樹脂層の層構成の具体例を（図１−ａ）〜（図１−ｆ）に示す。（図１−ａ）〜（図１−ｆ）中、１ａはａ層を、１ｂはｂ層を、１ｃはｃ層を、１ｘは接着層（ｘ層）をそれぞれ示す。
（図１−ａ）に示すものは、ａ層−ｂ層の２層構造からなる基材樹脂層（１０Ａ）、（図１−ｂ）に示すものは、ａ層−ｂ層−ａ層の３層構造からなる基材樹脂層（１０Ｂ）、（図１−ｃ）に示すものは、ａ層−ｂ層−ｃ層の３層構造からなる基材樹脂層（１０Ｃ）、（図１−ｄ）に示すものは、ａ層−ｘ層−ｂ層の３層構造からなる基材樹脂層（１０Ｄ）、（図１−ｅ）に示すものは、ａ層−ｘ層−ｂ層−ｘ層−ａ層の５層構造からなる基材樹脂層（１０Ｅ）、また、（図１−ｆ）に示すものは、ａ層−ｘ層−ｂ層−ｘ層−ｃ層の５層構造からなる基材樹脂層（１０Ｆ）である。本発明の反射防止フィルムを構成する基材樹脂層は、（図１−ａ）〜（図１−ｆ）に示すものに限定されず、少なくともａ層とｂ層を有するものであればよい。

これらの中でも、強靭で表面硬度に優れる反射防止フィルムが得られることから、（図１−ｄ）に示すａ層−ｘ層−ｂ層の３層構造からなる基材樹脂層（１０Ｄ）、（図１−ｅ）に示すａ層−ｘ層−ｂ層−ｘ層−ａ層の５層構造からなる基材樹脂層（１０Ｅ）が好ましい。

（２）反射防止層
本発明の反射防止フィルムは、前記基材樹脂層のａ層上に反射防止層が形成されてなる。反射防止層は界面における反射を抑え、光線透過率を向上させる機能を有する層である。反射防止層としては、公知の層構成のものが採用でき、例えば、屈折率が相対的に低い低屈折率層からなるもの、屈折率が相対的に高い高屈折率層と、屈折率が相対的に低い低屈折率層が積層された層からなるもの等が挙げられる。

本発明の反射防止フィルムの反射防止層としては、屈折率が１．４０以下の低屈折率層を含むものが好ましく、屈折率が１．２５〜１．３８である低屈折率層を含むものがより好ましく、屈折率が１．２５〜１．３６である低屈折率層を含むものがさらに好ましい。

低屈折率層の屈折率が１．４０を越えると、所望の反射防止効果が得られなくなるおそれがある。一方、屈折率があまりに小さくなる（１．２５未満）と、低屈折率層の強度が弱く、反射防止フィルムとして求められる所望の機械的強度が得られない。屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。

このような低屈折率層を含む反射防止層としては、例えば、活性エネルギー線硬化型樹脂と無機酸化物粒子とを含み、層全体の屈折率が１．５５以上である高屈折率層と、この高屈折率層上に、屈折率が１．４０以下の低屈折率層とからなる反射防止層、又は屈折率が１．２５〜１．４０であり、かつ、スチールウール試験後の反射率の変動が５０％以内のものである低屈折率層が挙げられる。

屈折率が１．４０以下の低屈折率層は、例えば、無機化合物の中空微粒子を含んでなる組成物（以下、「低屈折率層形成用組成物」ということがある。）を、基材樹脂層（基材樹脂フィルム）又は基材樹脂層（基材樹脂フィルム）上に積層されたその他の層の表面上に塗工し、必要に応じて乾燥・加熱処理を施すことにより形成することができる。なかでも、低屈折率層形成用組成物として、金属酸化物複合体を含有してなるものを用いるのが特に好ましい。

前記金属酸化物複合体としては、下記（ａ）〜（ｃ）からなる群から選ばれる１種以上の化合物から形成されたものであって、分子中に、−（Ｏ−Ｍ）_ｍ−Ｏ−（式中、Ｍは金属原子又は半金属原子を表し、ｍは自然数を表す。）結合を有するものがより好ましい。

（ａ）式（１）：ＭＸ_ｎで表される化合物。
（ｂ）前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物。
（ｃ）前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物。

前記（ａ）の式（１）で表される化合物において、式（１）中、Ｍの金属原子又は半金属原子としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属；マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム等のアルカリ土類金属；ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム等の周期律表第３Ｂ族元素；ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛等の周期律表第４Ｂ族元素；リン、砒素、アンチモン等の周期律表第５Ｂ族元素；スカンジウム、チタン、バナジウム、鉄、ニッケル、銅、亜鉛、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、タングステン等の遷移金属元素；ランタン、セリウム、ネオジム等のランタノイド；等が挙げられる。これらの中でも、周期律表第３Ｂ族元素、周期律表第４Ｂ族元素、遷移金属元素が好ましく、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウムがより好ましく、ケイ素（Ｓｉ）がさらに好ましい。

Ｘは、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；置換基を有していてもよい一価の炭化水素基；酸素原子；酢酸根、硝酸根等の有機酸根；アセチルアセトナート等のβ−ジケトナート基；硝酸根、硫酸根等の無機酸根；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等のアルコキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基；水酸基；オキシム基（−Ｏ−Ｎ＝Ｃ−Ｒ’（Ｒ”））；エノキシ基（−Ｏ−Ｃ（Ｒ’）＝Ｃ（Ｒ”）Ｒ'''）；アミノ基；アミノキシ基（−Ｏ−Ｎ（Ｒ’）Ｒ”）；アミド基（−Ｎ（Ｒ’）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ”）；等が挙げられる。これらの基において、Ｒ’、Ｒ”、Ｒ'''は、それぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基を表す。
また、ｎは前記Ｍ（金属原子又は半金属原子）の原子価を表す。ｎが２以上のとき、Ｘは同一であっても相異なっていてもよい。

これらの中でも、前記式（１）で表される化合物としては、式（２）：Ｒ_ｗＳｉＹ_４−ｗ（式中、Ｒは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、ｗは０〜２の整数を表し、ｗが２のとき、Ｒは同一であっても相異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基を表し、Ｙは同一であっても相異なっていてもよい。）で表されるケイ素化合物が特に好ましい。

置換基を有していてもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、４−メチルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の置換基を有していてもよいアリール基；ビニル基、アリル基等のアルケニル基；ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基等のアラルキル基；クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基等のハロアルキル基；γ−メタクリロキシプロピル基等のアルケニルカルボニルオキシアルキル基；γ−グリシドキシプロピル基、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基等のエポキシ基を有するアルキル基；γ−メルカプトプロピル基等のメルカプト基を有するアルキル基；３−アミノプロピル基等のアミノ基を有するアルキル基；等を例示することができる。これらの中でも、合成の容易性、入手容易性から、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基が好ましい。

Ｙは加水分解性基を表す。ここで、加水分解性基は、所望により酸又は塩基触媒の存在下に加水分解して、−（Ｏ−Ｓｉ）_ｍ−Ｏ−結合を生じせしめる基をいう。

加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基；オキシム基（−Ｏ−Ｎ＝Ｃ−Ｒ’（Ｒ”））；エノキシ基（−Ｏ−Ｃ（Ｒ’）＝Ｃ（Ｒ”）Ｒ'''）；アミノ基；アミノキシ基（−Ｏ−Ｎ（Ｒ’）Ｒ”）；アミド基（−Ｎ（Ｒ’）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ”）等が挙げられる。これらの基において、Ｒ’、Ｒ”、Ｒ'''は前記と同様の意味を表す。これらの中でも、Ｙとしては、入手容易性等からアルコキシ基が好ましい。

前記式（２）で表されるケイ素化合物としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さからアルコキシシラン類がより好ましい。

前記式（２）中、ｗが０であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、ｗが１であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。また、ｗが２であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。

前記式（１）で表される化合物の分子量は特に制限されないが、４０〜３００であるのが好ましく、１００〜２００であるのがより好ましい。

前記（ｂ）の式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物（以下、「化合物（３）」という。）、及び（ｃ）の式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物（以下、「化合物（４）」という。）は、前記式（１）で表される化合物の１種又はそれ以上を、全部又は部分的に加水分解、縮合させることによって得ることができる。

化合物（３）及び化合物（４）は、例えば、Ｍ（Ｏｒ）_４（Ｍは前記と同じ意味を表し、ｒは１価の炭化水素基を表す。）で表される金属テトラアルコキシドを、モル比［Ｈ_２Ｏ］／［Ｏｒ］が１．０以上、例えば１．０〜５．０、好ましくは１．０〜３．０となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。
加水分解は、５〜１００℃の温度で、２〜１００時間、全容を撹拌することにより行うことができる。

前記式（１）で表される化合物を加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒としては、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解生成物及び／あるいは完全加水分解生成物が２次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、及び加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。

用いる酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸；塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸；酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー；を挙げることができる。これらの酸触媒は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。

また、前記酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基触媒を用いてもよい。

化合物（３）及び化合物（４）の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が２００〜５０００の範囲である。

前記低屈折率層形成用組成物は、基材樹脂フィルム又はその他の層に塗布して塗膜を形成すること、また、マトリクス形成材料の少なくとも部分的な加水分解が起こるのが好ましい場合があることから、水又は水と他の有機溶剤との混合物を含むのが好ましい。

用いる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体；ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体；ジアセトンアルコール；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等の親水性有機溶剤が挙げられる。

また、前記親水性有機溶剤と併用して、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；メチルエチルケトオキシム等のオキシム類；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等を使用することができる。

前記低屈折率層形成用組成物は、上記（ａ）及び（ｂ）の化合物を含む場合、硬化触媒を含むのが好ましい。これによって、低屈折率層形成用組成物を基材樹脂フィルム表面に塗布して塗膜を形成して乾燥する際に、縮合反応が促進されて被膜中の架橋密度が高くなり、被膜の耐水性及び耐アルカリ性を向上させることができる効果を得ることができる。

用いる硬化触媒としては、Ｔｉキレート化合物、Ｚｒキレート化合物等の金属キレート化合物；有機酸等が挙げられる。

前記低屈折率層形成用組成物は、公知のシランカップリング剤を更に含んでいてもよい。シランカップリング剤を含むことによって、前記低屈折率層形成用組成物を用いて基材樹脂フィルム上に低屈折率層を形成する場合、基材樹脂フィルムと低屈折率層との間の密着性が向上する場合がある。

基材樹脂フィルム上に低屈折率層形成用組成物を塗工する方法は特に制限されず、公知の塗工法を採用することができる。塗工法としては、ワイヤバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法等が挙げられる。

低屈折率層形成用組成物の塗膜を得た後は、乾燥し、必要に応じて加熱焼成や紫外線照射することにより、低屈折率層を形成することができる。必要に応じて行われる加熱の温度は、通常５０〜２００℃、好ましくは８０〜１５０℃である。
得られる低屈折率層の厚みは、通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは５０〜５００ｎｍである。

本発明の反射防止フィルムにおいては、反射防止層が低屈折率層からなる場合、基材樹脂層と低屈折率層との間にその他の層を介在させることができる。
また、反射防止層が高屈折率層と低屈折率層からなる場合、基材樹脂層と高屈折率層との間、若しくは高屈折率層と低屈折率層との間にその他の層を介在させることができる。

その他の層としては、ハードコート層やプライマー層が挙げられる。
ハードコート層は、基材樹脂層又は高屈折率層（以下、これらを「支持体」ということがある）の表面硬度、耐繰り返し疲労性及び耐擦傷性を補強する目的で形成される。ハードコート層の形成材料としては、ＪＩＳ Ｋ ５４００に規定される鉛筆硬度試験で、「ＨＢ」以上の硬度を示すものであれば特に制限されない。例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系等の有機系ハードコート材料；二酸化ケイ素等の無機系ハードコート材料；等が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系、多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。また、ハードコート層には、無機フィラーが含まれていてもよい。

ハードコート層の形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層形成用塗工液を公知の塗工方法により支持体上に塗工して、紫外線を照射し硬化させて形成する方法が挙げられる。ハードコート層の厚みは特に限定されないが、通常０．５〜３０μｍ、好ましくは３〜１５μｍである。

プライマー層は、支持体と低屈折率層との接着性の付与及び向上を目的として形成される。プライマー層を構成する材料としては、例えば、ポリエステルウレタン樹脂、ポリエーテルウレタン樹脂、ポリイソシアネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム、これらの重合体に極性基を導入した変性物等が挙げられる。これらの中で、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂の変性物及び環化ゴムの変性物を好適に用いることができる。

プライマー層の形成方法は特に制限されず、例えば、プライマー層形成用塗工液を公知の塗工方法により、支持体上に塗工して形成する方法が挙げられる。プライマー層の厚みは特に制限されないが、通常０．０１〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍである。

また、前記支持体、ハードコート層及びプライマー層を構成する樹脂材料には、所望により各種配合剤を添加することができる。配合剤としては、熱可塑性樹脂材料で通常用いられるものであれば格別な制限はなく、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤；ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、金属錯体系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤；ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤；染料や顔料等着色剤；脂肪族アルコールのエステル、多価アルコールのエステル、脂肪酸アミド、無機粒子等滑剤；トリエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸−塩基酸エステル系可塑剤、オキシ酸エステル系可塑剤等の可塑剤；多価アルコールの脂肪酸エステル、導電性無機酸化物微粒子等の帯電防止剤；等が挙げられる。

本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために、低屈折率層上に防汚層をさらに形成することができる。

防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。
具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法；化学的気相成長法；湿式低屈折率層形成法；等を用いることができる。 防汚層の厚みは特に制限はないが、通常２０ｎｍ以下が好ましく、１〜１０ｎｍであるのがより好ましい。

本発明の反射防止フィルムの反射率は、通常１．５％以下、好ましくは１．２％以下、より好ましくは１．０％以下である。スチールウールテスト前後の反射率の変動が小さいものは、機械的強度に優れるということができる。反射率は、例えば、公知の分光光度計を用い、所定の入射角における反射スペクトルを測定し、波長５５０ｎｍにおける反射率として求めることができる。

本発明の反射防止フィルムの層構成例を図２に示す。図２に示す反射防止フィルム２０は、基材樹脂層１０上に形成された高屈折率層１２を有し、該高屈折率層１２上に低屈折率層１４が積層された構造を有している。本発明の反射防止フィルムは図２に示すものに限定されず、例えば、基材樹脂層上に２層以上の高屈折率層を形成し、その上に低屈折率層が形成された構造のものであってもよい。

本発明の反射防止フィルムは、透明性、反射防止性能、靭性及び表面硬度に優れており、フラットパネルの反射防止フィルムとして有用である。より具体的には、携帯電話、デジタル情報端末、ポケットベル（日本の登録商標）、ナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、ＯＡ機器用ディスプレイ、ＡＶ機器用ディスプレイ等の各種液晶表示素子；エレクトロルミネッセンス表示素子、タッチパネル、リアプロジェクションＴＶ、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、電子ペーパー等の反射防止フィルムとして有用である。

２）偏光板
本発明の偏光板は、本発明の反射防止フィルムを、偏光子に貼り合わせてなることを特徴とする。

用いる偏光子としては、偏光子としての機能を有するものであれば、特に限定はされない。例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系やポリエン系の偏光子が挙げられる。

偏光子の製造方法は特に限定されない。ＰＶＡ系の偏光子を製造する方法としては、ＰＶＡ系フィルムにヨウ素イオンを吸着させた後に一軸に延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後にヨウ素イオンを吸着させる方法、ＰＶＡ系フィルムへのヨウ素イオン吸着と一軸延伸とを同時に行う方法、ＰＶＡ系フィルムを二色性染料で染色した後に一軸に延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後に二色性染料で吸着する方法、ＰＶＡ系フィルムへの二色性染料での染色と一軸延伸とを同時に行う方法が挙げられる。
また、ポリエン系の偏光子を製造する方法としては、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後に脱水触媒存在下で加熱・脱水する方法、ポリ塩化ビニル系フィルムを一軸に延伸した後に脱塩酸触媒存在下で加熱・脱水する方法等の公知の方法が挙げられる。

本発明の偏光板は、本発明の反射防止フィルムの反射防止層が設けられていない側の一面に、偏光子を積層することにより製造することができる。

反射防止フィルムと偏光子との積層は、接着剤や粘着剤等の適宜な接着手段を用いて貼り合わせることができる。接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性等の観点から、アクリル系のものの使用が好ましい。

本発明の偏光板においては、偏光子の本発明の反射防止フィルムが積層されていない方の面に、接着剤又は粘着剤層を介して保護層が形成されていてもよい。

前記保護層は、透明性が高く、偏光子を保護する機能を有する層であればよいが、面内のリターデーションムラが小さい層であって、リターデーションムラ（ΔＲ）が±２％以内であるものが好ましい。

フィルム面内のリターデーション（Ｒｅ）は、フィルム面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙとし、フィルムの厚さをｄ（ｎｍ）とすると、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで求めることができる。また、フィルム厚さ方向のリターデーション（Ｒｔｈ）は、フィルム面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙとし、フィルムの厚さ方向の屈折率をｎｚ、フィルムの厚さをｄ（ｎｍ）とすると、Ｒｔｈ＝〔（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ〕×ｄで求めることができる。

屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）は、公知の自動複屈折計を使用してフィルム面内の任意の場所５箇所で５回測定して、それらの測定結果を用いてリターデーション（Ｒｅ、Ｒｔｈ）をそれぞれ算出し、算出結果の平均値をリターデーションの代表値とする。

また、リターデーションムラ（ΔＲ）は、次式（１）又は（２）のいずれかにより求めることができ、以下の式（１）及び（２）により得られるいずれか大きい方の値をΔＲとする。ここで、Ｒはリターデーションの代表値、Ｒｍｉｎはリターデーションの最小値、Ｒｍａｘはリターデーションの最大値をそれぞれ表す。

保護層を構成する樹脂としては、透明性に優れるものが好ましい。例えば、脂環式構造含有重合体、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂が挙げられる。

脂環式構造含有重合体及びセルロース樹脂としては、前記基材樹脂層のｂ層を構成する樹脂として列記したものと同様のものが挙げられる。

ポリカーボネート樹脂は、カーボネート結合を有し、芳香族二価フェノール系化合物とホスゲン、又は炭酸ジエステルとを反応させることにより得られる熱可塑性樹脂である。ここで二価フェノール系化合物としては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジエチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジエチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１−フェニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン等が挙げられる。

また、保護層は複屈折性を有していてもよいし、有していなくてもよい。複屈折性を有する層としては、複屈折による位相差を示すものであれば、特に制約されない。例えば、透明樹脂層を延伸処理等により複屈折性を付与したものや、液晶ポリマーの配向膜、あるいは透明樹脂層の配向膜上等に液晶ポリマー等の異方性材料を配向させたものが挙げられる。これらの中では、透明樹脂層を延伸処理等により複屈折性を付与したものが好ましい。

透明樹脂層に複屈折性を付与する延伸処理は、例えば、自由端又は固定端による一軸延伸処理や二軸延伸処理等の適宜な方式で行うことができる。本発明においては、厚さ方向に配向したフィルムや、その厚さ方向の主屈折率の方向がフィルムの法線方向に対して傾斜したもの等も複屈折性を示す層として用いることができる。

保護層を構成する樹脂としては、透明性、複屈折性、寸法安定性等に優れること等から、脂環式構造含有重合体、セルロース樹脂がより好ましく、脂環式構造含有重合体が特に好ましい。

また、保護層は単一の層からなっていても、複数の層からなる積層体であってもよい。
保護層の総厚みは、通常２０〜３００μｍ、好ましくは４０〜２００μｍである。

本発明の偏光板の一例の層構成断面図を図３に示す。図３に示す偏光板３０は、本発明の反射防止フィルム２０の高屈折率層１２及び低屈折率層１４が設けられていない面側に、接着剤又は粘着剤層１６を介して、偏光子１８が積層され、さらに偏光子１８の他の面側には、接着剤又は粘着剤層１６を介して、保護層１０ａが積層された構造を有している。
本発明の偏光板は、本発明の反射防止フィルムを用いているので、反射防止性能、靭性及び表面硬度のすべての面に優れている。

３）ディスプレイ
本発明のディスプレイは、本発明の偏光板を備えることを特徴とする。本発明のディスプレイの好ましい具体例としては、液晶表示装置等が挙げられる。

本発明の偏光板を備えるディスプレイの一例として、液晶表示装置の中の液晶表示素子の層構成例を図４に示す。図４に示す液晶表示素子は、下から順に、偏光板４０、位相差板５０、液晶セル６０、及び本発明の偏光板３０からなる。偏光板３０は、液晶セル６０上に、図示を省略する接着剤又は粘着剤層を介して、偏光板面と貼り合わせて形成されている。液晶セル６０は、例えば図５に示すように、透明電極７０を備えた電極基板８０の２枚をそれぞれ透明電極７０が対向する状態で所定の間隔をあけて配置するとともに、その間隙に液晶９０を封入することにより作製される。図５中、１００はシールである。

液晶９０の液晶モードは特に限定されない。液晶モードとしては、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、バーチカルアラインメント（ＶＡ）モード、マルチバーチカルアラインメント（ＭＶＡ）モード、コンティニュアスホイールアラインメント（ＣＰＡ）モード、ツィステッドアラインメント（ＴＮ）モード、スーパーツィステッド（ＳＴＮ）モード、ハイブリッドアラインメントネマチック（ＨＡＮ）モード、オプチカルコンペンセイテッドベンド（ＯＣＢ）モード等が挙げられる。

また、図４に示す液晶表示素子は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。

液晶セルの両側に偏光板や光学部材を設ける場合、それらは同じであってもよいし、異なるものであってもよい。液晶表示装置の形成に際しては、例えば輝度向上フィルム、プリズムシート、レンズアレイシート、導光板、光拡散板、バックライト等の適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することができる。

本発明のディスプレイは、優れた反射防止性能と耐擦傷性を有し、生産性に優れる本発明の偏光板を備えるので、優れた表示性能と耐擦傷性とを有し、生産性にも優れている。

次に、実施例及び比較例により本発明をさらに詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例により何ら限定されるものではない。
（１）樹脂材料
樹脂ａ：
ポリメチルメタクリレート（以下、「ＰＭＭＡ」と略記する。商品名：アクリペットＶＨ００１，三菱レーヨン社製）
ポリスチレン（以下、「ＰＳ」と略記する。商品名：トーヨースチロールＧＰ．Ｇ３２０Ｃ，東洋スチレン社製）

樹脂ｂ：
ノルボルネン樹脂（以下、「ＮＢ」と略記する。商品名：ゼオノア１０６０、日本ゼオン社製）
ポリカーボネート樹脂（以下、「ＰＣ」と略記する。商品名：パンライトＫ−１３００Ｙ，帝人化成社製）
トリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」と略記する。厚さ４０μｍ、商品名：ＫＣ４０Ｘ２Ｍ，コニカミノルタ社製）

接着層：
エチレン−酢酸ビニル共重合体（以下、「ＥＶＡ１」と略記する。商品名：ＥＶＡＦＬＥＸ、三井デュポンケミカル社製）
変性エチレン−酢酸ビニル共重合体（以下、「ＥＶＡ２」と略記する。商品名：三菱モディックＡＰ５４３）

（２）曲げ弾性率の測定
基材樹脂層のａ層とｂ層の曲げ弾性率は、ＪＩＳ Ｋ ７１７１に準じて、引っ張り試験機（オートグラフＡＧ−１００ｋＮＩＳ、島津製作所社製）を使用して測定した。
（３）透湿度の測定
透湿度は、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して測定した。

実施例１
（１−１）基材樹脂層を構成する透明フィルム（１Ａ）の製造
ＰＭＭＡを、目開き１０μｍのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置したダブルフライト型５０ｍｍの一軸押出機（スクリュー有効長さＬとスクリュー径Ｄとの比Ｌ／Ｄ＝２８）に装填されたホッパーへ投入し、押出機出口温度２６０℃、押出機のギヤポンプの回転数１２ｒｐｍで溶融樹脂をダイスリップの表面粗さＲａが０．１μｍであるマルチマニホールドダイに供給した。

一方、ＮＢを、目開き１０μｍのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置したダブルフライト型５０ｍｍの一軸押出機（Ｌ／Ｄ＝３０）１台に導入し、押出機出口温度２６０℃、押出機のギヤポンプの回転数６ｒｐｍで溶融樹脂をダイスリップの表面粗さＲａが０．１μｍであるマルチマニホールドダイに供給した。

そして、溶融状態のＰＭＭＡ（ａ層）、ＮＢ（ｂ層）、ＥＶＡ１（接着層＝ｘ層）のそれぞれをマルチホールドダイから２６０℃で吐出させ、１３０℃に温度調整された冷却ロールにキャストし、その後、５０℃に温度調整された冷却ロールに通して、ａ層（２０μｍ）−ｘ層（４μｍ）−ｂ層（３２μｍ）−ｘ層（４μｍ）−ａ層（２０μｍ）の３種５層からなる幅６００ｍｍ、厚さ８０μｍの透明フィルム（１Ａ）を共押出成形により得た。

（１−２）プライマー溶液の調製
無水マレイン酸変性スチレン・ブタジェン・スチレンブロック共重合体の水素添加物（商品名：タフテックＭ１９１３、旭化成社製、メルトインデックス値は２００℃、５ｋｇ荷重で１．０ｇ／１０分、スチレンブロック含量３０重量％、水素添加率８０％以上、無水マレイン酸付加量２％）２部を、キシレン８部とメチルイソブチルケトン４０部の混合溶媒に溶解し、孔径１μｍのポリテトラフルオロエチレン製のフィルターをろ過して、ろ過した溶液のみをプライマー溶液として調製した。

（１−３）ハードコート剤の調製
６官能ウレタンアクリレートオリゴマー（商品名：ＮＫ オリゴ Ｕ−６ＨＡ、新中村化学社製）３０部、ブチルアクリレート４０部、イソボロニルメタクリレート（商品名：ＮＫ エステル １Ｂ、新中村化学社製）３０部、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン１０部をホモジナイザーで混合して紫外線硬化性樹脂組成物からなるハードコート剤を調製した。

（１−４）低屈折率層形成用塗布液の調製
テトラメトキシシランのオリゴマー（商品名：メチルシリケート５１、コルコート社製）と、メタノール、水、０．０１Ｎの塩酸水溶液を質量比２１：３６：２：２で混合し、これを２５℃の高温槽中で２時間撹拌して、重量平均分子量を８５０に調製し、シリコーンレジンを得た。次に、中空シリカ微粒子として中空シリカイソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業社製、固形分２０重量％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ）を前記シリコーンレジンに加え、中空シリカ微粒子／シリコーンレジン（縮合化合物換算）が固形分基準で重量比が８：２となるように配合し、その後、全固形分が１％になるようにメタノールで希釈し、低屈折率層形成用塗布液を調製した。

（１−５）反射防止フィルム（２Ａ）の製造
（１−１）で得た透明フィルム（１Ａ）の両面に、高周波発信機（コロナジェネレータＨＶ０５−２、Ｔａｍｔｅｃ社製）を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍのワイヤー電極で、電極長２４０ｍｍ、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行い、表面張力が０．０７２Ｎ／ｍになるように表面改質して表面改質済み基材樹脂フィルムを得た。

（１−２）で得たプライマー溶液を、表面改質済み基材樹脂フィルムの片面に、乾燥後のプライマー層の膜厚が０．５μｍになるように、ダイコーターを用いて塗布し、８０℃の乾燥炉の中で５分間乾燥させて、プライマー層を有する基材樹脂フィルムを得た。

プライマー層を有する基材樹脂フィルムのプライマー層を有する方の面に、（１−３）で得たハードコート剤を硬化後のハードコート層の膜厚が５μｍになるように、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。次いで８０℃で５分間乾燥させた後、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、ハードコート剤を硬化させ、ハードコート層積層フィルムを得、ロール状に巻き取った。このハードコート層の厚さは５μｍであった。

（１−４）で得た低屈折率層形成用塗布液を１時間放置した後に、得られた積層フィルムの上にワイヤーバーコーターによって塗布して厚さ約１００ｎｍの塗膜を形成し、さらに１時間放置して乾燥した後に、被膜を１２０℃で１０分間酸素雰囲気下で熱処理し、低屈折率層が形成された反射防止フィルム（２Ａ）を得た。

実施例２
実施例１において、樹脂ａとしてＰＭＭＡの代わりにＰＳを使用した以外は実施例１と同様にして、ａ層（２０μｍ）−ｘ層（４μｍ）−ｂ層（５２μｍ）−ｘ層（４μｍ）−ａ層（２０μｍ）の３種５層からなる幅６００ｍｍ、厚さ１００μｍの透明フィルム（１Ｂ）を共押出成形により得た。その後は実施例１と同様にして、反射防止フィルム（２Ｂ）を作製した。

実施例３
実施例１の共押出成形において、３種５層からなる透明フィルムに代えて、ａ層（３０μｍ）−ｘ層（４μｍ）−ｂ層（６６μｍ）の３種３層からなる透明フィルムを得る以外は実施例１と同様にして、幅６００ｍｍ、厚さ１００μｍの透明フィルム（１Ｃ）を得た。その後は実施例１と同様にして、反射防止フィルム（２Ｃ）を得た。

実施例４
実施例１において、樹脂ｂとしてＮＢの代わりにＰＣを使用した以外は実施例１と同様にして、ａ層（２０μｍ）−ｘ層（４μｍ）−ｂ層（３２μｍ）−ｘ層（４μｍ）−ａ層（２０μｍ）の３種５層からなる幅６００ｍｍ、厚さ８０μｍの透明フィルム（１Ｄ）を共押出成形により得た。その後は実施例１と同様にして、反射防止フィルム（２Ｄ）を得た。

実施例５
実施例１において、樹脂ｂとしてＮＢの代わりにＴＡＣを使用した。このＴＡＣフィルムの両面にＥＶＡ２の１０重量％トルエン溶液を、乾燥後の厚さが３μｍになるように塗布した。次に、厚さ２０μｍのＰＭＭＡフィルムをＴＡＣフィルムの両面に圧着ラミネートし、ａ層（２０μｍ）−ｘ層（３μｍ）−ｂ層（４０μｍ）−ｘ層（３μｍ）−ａ層（２０μｍ）の３種５層からなる幅６００ｍｍ、厚さ８６μｍの透明フィルム（１Ｅ）を得た。その後は実施例１と同様にして、反射防止フィルム（２Ｅ）を得た。

比較例１
ＰＭＭＡを単層押出しし、厚みが１００μｍの透明フィルム（１Ｆ）を得、その他は実施例１と同様にして、反射防止フィルム（２Ｆ）を得た。

比較例２
ＮＢからなる単層フィルムで、厚みが１００μｍの透明フィルム（１Ｇ）を用い、その他は実施例１と同様にして、反射防止フィルム（２Ｇ）を得た。

実施例６
（６−１）偏光子の製造
厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルム（商品名：クラレビニロン＃７５００、クラレ社製）をチャック装着し、ヨウ素０．２ｇ／Ｌ、ヨウ化カリウム３０ｇ／Ｌの組成の水溶液に浸漬するとともに、同時に６．０倍に一軸延伸しつつ、５分間に亘ってホウ酸処理を行った。最後に、室温で２４時間乾燥し、偏光子を作製した。偏光度は９９．９９５％であった。

（６−２）保護層を構成する透明フィルム（３）の製造
ノルボルネン樹脂フィルム（商品名：ゼオノアフィルムＺＦ−１４−１００、厚み１００μｍ、日本ゼオン社製）を、同軸二軸延伸機を使用して、オーブン温度（予熱温度、延伸温度、熱固定温度とも）１３６℃、縦延伸倍率１．４１倍、横延伸倍率１．４１倍で同時二軸延伸を行い、厚さ８９μｍの延伸フィルムを得た。得られた延伸フィルムの面内のリターデーション（Ｒｅ）は２０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション（Ｒｔｈ）は３００ｎｍであった。この延伸フィルム（透明フィルム（３））を保護層として用いた。

フィルム面内のリターデーション（Ｒｅ）は次のようにして測定した。
フィルム面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙとし、フィルムの厚さをｄ（ｎｍ）とすると、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで求めた。
また、フィルムの厚さ方向のリターデーション（Ｒｔｈ）は、フィルム面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙとし、フィルムの厚さ方向の屈折率をｎｚとし、フィルムの厚さをｄ（ｎｍ）すると、Ｒｔｈ＝〔（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ〕×ｄで求めた。

屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）は、公知の自動複屈折計を使用してフィルム面内の任意の場所５箇所で５回測定して、それらの測定結果を用いてリターデーション（Ｒｅ、Ｒｔｈ）をそれぞれ算出し、算出結果の平均値をリターデーションの代表値とする。

また、リターデーションムラ（ΔＲ）は、次式（１）又は（２）のいずれかにより求めることができ、以下の式（１）及び（２）により得られるいずれか大きい方の値をΔＲとする。ここで、Ｒはリターデーションの代表値、Ｒｍｉｎはリターデーションの最小値、Ｒｍａｘはリターデーションの最大値をそれぞれ表す。
測定した結果、Ｒｅ、Ｒｔｈのバラツキは、ともに２％以内であった。

（６−３）反射防止フィルム（２Ａ）及び透明フィルム（３）の表面処理
反射防止フィルム（２Ａ）及び透明フィルム（３）の表面に、高周波発信機（コロナジェネレーターＨＶ０５−２、Ｔａｍｔｅｃ社製）を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍのワイヤー電極で、電極長２４０ｍｍ、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行った。

（６−４）偏光板の作製
反射防止フィルム（２Ａ）の表面処理を施した面にアクリル系接着剤（商品名：ＤＰ−８００５クリア、住友スリーエム社製）を介して偏光子を貼り合わせ、また偏光子のもう一方の面にアクリル系接着剤（商品名：ＤＰ−８００５クリア、住友スリーエム社製）を介して、透明フィルム（３）を透明フィルム（３）の表面改質処理を施した面側にして貼り合わせて、偏光板（４Ａ）を作製した。

（６−５）液晶パネルへの偏光板の取りつけ
市販の液晶モニター（ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＶＡモード、ＭＶＡモード、ＩＰＳモードの２０Ｖ型液晶モニターを用いた）から、液晶セルを挟んでいる偏光板及び視野角補償フィルムを剥がし、その代わりに上記で得た偏光板（４Ａ）を貼り合わせて評価用モニターを得た。

実施例７〜１０、比較例３，４
実施例６において、反射防止フィルム（２Ａ）に代えて、反射防止フィルム（２Ｂ）〜（２Ｇ）をそれぞれ用いる以外は、実施例６と同様にして、偏光板（４Ｂ）〜（４Ｇ）をそれぞれ作製した。また、得られた偏光板（４Ｂ）〜（４Ｇ）をそれぞれ貼り合わせて評価用モニターを得た。

靭性及び表面硬度の評価試験
（Ａ）傷つき視認性試験
実施例１〜５、比較例１，２で得られた反射防止フィルムの視認側の表面硬度を、ＪＩＳ Ｋ ５６００に従って、２Ｈの鉛筆を用いて５００ｇ荷重で測定した。測定後の偏光板を液晶パネルに配置した後にディスプレイを白表示にして、斜め４５度の角度で画面を観察した。鉛筆による傷が認められない場合は○、傷が認められる場合には×として評価した。

（Ｂ）可とう性評価試験
実施例１〜５、比較例１，２で得られた反射防止フィルム（２Ａ）〜（２Ｇ）のそれぞれを１ｃｍ×５ｃｍに打ち抜いて、試験フィルムを得た。得られた試験フィルム（１０）を、図６に示すように３ｍｍφのスチール製の棒（２）に巻きつけ、巻きつけたフィルム（１０）が棒（２）のところで折れるか否かをテストした。合計１０回テストを行い、折れなかった回数を可とう性を表す指標とした。

（Ｃ）反射率の測定
実施例１〜５、比較例１，２で得られた反射防止フィルム（２Ａ）〜（２Ｇ）のそれぞれにつき、分光光度計を用い、所定の入射角における反射スペクトルを測定し、波長５５０ｎｍにおける反射率として求めた。

実施例１〜５、比較例１、２で得られた基材樹脂フィルム（１Ａ）〜（１Ｇ）のａ層を構成する樹脂ａ、ｂの種類、ａ層、ｂ層の曲げ弾性率、接着層（ｘ層）を構成する接着樹脂の種類、層構成（厚み）、透湿度を第１表にまとめて示す。また、上記傷つき視認性試験の評価結果、及び可とう性評価試験結果、反射率の測定結果も第１表に示す。

第１表より、曲げ弾性率が相対的に大きいａ層と、曲げ弾性率が相対的に小さいｂ層の積層フィルム（透明フィルム（１Ａ）〜（１Ｅ））が基材樹脂層である反射防止フィルムを備える液晶表示装置（実施例６〜１０）では、傷つき視認性試験、及び可とう性評価試験ともに良好な結果が得られ、強靭で表面硬度が高い偏光板を備えていることが分かった。また、優れた反射防止機能を有していることも分かった。

一方、表面硬度が高いＰＭＭＡのみからなる透明フィルム（１Ｆ）が基材樹脂層である反射防止フィルムを備える液晶表示装置（比較例３）では、傷つき視認性試験の結果は良好であったが、可とう性評価試験の結果が悪く、靭性に劣る偏光板を備えたものであった。また、表面硬度が低いＮＢがのみからなる透明フィルム（１Ｇ）が基材樹脂層である偏光板を備える液晶表示装置（比較例４）では、可とう性評価試験の結果は良好であったが、傷つき視認性試験の結果が悪く、表面硬度が低い偏光板を備えたものであった。

（Ｄ）液晶表示性能の評価試験
市販の液晶モニター（ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＶＡモード、ＭＶＡモード、ＩＰＳモードの２０Ｖ型液晶モニターを用いた）から、液晶セルを挟んでいる偏光板及び視野角補償フィルムのうち、視認側に設置されている、偏光板及び視野角補償フィルムを剥がし取り、それに代えて、実施例６〜１０及び比較例３、４で得た偏光板（３Ａ）〜（３Ｇ）を該液晶セルに設置した。次いで、背景を黒表示で白文字を表示させて、正面から視線を上下左右に移動させ、その際に白文字が読み取れなくなる角度を測定した。
測定結果を第２表に示す。

（Ｅ）色むら評価試験
上記液晶表示性能の評価試験で作製した液晶表示装置を暗表示し、温度６０℃、湿度９０％で３００時間放置した。その後、暗室内で暗表示した表示画面全体を真正面から観察し、以下の指標で評価した。
○：全体的に均一な黒表示になっており、光漏れがない。
△：額縁の上下左右に暗表示の色むらが見られる。
×：額縁の上下左右に光漏れが見られる。
評価結果を第２表に示す。

（Ｆ）輝点欠損評価試験
上記液晶表示性能の評価試験で作製した液晶表示装置を暗表示し、温度６０℃、湿度９０％で３００時間放置し、暗室内で、その表示画面全体を真正面から観察し、輝点の数を数えた。評価結果を第２表に示す。

第２表から、実施例６〜１０の偏光板を使用して得られた液晶表示装置では、比較例３，４の偏光板を使用して得られた液晶表示装置に比して、液晶モードのいかんにかかわらず、視野角特性に優れていた。また、高温・高湿度の環境下に長時間（３００時間）置かれた後であっても、色むらの発生が少なく、輝点欠損も発生しなかった。

一方、比較例３，４の偏光板を使用して得られた液晶表示装置では、実施例の偏光板を使用して得られた液晶表示装置に比して、試験に使用したすべての液晶モードで、視野角特性が同等か劣っていた。また、高温・高湿度の環境下に長時間（３００時間）置かれた後においては、色むらの発生が認められ、輝点欠損の発生も見られた。

本発明によれば、優れた反射防止性能に加えて、強靭で表面硬度が高い反射防止フィルム、この反射防止フィルムを用いた偏光板、及びこの偏光板を備えるディスプレイが提供される。

Claims (9)

1. 反射防止層及び基材樹脂層を少なくとも有し、前記基材樹脂層が熱可塑性樹脂を主たる成分とする、ａ層及びｂ層を少なくとも含んでなり、前記ａ層の曲げ弾性率がｂ層の曲げ弾性率より大きく、かつ前記ａ層が反射防止層側に存在することを特徴とする反射防止フィルム。
2. 前記ａ層の熱可塑性樹脂が、ビニル芳香族重合体、ポリアクリレート重合体、ポリメタクリレート重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体及びその水素化物のいずれかである請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. 前記ｂ層の熱可塑性樹脂が、脂環式構造含有重合体、セルロース重合体、ポリエステル重合体のいずれかである請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
4. 前記ａ層とｂ層の曲げ弾性率の差が、０．２ＧＰａ〜２．５ＧＰａである請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
5. 前記ａ層とｂ層の組み合わせが、ａ層／ｂ層で表したとき、ビニル芳香族重合体／脂環式構造含有重合体、ポリアクリレート重合体／脂環式構造含有重合体、ポリメタクリレート重合体／脂環式構造含有重合体のいずれかである請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
6. 前記反射防止層が、屈折率１．４０以下の低屈折率層を含む層であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
7. 前記基材樹脂層が、共押出法により得られたものであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルムを偏光子に貼り合わせてなることを特徴とする偏光板。
9. 請求項８に記載の偏光板を備えることを特徴とするディスプレイ。
   
   
   

Images