WO2004088370A1 - 偏光板保護フィルム、その製造方法、反射防止機能付偏光板及び光学製品 - Google Patents

偏光板保護フィルム、その製造方法、反射防止機能付偏光板及び光学製品 Download PDF

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protective film
plate protective
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Masanori Yoshiwara
Tetsuya Toyoshima
Yasumasa Yoshitomi
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Zeon Corporation
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Definitions

  • the present invention relates to a polarizing plate protective film in which an antireflection layer is laminated on a base film made of a resin having a small warpage, a small photoelastic coefficient and a low water absorption even under high temperature and high humidity conditions, and a method for producing the same.
  • the present invention relates to a polarizing plate having a bright and anti-reflection function, and an optical product provided with the polarizing plate.
  • liquid crystal display devices have been widely used as display devices for desktop computers, electronic clocks, personal computers, and card processors.
  • a liquid crystal display device usually has a liquid crystal cell configured by enclosing and sealing liquid crystal between two substrates, and a polarizing plate is provided on the surface of the liquid crystal cell, and a reflective plate is provided on the back surface of the liquid crystal cell. It has a structure in which a polarizing plate with an anti-reflection function, on which an anti-reflection layer is laminated, is bonded via an adhesive.
  • the liquid crystal display device is warped, deformed, or distorted due to expansion and contraction due to a change in temperature and humidity of the polarizing plate bonded to the front and back of the liquid crystal cell. Occurs, and the whole is deformed into a propeller-like or irregular shape, which hinders the performance of the display device itself, and it is difficult to obtain a display device that exhibits stable display performance over a long period of time. Was.
  • a polarizing plate having an anti-reflection function is formed on a transparent synthetic resin film by an anti-reflection layer, a PVD (physical vapor deposition) method, a CVD (chemical vapor deposition) method, or the like. This is manufactured by laminating this on a polarizing plate.
  • the present invention has been made in view of the circumstances of the related art, and has a structure in which warping, deformation, distortion, and the like are unlikely to occur even in a high-temperature, high-humidity environment for a long time. It is an object of the present invention to provide a polarizing plate protective film and a method for producing the same, a polarizing plate with an antireflection function, and an optical product provided with the polarizing plate. Disclosure of the invention
  • the present inventors have conducted intensive studies on a polarizing plate protective film having an antireflection layer on at least one surface of a base film made of a resin material in order to solve the above-mentioned problems. Even if the saturated water absorption is lower than the specified value and the film is made of a resin material with little warping even if it is left under high temperature and high humidity for a long time, the entire liquid crystal display may be warped.
  • the present inventors have found that a polarizing plate protective film having a structure that does not easily cause deformation, distortion, and the like can be obtained, and have completed the present invention.
  • a polarizing plate protective film is formed by laminating an antireflection layer directly or through another layer on at least one surface of a base material film made of a resin material.
  • a polarizing plate protective film having a content of 1% or less.
  • the resin material preferably contains an alicyclic structure-containing polymer resin.
  • the antireflection layer is preferably a single-layer film of inorganic oxide or a multilayer film of two or more layers.
  • a polarizing plate having a step of forming an antireflection layer on the surface of a substrate film made of a resin material or on the surface of the other layer of the substrate film on which another layer is formed
  • the present invention provides a method for producing a polarizing plate protective film of the present invention, which is formed.
  • the step of forming the antireflection layer may include the step of forming the antireflection layer on the surface of the substrate film or on the other layer of the substrate film having another layer formed on the surface.
  • An anti-reflection layer is formed by sequentially laminating a plurality of inorganic oxide thin films on the surface of the substrate, wherein the substrate film or the substrate film on which the other layer is formed on the surface is formed of an inorganic material.
  • a plurality of film forming chambers each having a film forming means for forming an oxide thin film are sequentially passed through, and the film forming means of each film forming chamber forms a substrate on the surface of the base film or on which the other layer is formed.
  • a step of sequentially laminating a plurality of inorganic oxide thin films on the surface of the other layer of the material film is performed.
  • Construction Preferably a film made of a resin material containing organic polymer resins.
  • a polarizing plate is laminated on one surface of the base film of the polarizing plate protective film of the present invention on which the antireflection layer is not provided. A polarizing plate with an antireflection function is provided.
  • an optical product comprising the polarizing plate with an antireflection function of the present invention.
  • FIG. 1 is a view showing a method for measuring a warp rate of a resin material constituting a base film.
  • FIG. 2 is a conceptual diagram of continuously producing the polarizing plate protective film of the present invention using a film forming apparatus.
  • FIG. 3 is a schematic view showing another embodiment of an apparatus for forming an anti-reflection layer.
  • FIG. 4 is a sectional view of a layer structure of the polarizing plate protective film of the present invention.
  • FIG. 5 is a sectional view of a layer structure of a polarizing plate with an antireflection function of the present invention.
  • FIG. 6 is a sectional view of a layer structure in which a polarizing plate with an antireflection function of the present invention is bonded to a liquid crystal display cell.
  • FIG. 5 is a sectional view of a layer structure of the liquid crystal display cell shown in FIG. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • the polarizing plate protective film of the present invention is a polarizing plate protective film in which an antireflection layer is laminated directly or via another layer on at least one surface of a base material film made of a resin material.
  • a film satisfying the following requirements (a) to (d) is used as the base film.
  • the saturated water absorption is less than 0.05%.
  • the film was formed into a film with a thickness of 50 ⁇ and a size of 100 mm ⁇ 100 mm, and the warp rate when left in an atmosphere at 60 ° C and 95% humidity for 500 hours was as follows.
  • a base film satisfying these requirements of 1% or less it is possible to obtain a polarizing plate protective film having a structure in which warpage, deformation, distortion, and the like hardly occur in the entire liquid crystal display.
  • the resin contained in the resin material is not particularly limited as long as it has transparency.
  • alicyclic structure-containing polymer resin polycarbonate polymer resin, polyester polymer resin, polysulfone polymer resin, polyethersulfone polymer resin, polystyrene polymer resin, polyolefin polymer resin
  • examples thereof include a polyvinyl alcohol-based polymer resin, a cellulose acetate-based polymer resin, a polyvinyl chloride-based polymer resin, and a polymethacrylate-based polymer resin.
  • an alicyclic structure-containing polymer resin is preferred because of its low photoelastic coefficient and water absorption.
  • the alicyclic structure-containing polymer resin has an alicyclic structure in a repeating unit of the polymer resin, and includes a polymer resin having an alicyclic structure in a main chain and an alicyclic structure in a side chain. And a polymer resin having a structure.
  • Examples of the alicyclic structure include a cycloalkane structure and a cycloalkene structure, and a cycloalkane structure is preferred from the viewpoint of thermal stability and the like.
  • the number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is not particularly limited, but is usually 4 to 30, preferably 5 to 20, and more preferably 6 to 15 carbon atoms. When the number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is in this range, a stretched film having excellent heat resistance and flexibility can be obtained.
  • the proportion of the repeating unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer resin may be appropriately selected according to the purpose of use, but is usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more.
  • the repeating unit other than the repeating unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer resin is appropriately selected depending on the purpose of use.
  • Specific examples of the alicyclic structure-containing polymer resin include (i) a norpolene-based polymer, (ii) a monocyclic cyclic olefin polymer, (iii) a cyclic conjugated gen-based polymer, and (iv) a bullet alicyclic. Hydrocarbon polymers; and hydrides of (i) to (iv). Among these, hydrides of norbornene-based polymers, vinyl alicyclic hydrocarbon polymers and hydrides thereof are preferable because of excellent heat resistance and mechanical strength, and hydrides of norbornene-based polymers are more preferable. .
  • the norbornene-based polymer used in the present invention is mainly composed of norbornene-based monomers such as norbornene and its derivatives, tetracyclododecene and its derivatives, dicyclopentadiene and its derivatives, methanotetrahydridofluorene and its derivatives. It is a polymer of the following monomer.
  • the norbornene-based polymer examples include (a) a ring-opening polymer of a norbornene-based monomer, and (b) a ring-opening copolymer of a norbornene-based monomer and another monomer copolymerizable therewith. (C) an addition polymer of a norbornene-based monomer, (d) an addition polymer of a norbornene-based monomer and another monomer copolymerizable therewith, and (a) to (d) Hydride and the like.
  • norbornene-based monomer examples include, for example, Bisik [2.2.1] hept-12-ene (common name: norbornene), tricyclo [4. 3. 0. I 2 ' 5 ] Jen (common name: dicyclopentadiene), 7, 8_ benzo tricyclo [4.3.1 0.1 2 '5]
  • Deka 3- E emissions common name: Metanotetorahi Dorofuruo Ren
  • tetracyclo [4.4. 0.1 2 '. 5 1 7' 1 0]
  • Dodeka 3- E emissions trivial name: tetracyclododecene
  • derivatives of these compounds e.g., ring those having a substituent
  • examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group and the like. Further, a plurality of these substituents may be the same or different and may be bonded to a ring.
  • the norponene-based monomers can be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of other monomers capable of ring-opening copolymerization with norbornene-based monomers include monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene and cyclootaten, and the like. And cyclic derivatives such as cyclohexadiene and cyclohexadiene, and derivatives thereof.
  • Ring-opening polymers of norbornene-based monomers and ring-opening copolymers of norbornene-based monomers and other monomers copolymerizable therewith are prepared by subjecting the monomers to a ring-opening polymerization catalyst. It can be obtained by polymerization.
  • a ring-opening polymerization catalyst a commonly used known one can be used.
  • the monomers For addition polymers of norbornene-based monomers and addition copolymers of norbornene-based monomers and other copolymerizable monomers, the monomers must be polymerized in the presence of an addition polymerization catalyst. Can be obtained by As the addition polymerization catalyst, a commonly used known one can be used.
  • monomers that can be addition-copolymerized with norbornene-based monomers include, for example, ⁇ -olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene and propylene and derivatives thereof; cycloolefins such as cyclobutene and cyclopentene And non-conjugated diene such as 1,4-hexadiene and the like. These monomers can be used alone or in combination of two or more. Of these, hyolefins are preferred, and ethylene is more preferred.
  • Examples of the monocyclic cyclic olefin polymer include addition polymers such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene.
  • cyclic conjugated polymer examples include, for example, a polymer obtained by subjecting a cyclic conjugated monomer such as cyclopentadiene or cyclohexadiene to 1,2-addition polymerization or 1,4-addition polymerization. be able to.
  • the Bull alicyclic hydrocarbon polymer is a polymer having a repeating unit derived from a vinyl alkene or a alkene.
  • vinyl alicyclic hydrocarbon polymers include, for example, polymers of vulcycloalkanes such as vulcyclohexane, vinyl alicyclic hydrocarbon compounds such as vinylcyclohexenes such as vinylcyclohexene, and the like. Hydrides; hydrides of aromatic portions of polymers of butyl aromatic hydrocarbon compounds such as styrene and ⁇ -methylstyrene;
  • vinyl alicyclic hydrocarbon polymers include vinyl alicyclic hydrocarbon compounds and vinyl. Copolymers such as random copolymers and block copolymers of aromatic hydrocarbon compounds with other monomers copolymerizable with these monomers, and hydrides thereof may be used.
  • the block copolymer includes jib block, triblock or multiblock block / inclined block block copolymer, but is not particularly limited.
  • the molecular weight of the alicyclic structure-containing polymer resin is determined by gel permeation using cyclohexane (toluene if the polymer resin does not dissolve) as a solvent. Polyisoprene or polystyrene equivalent as measured by chromatography. Weight average molecular weight S, usually between 10,000 and 300,000, preferably between 15,000 and 250,000, more preferably between 20,000 and 200,000, the mechanical strength of the film This is highly balanced with the moldability and the formability.
  • a ring-opening polymer of a norbornene-based monomer, a ring-opening copolymer of a norbornene-based monomer and another monomer capable of ring-opening copolymerization, an addition polymer of a norbornene-based monomer, and A hydride of an addition polymer of a norbornene-based monomer and another monomer copolymerizable with the norbornene-based monomer may be added with a known hydrogenation catalyst to hydrogenate carbon-carbon unsaturated bonds, preferably 90% or more. Can be obtained.
  • the glass transition temperature of the resin material may be appropriately selected depending on the purpose of use, but is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 to 250 ° C.
  • a substrate film made of a resin material having a glass transition temperature in such a range does not generate deformation or stress when used under high temperature and high humidity, and has excellent durability.
  • the molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn)) of the resin material is not particularly limited, it is usually 1.0 to 10.0, preferably 1.0 to 6.0, and more preferably 1 to 10.0.
  • the range is from 1 to 4.0. By adjusting the molecular weight distribution in such a range, the mechanical strength and the formability of the film are improved.
  • the base film used in the present invention has an average thickness of 50 ⁇ and a size of l O OmmX IO 0 mm. Formed from a resin material that has a warpage of 1% or less, and preferably 0.8% or less when left in an atmosphere of 60 ° C and 95% humidity for 500 hours.
  • the substrate film used in the present invention has a predetermined shape. Even if it is molded into a rug and left for a long time under high humidity and high temperature, the warpage ratio is as small as 1% or less, so that it adheres to the anti-reflective layer and when it is bonded to other films. Excellent workability.
  • the warpage rate can be specifically determined as follows. First, using the same resin material as the base film, a film molded product 1 having an average thickness of 50 m and a size of 10 Omm X 10 Omm is prepared. Next, this is left for 500 hours in an atmosphere of 60 ° C and a humidity of 95%. Next, as shown in Fig. 1, the film molded product 1 after the test was placed on a horizontal platen 2, and the distance h (mm) from the platen surface to the lower side of the part farthest from the platen surface was measured. Measure with a vernier caliper, and determine the ratio of the distance to the length (10 O mm) of the film molded product as the warpage rate (%).
  • warpage ratio (%) hZl0X100.
  • compounding agents can be added to the resin material as desired. There are no particular restrictions on the compounding agent as long as it is commonly used in thermoplastic resin materials. For example, oxidation of phenol-based antioxidants, phosphoric acid-based antioxidants, zeo-based antioxidants, etc.
  • UV absorbers such as benzotriazole-based UV absorbers, benzoate-based UV absorbers, benzophenone-based UV absorbers, acrylate-based UV absorbers, metal complex-based UV absorbers, etc .
  • light such as hindered amine-based light stabilizers Stabilizers
  • coloring agents such as dyes and pigments
  • fatty alcohol esters, polyhydric alcohol esters, fatty acid amides, lubricants such as inorganic particles
  • Plasticizers such as plasticizers and oxyester plasticizers
  • antistatic agents such as fatty acid esters of polyhydric alcohols; and the like.
  • the melt flow rate of the resin material used in the present invention is a melt flow rate at 280 ° C. and 2.16 kgf load amount%, usually 1 to 100 g / 10 minutes, preferably 2 to 5 g. 0 g / 10 minutes, more preferably 3 to 40 g Z10 minutes. Menoletov mouth If one rate is less than 1 g 10 minutes, the workability during molding is poor, and if it is more than 100 g / 10 minutes, thickness unevenness occurs at the time of sheet molding.
  • Base film for use in the present invention is characterized in that the photoelastic coefficient 9 X 1 0- 1 2 P a- 1 less than, and preferably less than 7 X 1 0- 1 2 P a- 1.
  • photoelastic coefficient is of 9 X 1 0 one 1 and less than 2 P a- 1, optical distortion is unlikely to occur by an external stress, the phase difference by slight stress changes It does not develop or change.
  • the photoelastic coefficient is also referred to as a piezo optical coefficient, is a material constant that describes the magnitude of the piezo optical effect (photoelastic effect), and can be measured using an ellipsometer.
  • the photoelastic coefficient is a value indicating the degree of optical distortion with respect to an external stress. The smaller the value, the better the optically good as a protective film for a polarizing plate.
  • the substrate film used in the present invention has a saturated water absorption of less than 0.05% by weight, preferably less than 0.03% by weight. Since the base film used in the present invention has a small saturated water absorption of less than 0.05% by weight, when the antireflection layer is formed, water is released to deteriorate the quality and the productivity is reduced. Does not decrease. Further, the base film does not expand and contract due to moisture absorption due to long-term use, and the antireflection layer does not peel off from the base film.
  • the saturated water absorption of the base film is 23 according to ASTM D530. It can be determined by immersing in C for one week and measuring the weight gain.
  • the base film used in the present invention preferably has a volatile component content of 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less.
  • a volatile component content of 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less.
  • the volatile component is a substance having a molecular weight of 200 or less contained in a trace amount in the base film, and examples thereof include a residual monomer and a solvent.
  • the content of volatile components can be determined by analyzing the base film by gas chromatography as the total of substances having a molecular weight of 200 or less contained in the alicyclic structure-containing polymer resin. .
  • the substrate film used in the present invention can be obtained by molding the above resin material into a film by a known molding method and adjusting the photoelastic coefficient, the saturated water absorption, and the content of the volatile component.
  • Examples of a method for forming the resin material into a film include a solution casting method and a melt extrusion molding method. Among them, the melt extrusion molding method is preferable because the content of volatile matter generated in the base film and the thickness unevenness can be reduced. Examples of the melt extrusion molding method include a method using a die such as a T die and an inflation method, but a method using a T die is preferable in terms of excellent productivity and thickness accuracy.
  • the melting temperature of the resin material in an extruder having a T die is 80 to 180 ° C. higher than the glass transition temperature of the resin material. The temperature is preferably set to 100 ° C.
  • the resin material to be used is preliminarily dried before being formed into a film. Preliminary drying is performed, for example, in the form of pellets using a hot air dryer. The drying temperature is preferably 100 ° C. or more, and the drying time is preferably 2 hours or more. By performing the preliminary drying, the amount of volatile components in the film can be reduced, and foaming of the resin material to be extruded can be prevented.
  • a preferred method of manufacturing the base film used in the present invention is to make the molten resin material extruded from the extruder circumscribe the first cooling drum, the second cooling drum, and the third cooling drum in order.
  • the ratio R 3 ZR 2 of the peripheral speed R 3 of the third cooling drum is less than 0.999, and 0.99 or more. If the value of R 3 / R 2 is excessively large, the resin material is stretched, and the obtained base film tends to be warped or uneven in thickness.
  • the ratio R 2 of the peripheral speed R 2 of the second cooling drum to the peripheral speed of the first cooling drum is preferable to be less than 1.01, 0.99 or more, and 1.90. More preferably, it is set to be less than 0.000 and 0.995 or more.
  • R 2 the molecular orientation of the obtained film becomes particularly small, which can reduce the heat shrinkage. Further, it is possible to further prevent the occurrence of a winding jig.
  • the temperature difference between the first cooling drum and the second cooling drum is 20 ° C. or less.
  • the base film used in the present invention one having one or both surfaces subjected to a surface modification treatment may be used.
  • the surface modification treatment By performing the surface modification treatment, the adhesion to the hard coat layer can be improved.
  • the surface modification treatment include energy beam irradiation treatment and chemical treatment.
  • Examples of the energy beam irradiation treatment include a corona discharge treatment, a plasma treatment, an electron beam irradiation treatment, and an ultraviolet irradiation treatment. From the viewpoint of treatment efficiency and the like, a corona discharge treatment and a plasma treatment are preferred, and a corona discharge treatment is particularly preferred.
  • the chemical treatment it may be immersed in an aqueous solution of an oxidizing agent such as a potassium dichromate solution or concentrated sulfuric acid, and then sufficiently washed with water. Shaking while immersed is effective, but when treated for a long period of time, the surface may dissolve or transparency may decrease. Therefore, it is necessary to adjust the treatment time according to the reactivity and concentration of the chemical used.
  • an oxidizing agent such as a potassium dichromate solution or concentrated sulfuric acid
  • the thickness of the substrate film is preferably from 30 to 300 Mm, more preferably from 40 to 200 ⁇ , from the viewpoint of mechanical strength and the like.
  • the polarizing plate protective film of the present invention is obtained by laminating an antireflection layer directly or via another layer on the base film.
  • the anti-reflection layer is a portion having a substantial anti-reflection function, and may have a single-layer structure or a multi-layer structure.
  • A. VAS I CEK, “ ⁇ I CS OF THI NFI LMS”, pp. 159-283 [North Holland Clarz Singka, Amsterdam (1960): NORTH-HOLLAND PUBL I SHING COMPANY, AMSTERDAM (1960)]
  • JP-A-58-46301, JP-A-59-49501, JP-A-59-50401, JP-A-1-294709, and JP-B-6-5324 And those having a structure.
  • the layer structure of the antireflection layer is preferably a single layer film of an inorganic oxide or a multilayer film of two or more layers, and a thin film having a relatively low refractive index and a relatively high refractive index. More preferably, it is a composite multilayer film of two or more layers made of different kinds of inorganic oxides, which are alternately laminated with the above thin films. In such a composite multilayer film, the thickness and refractive index of each layer are described in, for example, “OPT I CS OF
  • THIN FI LMS can be set according to known techniques.
  • An inorganic substance can be used for forming the antireflection layer.
  • inorganic oxides L i F, Na F , M g F 2, 3 N a F / a 1 F 3, B a F 2, Ca F 2, S r F 2, LaF 2, a l F 3, Na 3 inorganic fluoride such as a 1 F 6; Inorganic halides; etc .; You.
  • a material having a known refractive index it is also possible to use a material in which ultrafine particles are dispersed in a matrix material such as a resin to make the refractive index variable and adjusted to a desired refractive index value.
  • candidates for the fine particles to be dispersed in the matrix material include inorganic fluorides such as magnesium fluoride, silica-based fine particles, and minute holes made of a gas such as vacuum, air, or nitrogen. From the viewpoint of obtaining a low refractive index material, it is preferable to use silica-based hollow fine particles dispersed in a matrix.
  • Means for forming these fine particle-containing layers include a method of applying and drying a coating composition obtained by dispersing in a matrix forming material.
  • the thickness of the antireflection layer is usually from 0.11 to 50; um, preferably from 0.1 to 30 / ⁇ m, and more preferably from 0.5 to 20; zm.
  • the thickness is less than 0.01 ⁇ m, the antireflection effect cannot be exhibited, and when the thickness exceeds 50 ⁇ m, the thickness of the coating film tends to be uneven, and the appearance and the like are unfavorably deteriorated.
  • another layer can be interposed between the base film and the antireflection layer.
  • Other layers include a primer layer and a hard coat layer.
  • the primer layer is formed for the purpose of imparting and improving the adhesion between the base film and the antireflection layer.
  • the material constituting the primer layer include polyester urethane resin, polyether urethane resin, polyisocyanate resin, polyolefin resin, resin having a hydrocarbon skeleton and / or polybutadiene skeleton in the main chain, and polyamide resin.
  • a modified resin and a modified cyclized rubber having a hydrocarbon skeleton and / or a polyptadene skeleton in the main chain are preferable.
  • resins having a hydrocarbon skeleton and / or polybutadiene skeleton in the main chain include: A resin having a butadiene skeleton or a skeleton obtained by hydrogenating at least a part thereof, specifically, polybutadiene resin, hydrogenated polybutadiene resin, styrene 'butadiene' styrene block copolymer (SBS copolymer) and hydrogenation thereof (SEBS copolymer).
  • SBS copolymer styrene 'butadiene' styrene block copolymer
  • SEBS copolymer hydrogenation thereof
  • a hydrogenated modified styrene / butadiene / styrene block copolymer is preferred.
  • carboxylic acid or a derivative thereof is preferable.
  • unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, and fumaric acid; maleyl chloride, maleimide, maleic anhydride, citraconic anhydride And derivatives thereof such as halides, amides, imides, anhydrides and esters of unsaturated carboxylic acids; and unsaturated carboxylic acids or unsaturated carboxylic acids because of their excellent adhesion.
  • a modified product with an anhydride is preferable, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride are more preferable, and maleic acid and maleic anhydride are particularly preferable.
  • the method for forming the primer layer is not particularly limited.
  • a coating solution for forming a primer layer may be prepared by a known coating method.
  • the thickness of the primer layer is not particularly limited, but is usually 0.01 to 5 ⁇ , preferably 0.1 to 2 ⁇ .
  • the hard coat layer is formed for the purpose of reinforcing the surface hardness, the repetitive fatigue resistance and the abrasion resistance of the base film.
  • the material for forming the hard coat layer include organic hard coat materials such as organic silicone, melamine, epoxy, and acrylic; and inorganic hard coat materials such as silicon dioxide. Among them, the use of a polyfunctional acrylate-based hard coat material is preferred from the viewpoints of good adhesive strength and excellent productivity.
  • the method for forming the hard coat layer is not particularly limited. For example, a method in which a coating liquid for forming a hard coat layer is coated on a base film by a known coating method, and is irradiated with ultraviolet rays to be cured and formed. Is mentioned.
  • the thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is usually 0.5 to 30 ⁇ , preferably 3 to 15 ⁇ m.
  • the polarizing plate protective film of the present invention in order to protect the antireflection layer and enhance the antireflection performance, it is preferable that the polarizing plate protective film further has an antireflection layer on the antireflection layer.
  • the material constituting the antifouling layer is not particularly limited as long as the function of the antireflection layer is not hindered and the required performance as the antifouling layer is satisfied.
  • a compound having a hydrophobic group can be preferably used.
  • perfluoroalkylsilane compounds, perfluoropolyethersilane compounds, and fluorine-containing silicone compounds can be used.
  • the antifouling layer can be formed by, for example, a physical vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering, a chemical vapor deposition method such as CVD, or a wet coating method, depending on the material to be formed.
  • the thickness of the antifouling layer is not particularly limited, but is usually preferably 2 O nm or less, more preferably 1 to 10 nm.
  • the polarizing plate protective film of the present invention has excellent gas barrier properties, and when bonded to a polarizing plate, can prevent the performance of the polarizing plate from deteriorating due to the transmission of water vapor or oxygen. Gasparability can be evaluated by oxygen permeability and water vapor permeability.
  • the polarizing plate protective film of the present invention has an oxygen permeability measured at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH of 2.5 cm 3 / m 2 / day / atm or less, and a temperature of 38 ° (: humidity of 100%).
  • % preferably has a water vapor permeability 2. below 5 g / m 2 / ⁇ ay / a tm measured in RH, the oxygen permeability 2.
  • the water vapor transmission rate is 2.0 g / m 2 / day / atm or less.
  • the oxygen transmission rate and the water vapor transmission rate are known oxygen gas transmission rate measuring apparatuses and known water vapor transmission rate measuring apparatuses. Can be measured.
  • the polarizing plate protective film of the present invention includes, for example, a mobile phone, a digital information terminal, a bottle bell (registered trademark), a navigation, an in-vehicle liquid crystal display, a liquid crystal monitor, a light control panel, a display for OA equipment, and a display for AV equipment. It is useful as a protective film for a polarizing plate such as a liquid crystal display device, a select-port luminescence display device, or a touch panel.
  • the method for producing a polarizing plate protective film according to the present invention includes a method for producing a polarizing plate on a surface of a substrate film made of a resin material, or on a surface of another layer of a substrate film on which another layer is formed.
  • the step of forming the anti-reflection layer may be performed by using the other layer of the base finolem having another layer formed on or on the surface of the base film.
  • An anti-reflection layer is formed by sequentially laminating a plurality of inorganic oxide thin films on the surface, wherein the base film or the base film on which another layer is formed on the surface is made of an inorganic material.
  • a plurality of film forming chambers having film forming means for forming an oxide thin film are sequentially passed through, and the film forming means in each film forming chamber forms a substrate on the surface of the base film or on which another layer is formed.
  • the step is a step of sequentially laminating a plurality of inorganic acid thin films on the surface of the other layer of the material film.
  • Method for manufacturing a polarizing plate protective film of the present invention the photoelastic coefficient of 9 X 1 0- 1 2 P a one less than 1, the saturated water absorption is less than zero. 0 5% and the average thickness of the resin material 5 Formed into a film with a size of 0 im and a size of 100 mm x 100 mm and having a warp rate of 1% or less when left for 500 hours in an atmosphere of 60 ° C and 95% humidity. Since a material film is used, there is no need to provide a drying step before forming an anti-reflection layer as in the related art.
  • a polarizing plate protective film can be continuously produced by continuously forming a primer layer, a hard coat layer, an antireflection layer, and an antifouling layer from a base film.
  • This continuous production method can be carried out, for example, using a film forming apparatus shown in FIG.
  • the film forming apparatus shown in FIG. 2 comprises a primer layer forming section 4, a hard coat layer forming section 5, an antireflection layer forming section 6, and an antifouling layer forming section 7.
  • the antireflection layer forming section 6 includes four film forming chambers (6a to 6d) each having a film forming means for forming an inorganic oxide thin film.
  • This film forming apparatus is a continuous apparatus for continuously forming a primer layer, a hard coat layer, an antireflection layer composed of four layers, and an antifouling layer on a base film.
  • a primer layer is formed on a long base film 3 wound up in a roll.
  • a primer layer and a hard coat layer are sequentially formed.
  • the forming material and forming method of the primer layer and the hard coat layer are as described above.
  • the film is sequentially passed through the four film forming chambers (6a to 6d) of the antireflection layer forming section 6, and the film forming means of each film forming chamber forms the hard coat layer of the base film.
  • An anti-reflection layer consisting of a total of four layers is formed by sequentially laminating a plurality of thin films on the surface.
  • the means for forming the anti-reflection layer is not particularly limited, and a known film forming means can be adopted. However, when an inorganic oxide thin film is formed, an ion plating method, a sputtering method, or a vacuum evaporation method is used. It is preferable to use any one of the electroless plating method and the electroplating method.
  • the base film on which the anti-reflection layer is formed is fed to the anti-reflection layer forming section 7 to form an anti-fouling layer on the anti-reflection layer.
  • the material and method for forming the antifouling layer are as described above.
  • the base film (polarizing plate protective film) 8 having an antifouling layer formed on its surface is wound into a roll and can be stored and transported.
  • the continuous vacuum sputter film forming apparatus shown in FIG. 3 has an unwinding roll 10a, a guide opening 9a, 9b, 9c, 9d, a film forming roll 10b in a vacuum chamber 6e. It is provided with a film forming power source 12a, 12b equipped with a target lla, 11b, a winding roll 10c, and a vacuum pump 13. Then, the long hard coat layer laminated film 3a wound in a roll shape is loaded on an unwinding roll 10a.
  • the continuous vacuum sputtering film forming apparatus shown in FIG. 3 includes two targets and two film forming cathodes, the number of these units is not particularly limited.
  • the loaded base film 3 a on which the hard coat layer is laminated is unwound from the unwinding roll 10 a, it is guided to a plurality of guide rolls 9 a and 9 b to form a film forming roll. It circumscribes 10b, passes through further guide rolls 9c, 9d, and reaches the winding roll 10c.
  • a film-forming force source 12a and 12b with a target 11a and lib are installed around the film-forming roll 10b, and the base wound around the film-forming roll 10b by sputtering. Low refractive index layer on the surface of material film 3a And a high refractive index layer are continuously formed.
  • the base film 3a on which the hard coat layer on which the high refractive index layer and the low refractive index layer are laminated is guided to the guide rolls 9c and 9d on the opposite side, and the winding roll 10 Winded by c.
  • the temperature T s (° C.) of the film forming roll 10 b is (T g— 13 0) ( (° C) ⁇ Ts (° C) ⁇ Tg (° C).
  • the vacuum chamber 6 e is constantly evacuated by the vacuum pump 13, and a working gas and a reaction gas (not shown) necessary for the film formation are introduced by a cylinder.
  • the working gas include an inert gas, and specifically, a rare gas such as argon is used.
  • the reactive gas usually includes oxygen.
  • the pressure in the vacuum chamber is usually 1 0 2-1 0 - in the range of 5 P a.
  • the winding direction and the like are sequentially changed using a film winding type vacuum film forming apparatus as shown in FIG.
  • the take-up roll 10c is used as a take-up roll and the take-up roll 10a is used as a take-up roll
  • a film winding type vacuum film forming apparatus as shown in FIG. 3 may be connected in series to form a low refractive index layer and a high refractive index layer continuously.
  • the polarizing plate protective film is manufactured by continuously forming a total of four antireflection layers, but the layer configuration of the antireflection layer is not limited to this.
  • An antireflection layer comprising a layer, or a multilayer of two, three, or five or more layers can also be formed by the same method.
  • the adhesion between the antireflection layers or between the antireflection layer and the antifouling layer is improved.
  • the surface of the antireflection layer may be subjected to a surface modification treatment. surface By performing the modification treatment, the adhesion between the antireflection layer or the antireflection layer and the antifouling layer can be improved. Examples of the method for the surface modification treatment include the above-described energy ray irradiation treatment and chemical treatment.
  • FIG. 4 shows an example of the layer configuration of the polarizing plate protective film manufactured as described above.
  • the polarizing plate protective film 81 shown in FIG. 4 has a base film layer 14, a primer layer 21, a hard coat layer 31, a first antireflection film 41a, and a second
  • the anti-reflection layer 41 includes a four-layer anti-reflection layer 41, a third anti-reflection film 41 c, and a fourth anti-reflection film 41 d, and an antifouling layer 51.
  • the polarizing plate protective film obtained by the production method of the present invention has excellent interlayer adhesion, and does not cause delamination or the like even when left under high temperature and high humidity for a long time.
  • the polarizing plate with an antireflection function of the present invention is characterized in that a polarizing plate is laminated on one surface of the base film of the polarizing plate protective film of the present invention on which the antireflection layer is not provided. I do.
  • the polarizing plate that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it has a function as a polarizing plate.
  • a polyvinyl alcohol (PVA) -based or polyene-based polarizing plate can be used.
  • the method for producing the polarizing plate is not particularly limited.
  • a method for producing a PV ⁇ -based polarizing plate a method in which iodine ions are adsorbed on a PVA-based film and then uniaxially stretched, a method in which the PVA-based film is uniaxially stretched and iodine ions are adsorbed, Simultaneous adsorption of iodine ions and uniaxial stretching on VA-based film, uniaxial stretching after dyeing PVA-based film with dichroic dye, dichroic dye after uniaxially stretching PVA-based film And a method of simultaneously dyeing a PVA-based film with a dichroic dye and uniaxially stretching.
  • Polyene-based polarizing plates can be produced by uniaxially stretching a PVA-based film and then heating and dehydrating it in the presence of a dehydration catalyst. Known methods, such as a method of heating and dehydrating in the presence, may be mentioned.
  • the polarizing plate with an antireflection function of the present invention can be manufactured by laminating a polarizing plate on one surface of the base film of the polarizing plate protective film of the present invention on which the antireflection layer is not provided. .
  • Lamination of the polarizing plate protective film and the polarizing plate can be performed by using an appropriate bonding means such as an adhesive or an adhesive.
  • an adhesive or an adhesive examples include an acrylic, a silicone, a polyester, a polyurethane, a polyetherene, and a rubber. Among them, acrylic ones are preferred from the viewpoint of heat resistance and transparency.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of the layer structure of the polarizing plate with an antireflection function of the present invention.
  • the polarizing plate 91 with an anti-reflection function shown in FIG. 5 is provided on the surface of the polarizing plate protective film of the present invention, on which the anti-reflection layer 41 is not provided, via an adhesive or pressure-sensitive adhesive layer 71.
  • the plate 61 has a laminated structure. .
  • another protective film is laminated via an adhesive or a pressure-sensitive adhesive layer on the surface of the polarizing plate on which the polarizing plate protective film of the present invention is not laminated. It may be.
  • the protective film is preferably made of a material having low optical anisotropy.
  • the material having a small optical anisotropy is not particularly limited, and examples thereof include a cellulose ester such as triacetyl cellulose and a polymer resin having an alicyclic structure, such as transparency, low birefringence, and dimensional stability.
  • An alicyclic structure-containing polymer resin is preferred because of its excellent properties.
  • Examples of the alicyclic structure-containing polymer resin include the same resins as those described in the section of the base film of the present invention.
  • Examples of the adhesive or pressure-sensitive adhesive include those similar to the adhesive or pressure-sensitive adhesive used for laminating the polarizing plate protective film and the polarizing plate.
  • the thickness of the polarizing plate with an antireflection function of the present invention is not particularly limited, it is generally in the range of 60 ⁇ to 2 mm.
  • the polarizing plate with an anti-reflection function of the present invention is a polarizing plate having a structure in which warping, deformation, distortion, etc. hardly occur as a whole even when it is placed in a high-temperature, high-humidity environment for a long time. ing
  • An optical product of the present invention includes the polarizing plate with an antireflection function of the present invention. You. Preferable specific examples of the optical product of the present invention include a liquid crystal display device, a touch panel, and an electroluminescent display device.
  • FIG. 6 shows an example of a layer configuration of a liquid crystal display device including the polarizing plate with an antireflection function of the present invention as an example of an optical product including the polarizing plate with an antireflection function of the present invention.
  • the liquid crystal display device shown in FIG. 6 includes, in order from the bottom, a polarizing plate 101, a retardation plate 102, a liquid crystal cell 103, and a polarizing plate 91 with an antireflection function of the present invention.
  • the polarizing plate 91 with an anti-reflection function is formed on the liquid crystal cell 103 by bonding the polarizing plate with an adhesive or a pressure-sensitive adhesive (not shown).
  • the liquid crystal cell 103 for example, as shown in FIG.
  • two electrode substrates 105 each having a transparent electrode 104 are arranged at a predetermined interval in a state where they face each other with a transparent electrode 104, and a gap is provided between the two electrodes. It is produced by enclosing the liquid crystal 106.
  • reference numeral 107 denotes a seal.
  • the liquid crystal mode of the liquid crystal 106 is not particularly limited.
  • the liquid crystal modes include TN (Twisted Nematic), STN (Super Twisted Nematic), HAN (Hybrid Alig nment Nematic), VA (Vertical Alignment), and MVA. (Mu1 tiple Vertical Alignment) type, IPS (InP1ane Switching) type, OCB (Optical Cosmended Bend) type and the like.
  • the liquid crystal display device shown in FIG. 7 has a normally white mode in which the display is bright when the applied voltage is low and a dark display when the applied voltage is high, and a normally black mode in which the display is dark when the applied voltage is low and bright when the applied voltage is high. Mode can also be used.
  • the optical product of the present invention includes the polarizing plate with an antireflection function of the present invention, which is excellent in durability without generating deformation or stress when used under high temperature and high humidity. Therefore, even when used under a high temperature and a high humidity for a long time, there is no loss of color at the end of the display panel and no variation in hue in the display panel surface.
  • the menoleto flow rate was 4.2 g / 10 minutes.
  • a mixture containing DCP and bicyclo [4.2.1] hept-12-ene (common name: norbornene; abbreviated as NB hereinafter) in a weight ratio of DCP / NB 80/20.
  • the product was subjected to ring-opening polymerization by a known method, and then hydrogenated to obtain DCP / NB ring-opening copolymer hydrogen additive 2.
  • the hydrogenated product of the ring-opened copolymer 2 had a Mw of 43,000, a MWD of 3.2, a Tg of 70 ° C, and a melt flow rate of 23 gZl0 min.
  • a pellet (granular) molding material was obtained in the same manner as in Production Example 1.
  • Hexafunctional urethane acrylate copolymer (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name "NK Oligo U-6HAJ”) 30 parts, butyl acrylate 40 parts, isoboronyl methacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., trade name "NK” Ester IBJ) (30 parts) and 2,2-dimethoxy-1,1-one (10 parts) were mixed with a homogenizer to prepare a hard coat agent comprising an ultraviolet-curable resin composition.
  • Maleic anhydride-modified styrene / butadiene / styrene block copolymer hydrogenated product (Asahi Kasei Co., Ltd., Tuftec Ml 913, melt index value 200 ° C, 5 kg load 4.Og / 10min, styrene block content 30 weight 0/0, the hydrogenation rate of 80% or more, a maleic acid addition of 2% absolute) to 2 parts, was dissolved in a mixed solvent of 8 parts of xylene and methyl iso Puchiruketon 40 parts, having a pore size of iota Myupaiiota polytetramethylene full O Roe Ji Ren Was filtered to prepare only a complete solution as a primer solution.
  • the pellet obtained in Production Example 1 was dried at 110 ° C. for 4 hours using a hot-air dryer through which air was passed.
  • the pellets are then coated on the inner surface using a T-die type film melt extruder equipped with a resin melt kneader equipped with a 65 mm ⁇ screw equipped with a leaf disk-shaped polymer filter (filtration accuracy 30 m).
  • the primer solution obtained in Production Example 4 was applied to one of the surfaces of the surface-modified base film 1B subjected to the surface modification treatment so that the dried primer layer had a thickness of 0.5 ⁇ m.
  • the resultant was applied using a die coater and dried in a drying oven at 80 ° C. for 5 minutes to obtain a base film 1C having a primer layer.
  • Base film having a primer layer A die coater is applied to the surface of the side having the primer layer of 1C so that the thickness of the hard coat layer after curing the hard coat agent obtained in Production Example 3 is 5 m. And was applied continuously. Next, after drying at 80 ° C. for 5 minutes, ultraviolet irradiation (integrated light amount of 300 mj / cm 2 ) was performed to cure the hard coat agent to obtain a film 1D with a hard coat layer. This film 1D with the hard coat layer was wound into a roll. The thickness of the hard coat layer after curing was 5 ⁇ .
  • a long roll of the above-mentioned film 1D with a hard coat layer was loaded into a continuous vacuum sputtering film forming apparatus as shown in FIG. 3, and the inside was evacuated.
  • Vacuum chamber When one pressure reaches 1 X 10-5 Pa, film formation by the sputtering method is started, and at a temperature of 80, a low refractive index layer (Si0 2 layer) and a high An antireflection layer composed of a total of four layers, in which refractive index layers (ITO layers) were alternately laminated, was formed.
  • the thickness of the anti-reflection layer is, from the hard coat layer side, the first SiO 2 layer: 20 nm, the first ITO layer: 30 nm, the second SiO 2 layer: 40 nm, the second I O layer.
  • TO layer 100 nm.
  • a fluorine-based surface antifouling coating agent (Optool DSX, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) was diluted to 0.1% by weight with Hexane perfluoro as an antifouling layer, and applied by a dip coating method. After the application, the coating was dried by heating at 60 ° C. for 1 minute to form an antifouling layer having a thickness of 5 n.
  • Example 1 was repeated except that the base film 1A was replaced with a triacetyl cellulose film having a thickness of 50 ⁇ (trade name: Fujitac, manufactured by Fuji Photo Film, base film 2 mm). The same operation was performed to obtain a polarizing plate protective film 2E of Comparative Example 1.
  • Example 1 was repeated except that a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 ⁇ (trade name: Lumirror T60 # 50, manufactured by Toray, base film 3A) was used instead of base film 1A. The same operation was performed to obtain a polarizing plate protective film 3E of Comparative Example 2.
  • a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 ⁇ (trade name: Lumirror T60 # 50, manufactured by Toray, base film 3A) was used instead of base film 1A.
  • the same operation was performed to obtain a polarizing plate protective film 3E of Comparative Example 2.
  • Example 2 Using the pellet obtained in Production Example 2 in place of the pellet obtained in Production Example 1, the molten resin temperature and the die temperature were set to 200, the temperature of the first cooling drum was 75 ° C, and the temperature of the second cooling drum was The same operation as in Example 1 was carried out except that the temperature was 65 ° C and the temperature of the third cooling drum was 55 ° C, to obtain a base film 4A of Comparative Example 3. Further, in the same manner as in Example 1, a polarizing plate protective film 4E of Comparative Example 3 was obtained.
  • the photoelastic coefficient, saturated water absorption, warpage, and volatile component content of the base films 1A to 4A used in Example 1 and Comparative Examples 1 to 3 were measured by the methods described below. (Photoelastic coefficient)
  • the retardation in the film surface was measured using a letter measurement device (“KOB RA-21ADH” manufactured by Oji Scientific Instruments). This is divided by the film thickness to obtain the birefringence value n.
  • the ⁇ was determined while changing the load, a load- ⁇ curve was created, and the slope was defined as the photoelastic coefficient.
  • ASTM D530 it was determined by immersing in 23 for 1 week and measuring the weight gain.
  • Table 1 shows the results of measuring the water absorption, the photoelastic coefficient, the warpage, and the content of the volatile component by calculating the total amount of substances having a molecular weight of 200 or less by gas chromatography.
  • the oxygen gas transmission rate and the water vapor transmission rate of the polarizing plate protective film were measured using the following measuring apparatus and measuring conditions. The evaluation results are shown in Table 1 below.
  • Oxygen gas permeability Measured at a temperature of 23 ° C and a humidity of 90% RH using an oxygen gas permeability measuring device (OX-TRAN 2/20, manufactured by MO CON).
  • Water vapor transmission rate Measured at a temperature of 38 ° C. and a humidity of 100% RH using a water vapor transmission rate measuring device (PERMATRAN-W3 / 31, manufactured by MOCON).
  • the adhesion test of the polarizing plate protective film at the initial stage and after the endurance test was carried out by a cross-cut peeling test. Make a cut of 1 at a 1 mm interval from the top of the antifouling layer at 1 mm intervals, crossing each other at right and left at a right angle, and make a 100 mm square grid with 100 squares.
  • UV-VIS-NIR spectrophotometer V—570 UV-VIS-NIR spectrophotometer
  • Polyvinyl alcohol film with a degree of polymerization of 2400 and a thickness of 75 ⁇ is immersed in a dyeing bath containing iodine and potassium iodide at 40 ° C for dyeing, and then boric acid and potassium iodide.
  • the film was subjected to a stretching treatment and a cross-linking treatment in an acidic bath at 60 ° C in which the total stretching ratio was 5.3 times. After being washed with water, it was dried at 40 ° C. to obtain a polarizing plate having a thickness of 28 ⁇ m.
  • the polarizing plate is adhered to the base film side of the polarizing plate protective film 1E obtained in Example 1 via an ataryl-based adhesive (“DP-805 clear” manufactured by Sumitomo 3LEM).
  • the surface-modified base film 1B was bonded to the other surface of the polarizing plate via an acrylic adhesive to produce a polarizing plate 1F with an anti-reflection function.
  • the same operation was performed using the polarizing plate protective films 2E to 4E to obtain polarizing plates 2F to 4F with an antireflection function, respectively.
  • another polarizing plate was prepared, and this was used for the rear, and bonded to the opposite surface of the liquid crystal display cell, thereby producing liquid crystal display elements.
  • the polarizing plate protective film of Example 1 the photoelastic coefficient of the substrate film 9 X 10- 1 2 P a- less than 1, the saturated water absorption Is less than 0.05%, and the resin material that constitutes the base film is formed into a film with an average thickness of 50 ⁇ and a size of 10 OmmX 10 Omm. Since the warpage rate after standing for 1 hour is 1% or less, even if the base film is not dried before forming the anti-reflection layer, the film may curl or become complicated after forming the anti-reflection layer. Does not deform into shape. Also, the adhesion when bonded to a polarizing plate Good.
  • the polarizing plate protective film obtained by forming an antireflection layer on the polarizing plate protective film obtained in Example 1 has excellent gas-paring properties. No color loss etc. is observed at the panel edge even after being left in a high humidity environment for a long time.
  • the polarizing plate protective films of Comparative Examples 1 and 2 have a large photoelastic coefficient and a high saturated water absorption of the base film, and the resin material constituting the base film has an average thickness of 50 ⁇ and a size of 1 Formed into 0 O mm X 100 mm film, 60. C, the warp rate was large when left for 500 hours in an atmosphere of 95% humidity, so that the entire film was curled after the antireflection layer was formed. Therefore, when the film is bonded to a polarizing plate, the curled film needs to be once flattened, resulting in poor working efficiency.
  • the polarizing plate protective film in which the antireflection upper layer was formed on the polarizing plate protective film of Comparative Example 1 was inferior in gas barrier properties and adhesion.
  • the polarizing plate protective film of Comparative Example 2 is excellent in gas barrier properties, when the polarizing plate is attached and then assembled into a liquid crystal display and left in a high-temperature, high-humidity environment for a long time, not only the panel edge but also Light leakage can be seen from a distance from the end.
  • the polarizing plate protective film of Comparative Example 3 has the same photoelastic coefficient and saturated water absorption as the substrate film used in Example 1, but the average thickness of the resin material constituting the substrate film is It is formed into a film with a size of 50 ⁇ and a size of 10 Omm X 10 Omm, and has a large warpage when left in an atmosphere of 60 ° C and 95% humidity for 500 hours. Therefore, the initial adhesion and gas barrier properties were the same as those of the polarizing plate protective film of Example 1, but curling occurred after forming the antireflection layer. Therefore, when laminating with a polarizing plate, flattening work is required, and the working efficiency is poor.
  • the polarizing plate protective film of Comparative Example 3 was assembled into a liquid crystal display after bonding the polarizing plate, and when left in a high-temperature, high-humidity environment for a long time, light leakage was observed near the panel edge. .
  • a polarizing plate protective film having a structure in which warping, deformation, distortion, and the like hardly occur even when the polarizing plate is placed in a high-temperature, high-humidity environment for a long time. Further, the polarizing plate protective film of the present invention has excellent adhesion.
  • the polarizing plate protective film of the present invention can be efficiently produced.
  • a base film having a low photoelastic coefficient, a water absorption rate and a warpage rate is used, it is not necessary to specifically dry the film before forming the antireflection layer.
  • the polarizing plate with an antireflection function of the present invention uses the polarizing plate protective film of the present invention, and has excellent gas barrier properties. Therefore, even if this polarizing plate with antireflection function is incorporated in a liquid crystal display element of an optical product such as a liquid crystal display device, and left in a high-temperature, high-humidity environment for a long time, excellent display performance is maintained. .
  • the optical product of the present invention includes the polarizing plate with an antireflection function of the present invention, it has excellent heat resistance and moisture resistance.

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Abstract

本発明は、樹脂材料からなる基材フィルムの少なくとも一面に、直接又はその他の層を介して反射防止層が積層されてなる偏光板保護フィルムであって、前記基材フィルムの光弾性係数が９×１０−１２Ｐａ−１未満、飽和吸水率が０．０５％未満であり、かつ、前記基材フィルムを構成する樹脂材料を、平均厚み５０μｍ、大きさ１００ｍｍ×１００ｍｍのフィルムに成形し、６０℃、湿度９５％の雰囲気下に５００時間放置したときの反り率が１％以下である偏光板保護フィルム、この偏光板保護フィルムの製造方法、この偏光板保護フィルムに偏光板が積層されてなる反射防止機能付偏光板、及びこの反射防止機能付偏光板を備える光学製品である。本発明によれば、長時間にわたり高温・高湿度環境下に置かれた場合であっても、反りや変形、歪み等が生じ難い構造の偏光板保護フィルム及びその製造方法、並びに反射防止機能付偏光板及び該偏光板を備える光学製品が提供される。

Description

偏光板保護 、 その製造方法、 反射防止機能付偏光板及び光学製品 技 術 分 野
本発明は、 高温高湿度条件においても反りが少なく、 光弾性係数が小さく、 か つ、 吸水率の少ない樹脂からなる基材フィルムに反射防止層が積層されてなる偏 光板保護フィルム、 その製造方法明、 反射防止機能付偏光板、 及びこの偏光板を備 える光学製品に関する。
田 背 景 技 術
従来、 液晶表示装置は、 卓上計算機、 電子時計、 パーソナルコンピューター、 ヮードプロセッサ一等の表示装置として広く使用されている。 このような液晶表 示装置は、 通常、 二枚の基板間に液晶を封入、 封止して構成される液晶セルを有 し、 この液晶セルの表面に偏光板、 裏面には偏光板と反射防止層が積層された反 射防止機能付偏光板を粘着剤を介して貼り合せた構造を有する。
し力、しながら、 このような液晶表示装置においては、 液晶セルの表裏に貼り合 わされた偏光板の温湿度の変化による伸縮等の影響により、 液晶表示装置に反り や変形、 歪等が発生し、 全体がプロペラ状又は不規則な形に変形し、 表示装置自 体の性能に支障が生じ、 長期的に安定した表示性能を発揮する表示装置とするの が困難であるという問題があった。
また、 反射防止機能付偏光板は、 一般に、 透明な合成樹脂フィルム上に反射防 止層 、 P VD (p hy s i c a l v a p o r d e p o s i t i o n) 法や 、 C VD 、 c h em i c a l v a p o r d e p o s i t i o n) 法等によつ て形成し、 これを偏光板と積層して作製される。
これらの手法は真空下において実施されるものである。 成膜のために樹脂材料 からなるフィルムを真空中に導入すると、 フィルム中に含まれていた水分が放出 される。 そして、 この水分の存在により反射防止層の均一な成膜が困難となり、 品質劣化や生産性の低下を招くという事態が発生する。 また、 真空で一度放出さ れた水分は成膜後、 フィルムが大気に開放されることにより再ぴフィルム中に吸 収される。 水分を吸収して吸湿したフィルムは膨張し、 積層した反射防止層との 膨張差からフィルムの外側に行くに従い、 全体がプロペラ状等の複雑な形状に変 形する (カール) 。 さらに、 このカールは次工程で他のフィルムとの貼り合せが 必要な場合、 加工性において利便性を損なう。 このことは、 液晶表示装置が大画 面になるほど顕著になる。
従来、 上述したような温湿度の変化による反りや変形を防止する手段としては
、 例えば、 特開平 8— 5 4 6 2 0号公報に記載されているように、 片面に透明性 の高いフィルムを貼り合せ、 機械的に抑える方法が一般的である。 しかし、 この 方法では変形防止用のフィルムを貼り合わせる工程が必要となる。 また、 性能面 においても、 フィルムの変形による剥離の問題等の機械的強度の劣化が問題とな つている。
本発明は、 かかる従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、 長時間にわた り高温 ·高湿度環境下に置かれた場合であっても、 反りや変形、 歪み等が生じ難 い構造の偏光板保護フィルム及びその製造方法、 並びに反射防止機能付偏光板及 ぴ該偏光板を備える光学製品を提供することを課題とする。 発 明 の 開 示
本発明者らは、 上記課題を解決すべく、 樹脂材料からなる基材フィルムの少な くとも一面に反射防止層を有する偏光板保護フィルムについて鋭意検討した結果 、 前記基材フィルムとして、 光弾性係数及び飽和吸水率が特定の値より小さく、 かつ、 高温 ·高湿度下に長時間置いた場合であっても、 反りの少ない樹脂材料か らなるフィルムを使用することで、 液晶表示全体に反りや変形、 歪み等が生じ難 い構造の偏光板保護フィルムが得られることを見出し、 本発明を完成するに至つ た。
かくして本発明の第 1によれば、 樹脂材料からなる基材フィルムの少なくとも —面に、 直接又はその他の層を介して反射防止層が積層されてなる偏光板保護フ イルムであって、 前記基材フィルムの光弾性係数が 9 X 1 0— 1 2 P a 1 未満 、 飽和吸水率が 0 . 0 5 %未満であり、 かつ、 前記基材フィルムを構成する樹脂 材料を、 平均厚み 5 0 μ m、 大きさ 1 0 O mm X 1 0 0 mmのフィルムに成形し 、 6 0 °C、 湿度 9 5 %の雰囲気下に 5 0 0時間放置したときの反り率が 1 %以下 であることを特徴とする偏光板保護フィルムが提供される。
本発明の偏光板保護フィルムにおいては、 前記榭脂材料が脂環式構造含有重合 体樹脂を含むものであるのが好ましい。
本発明の偏光板保護フィルムにおいては、 前記反射防止層が、 無機酸化物の単 層膜若しくは 2層以上の多層膜であるのが好ましい。
本発明の第 2によれば、 樹脂材料からなる基材フィルム表面上、 又はその他の 層が形成された基材フィルムの当該その他の層表面上に反射防止層を形成するェ 程を有する偏光板保護フィルムの製造方法であって、 前記反射防止層を、 イオン プレーティング法、 スパッタリング法、 真空蒸着法、 無電解めつき法、 電気めつ き法又はこれらを組み合わせた方法のいずれかの方法により形成することを特徴 とする本発明の偏光板保護フィルムの製造方法が提供される。
本発明の偏光板保護フィルムの製造方法においては、 前記反射防止層を形成す る工程が、 基材フィルムの表面上、 又は表面にその他の層が形成された基材フィ ルムの当該その他の層の表面上に、 複数の無機酸化物薄膜を順次積層することに より反射防止層を形成するものであって、 前記基材フィルム又は表面上にその他 の層が形成された基材フィルムを、 無機酸化物薄膜を形成する成膜手段を有する 複数の成膜室を順次通過させ、 それぞれの成膜室が有する成膜手段によって、 前 記基材フィルム表面上、 又はその他の層が形成された基材フィルムの当該その他 の層の表面上に、 複数の無機酸化物薄膜を順次積層する工程であるのが好ましい 本発明の偏光板保護フィルムの製造方法においては、 前記基材フィルムが、 脂 環式構造含有重合体樹脂を含む樹脂材料からなるフィルムであるのが好ましい。 本発明の第 3によれば、 本発明の偏光板保護フィルムの基材フィルムの反射防 止層が設けられていない側の一面に、 偏光板が積層されてなることを特徴とする 反射防止機能付偏光板が提供される。
また本発明の第 4によれば、 本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特 徴とする光学製品が提供される。
図面の簡単な説明
第 1図は、 基材フィルムを構成する樹脂材料の反り率を測定する方法を示す図 である。
第 2図は、 成膜装置を使用して、 本発明の偏光板保護フィルムを連続生産する 概念図である。
第 3図は、 反射防止層を形成する装置の別の態様を示した模式図である。 第 4図は、 本発明の偏光板保護フィルムの層構成断面図である。
第 5図は、 本発明の反射防止機能付偏光板の層構成断面図である。
第 6図は、 本発明の反射防止機能付偏光板を液晶表示セルに貼り合せた層構成 断面図である。
第 Ί図は、 第 6図に示す液晶表示セルの層構成断面図である。 発明を実施するための最良の形態
以下本発明を、 1) 偏光板保護フィルム、 2) 偏光板保護フィルムの製造方法 、 3) 反射防止機能付偏光板及び 4) 光学製品に項分けして詳細に説明する。 1) 偏光板保護フィルム
本発明の偏光板保護フィルムは、 樹脂材料からなる基材フィルムの少なくとも 一面に、 直接又はその他の層を介して反射防止層が積層されてなる偏光板保護フ イルムである。
(1) 基材フィルム
本発明においては、 基材フィルムとして、 次の （a) 〜 (d) の要件を満たす ものを用いる。
(a) 樹脂材料からなる。
(b) その光弾性係数が 9 X 10_ 1 2 P a" 1 未満である。
( c ) その飽和吸水率が 0. 05 %未満である。 ( d ) 厚み 5 0 μ πι、 大きさ 1 0 O mm X 1 0 0 mmのフィルムに成形し、 6 0 °C、 湿度 9 5 %の雰囲気下に 5 0 0時間放置したときの反り率が 1 %以下である これらの要件を満たす基材フィルムを用いることにより、 液晶表示全体に反り や変形、 歪み等が生じ難い構造の偏光板保護フィルムを得ることができる。
( a ) 樹脂材料
前記樹脂材料に含まれる樹脂としては、 透明性を有するものであれば特に制約 されない。 例えば、 脂環式構造含有重合体樹脂、 ポリカーボネート系重合体樹脂 、 ポリエステル系重合体樹脂、 ポリスルホン系重合体樹脂、 ポリエーテルスルホ ン系重合体樹脂、 ポリスチレン系重合体樹脂、 ポリオレフイン系重合体樹脂、 ポ リビュルアルコール系重合体樹脂、 酢酸セルロース系重合体樹脂、 ポリ塩化ビニ ル系重合体樹脂、 ポリメタクリレート系重合体樹脂等が挙げられる。 これらの中 でも、 光弾性係数及び吸水率が小さいことから、 脂環式構造含有重合体樹脂が好 ましい。
脂環式構造含有重合体樹脂は、 重合体樹脂の繰り返し単位中に脂環式構造を有 するものであり、 主鎖中に脂環式構造を有する重合体樹脂と、 側鎖に脂環式構造 を有する重合体樹脂とがある。
脂環式構造としては、 例えば、 シクロアルカン構造、 シクロアルケン構造等が 挙げられるが、 熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。 脂環式構 造を構成する炭素数に特に制限はないが、 通常 4〜3 0個、 好ましくは 5〜2 0 個、 より好ましくは 6〜1 5個である。 脂環式構造を構成する炭素原子数がこの 範囲にあると、 耐熱性及び柔軟性に優れた延伸フィルムを得ることができる。 脂環式構造含有重合体樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、 使 用目的に応じて適宜選択されればよいが、 通常 5 0重量％以上、 好ましくは 7 0 重量％以上、 より好ましくは 9 0重量％以上である。 脂環式構造を有する繰り返 し単位が過度に少ないと耐熱性が低下し好ましくない。 なお、 脂環式構造含有重 合体榭脂における脂環式構造を有する繰り返し単位以外の繰り返し単位は、 使用 目的に応じて適宜選択される。 脂環式構造含有重合体樹脂の具体例としては、 （ i) ノルポルネン系重合体、 (ii)単環の環状ォレフィン重合体、 （iii)環状共役ジェン系重合体、 （iv)ビュル 脂環式炭化水素重合体、 及び (i) 〜 (iv)の水素化物等が挙げられる。 これらの 中でも、 耐熱性、 機械的強度に優れること等から、 ノルボルネン系重合体の水素 化物、 ビニル脂環式炭化水素重合体及ぴその水素化物が好ましく、 ノルボルネン 系重合体の水素化物がより好ましい。
本発明に用いるノルポルネン系重合体は、 ノルボルネン及ぴその誘導体、 テト ラシクロドデセン及びその誘導体、 ジシクロペンタジェン及ぴその誘導体、 メタ ノテトラヒ ド口フルォレン及ぴその誘導体等のノルボルネン系単量体を主成分と する単量体の重合体である。
ノルボルネン系重合体の具体例としては、 （ a ) ノルポルネン系単量体の開環 重合体、 （b) ノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との 開環共重合体、 （c) ノルボルネン系単量体の付加重合体、 （d) ノルボルネン 系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との付加重合体、 及び （a) 〜 （ d) の水素化物等が挙げられる。
ノルボルネン系単量体としては、 例えば、 ビシク口 [ 2. 2. 1 ] ヘプト一 2 ーェン （慣用名 ： ノルボルネン） 、 トリシクロ [4. 3. 0. I 2 ' 5 ] デ力一 3, 7—ジェン （慣用名 ：ジシクロペンタジェン） 、 7, 8_ベンゾトリシクロ [4. 3. 0. 12 ' 5 ] デカー 3—ェン （慣用名 ：メタノテトラヒ ドロフルォ レン） 、 テトラシクロ [4. 4. 0. 12 ' 5 . 17 ' 1 0 ] ドデカー 3—ェン (慣用名 ：テトラシクロドデセン） 、 及びこれらの化合物の誘導体 （例えば、 環 に置換基を有するもの） 等を挙げることができる。 ここで、 置換基としては、 例 えばアルキル基、 アルキレン基、 アルコキシカルボニル基、 カルボキシル基等を 挙げることができる。 また、 これらの置換基は、 同一又は相異なって複数個が環 に結合していてもよい。 ノルポルネン系単量体は 1種単独で、 あるいは 2種以上 を組み合わせて用いることができる。
ノルボルネン系単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、 例えば、 シク 口へキセン、 シクロヘプテン、 シクロオタテン等のモノ環状ォレフィン類及びそ の誘導体；シクロへキサジェン、 シクロへブタジエン等の環状共役ジェン及びそ の誘導体；等が挙げられる。
ノルボルネン系単量体の開環重合体及ぴノルボルネン系単量体とこれと共重合 可能な他の単量体との開環共重合体は、 単量体を開環重合触媒の存在下に重合す ることにより得ることができる。 開環重合触媒としては、 通常使用される公知の ものを使用できる。
ノルボルネン系単量体の付加重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合 可能な他の単量体との付加共重合体は、 単量体を付加重合触媒の存在下に重合す ることにより得ることができる。 付加重合触媒としては、 通常使用される公知の ものを使用できる。
ノルボルネン系単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、 例えば、 ェチ レン、 プロピレン等の炭素数 2〜 2 0の α—ォレフィン及びこれらの誘導体；シ クロブテン、 シクロペンテン等のシクロォレフイン及ぴこれらの誘導体； 1， 4 —へキサジェン等の非共役ジェン等が挙げられる。 これらの単量体は 1種単独で 、 あるいは 2種以上を組み合わせて用いることができる。 これらの中でも、 ひ一 ォレフィンが好ましく、 エチレンがより好ましい。
単環の環状ォレフィン系重合体としては、 例えば、 シクロへキセン、 シクロへ プテン、 シクロォクテン等の付加重合体を挙げることができる。
また、 環状共役ジェン系重合体としては、 例えば、 シクロペンタジェン、 シク 口へキサジェン等の環状共役ジェン系単量体を 1， 2—付加重合又は 1， 4一付 加重合した重合体を挙げることができる。
ビュル脂環式炭化水素重合体は、 ビニルシク口アル力ン又はビュルシク口アル ケン由来の繰り返し単位を有する重合体である。 ビニル脂環式炭化水素重合体と しては、 例えば、 ビュルシクロへキサン等のビュルシクロアルカン、 ビ-ルシク 口へキセン等のビニルシク口アルケン等のビュル脂環式炭化水素化合物の重合体 及ぴその水素化物；スチレン、 α—メチルスチレン等のビュル芳香族炭化水素化 合物の重合体の芳香族部分の水素化物等が挙げられる。
また、 ビニル脂環式炭化水素重合体は、 ビニル脂環式炭化水素化合物やビニル 芳香族炭化水素化合物と、 これらの単量体と共重合可能な他の単量体とのランダ ム共重合体、 プロック共重合体等の共重合体及ぴその水素化物であってもよい。 プロック共重合としては、 ジブ口ック、 トリブロック、 又はそれ以上のマルチブ 口ックゃ傾斜プロック共重合等が挙げられるが、 特に制限はない。
脂環式構造含有重合体樹脂の分子量は、 溶媒としてシクロへキサン （重合体榭 脂が溶解しない場合はトルエン） を用いたゲル ·パーミエーシヨン .クロマトグ ラフィ一により測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量 力 S、 通常 10, 000〜300, 000、 好ましくは 1 5， 000〜 250, 0 00、 より好ましくは 20, 000〜200， 000の範囲であるときに、 フィ ルムの機械的強度及ぴ成形加工性とが高度にバランスされ好適である。
ノルボルネン系単量体の開環重合体、 ノルボルネン系単量体とこれと開環共重 合可能なその他の単量体との開環共重合体、 ノルボルネン系単量体の付加重合体 、 及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との付加重合 体の水素化物は、 公知の水素化触媒を添加し、 炭素一炭素不飽和結合を好ましく は 90 %以上水素化することによって得ることができる。
前記樹脂材料のガラス転移温度は、 使用目的に応じて適宜選択されればよいが 、 好ましくは 80°C以上、 より好ましくは 100〜·250°Cの範囲である。 ガラ ス転移温度がこのような範囲にある榭脂材料からなる基材フィルムは、 高温 ·高 湿度下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。
前記樹脂材料の分子量分布 （重量平均分子量 （Mw) ノ数平均分子量 （Mn) ) は特に制限されないが、 通常 1. 0〜10. 0、 好ましくは 1. 0〜6. 0、 より好ましくは 1. 1〜4. 0の範囲である。 このような範囲に分子量分布を調 整することによって、 フィルムの機械的強度と成形加工性が良好にノべ 本発明に用いる基材フィルムは、 平均厚み 50 μιη、 大きさ l O OmmX I O 0 mmのフィルムに成形し、 60 °C、 湿度 95 %の雰囲気下に 500時間放置し たときの反り率が 1%以下、 好ましくは 0. 8%以下である樹脂材料から構成さ れてなることを特徴とする。 本発明に用いる基材フィルムは、 所定の形状のフィ ルムに成形し、 高湿度 ·高温下に長時間放置した場合であっても、 反り率が 1 % 以下と小さいものとなるので、 反射防止層との密着性、 及び他のフィルムと貼り 合わせるときの加工性に優れる。
反り率は、 具体的には次のようにして求めることができる。 先ず、 基材フィル ムと同じ樹脂材料を用いて、 平均厚み 5 0 m、 大きさ 1 0 O mm X 1 0 O mm のフィルム成形物 1を用意する。 次に、 これを、 6 0 °C、 湿度 9 5 %の雰囲気下 に 5 0 0時間放置する。 次いで、 第 1図に示すように、 試験後のフィルム成形物 1を水平な定盤 2上に静置し、 定盤面と定盤面から最も遠い部分の下側までの距 離 h (mm) をノギスで測定し、 その距離のフィルム成形物の長さ ( 1 0 O mm ) に対する割合を反り率 （％) として求める。 すなわち、 反り率 （。/。） は、 式： 反り率 （％) = h Z l 0 0 X 1 0 0で求めることができる。 なお、 フィルム成形 物 1を 6 0 °C、 湿度 9 5 %の雰囲気下に 5 0 0時間放置した場合、 凸状に変形す る場合と凹状に変形する場合があるが、 いずれの場合にも、 水平な定盤 2上に、 試験後のフィルム成形物 1を第 1図に示すように置いて、 反り量 （h ) を測定す る。
前記樹脂材料には、 所望により各種配合剤を添加することができる。 配合剤と しては、 熱可塑性樹脂材料で通常用いられるものであれば格別な制限はなく、 例 えば、 フエノール系酸化防止剤、 リン酸系酸化防止剤、 ィォゥ系酸化防止剤等の の酸化防止剤；ベンゾトリァゾール系紫外線吸収剤、 ベンゾエート系紫外線吸収 剤、 ベンゾフエノン系紫外線吸収剤、 アタリレート系紫外線吸収剤、 金属錯体系 紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤； ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤；染 料や顔料等着色剤；脂肪族アルコールのエステル、 多価アルコールのエステル、 脂肪酸アミド、 無機粒子等滑剤； トリエステル系可塑剤、 フタル酸エステル系可 塑剤、 脂肪酸一塩基酸エステル系可塑剤、 ォキシ酸エステル系可塑剤等の可塑剤 ；多価アルコールの脂肪酸エステル等の帯電防止剤；等が挙げられる。
本発明に用いる樹脂材料のメルトフローレートは、 2 8 0 °C、 2 . 1 6 k g f 荷重量％におけるメルトフローレ一トで、 通常 1〜1 0 0 g / 1 0分、 好ましく は 2〜5 0 g / 1 0分、 より好ましくは 3〜4 0 g Z l 0分である。 メノレトフ口 一レートが 1 g 1 0分より小さレ、場合には成形時の加工性が乏しくなり、 1 0 0 g / 1 0分より大きくなるとシート成形時に厚みムラが生じるため、 いずれも 好ましくない。
( b ) 光弾性係数
本発明に用いる基材フィルムは、 その光弾性係数が 9 X 1 0— 1 2 P a— 1 未 満、 好ましくは 7 X 1 0— 1 2 P a— 1未満であることを特徴とする。 本発明に 用いる基材フィルムは、 その光弾性係数が 9 X 1 0一 1 2 P a— 1 未満と小さい ものであるため、 外部応力により光学歪みが生じにくく、 微小な応力変化により 位相差が発現したり変化することがない。
光弾性係数はピエゾ光学係数とも称され、 ピエゾ光学効果 （光弾性効果） の大 きさを記述する物質定数であり、 エリプソメータを用いて測定することができる 。 光弾性係数は外部応力に対する光学歪みの程度を示す値であり、 値が小さけれ ば小さい程、 偏光板の保護フィルムとして光学的に良好である。
( c ) 飽和吸水率
本発明に用いる基材フィルムは、 その飽和吸水率が 0 . 0 5重量％未満、 好ま しくは 0 . 0 3重量％未満であることを特徴とする。 本発明に用いる基材フィル ムは、 飽和吸水率が 0 . 0 5重量％未満と小さいものであるため、 反射防止層を 形成する際において、 水分が放出されて品質が劣化したり、 生産性が低下するこ とがない。 また、 長期間の使用により、 吸湿により基材フィルムが伸縮して、 反 射防止層が基材フィルムから剥離することもない。
基材フィルムの飽和吸水率は、 A S TM D 5 3 0に従い、 2 3。Cで 1週間浸 漬して増加重量を測定することにより求めることができる。
( d ) 揮発性成分の含有量
本発明に用いる基材フィルムは、 揮発性成分の含有量が好ましくは 0 . 1重量 %以下、 さらに好ましくは 0 . 0 5重量％以下のものである。 揮発性成分の含有 量が前記範囲にあることにより、 基材フィルムの寸法安定性が向上し、 ハードコ 一ト層を積層する際の積層むらを小さくすることができる。 加えて、 フィルム全 面にわたって均質な反射防止層を形成させることができるので、 フィルム全面に わたってむらのなレ、反射防止効果を得ることができる。
揮発性成分は、 基材フィルムに微量含まれる分子量 2 0 0以下の物質であり、 例えば、 残留単量体や溶媒などが挙げられる。 揮発性成分の含有量は、 脂環式構 造含有重合体榭脂に含まれる分子量 2 0 0以下の物質の合計として、 基材フィル ムをガスクロマトグラフィーにより分析することにより定量することができる。 本発明に用いる基材フィルムは、 上記樹脂材料を公知の成形方法によりフィル ム状に成形し、 光弾性係数、 飽和吸水率、 揮発性成分の含有量を調整して得るこ とができる。
樹脂材料をフィルム状に成形する方法としては、 溶液キャスティング法、 又は 溶融押出成形法が挙げられる。 中でも、 基材フィルム中の揮発 '生成分の含有量や 厚さむらを少なくできる点から、 溶融押出成形法が好ましい。 さらに溶融押出成 形法としては、 Tダイなどのダイスを用いる方法ゃィンフレーション法などが挙 げられるが、 生産性や厚さ精度に優れる点で Tダイを用いる方法が好ましい。 基材フィルムを成形する方法として、 Tダイを用いる方法を採用する場合、 T ダイを有する押出機における樹脂材料の溶融温度は、 樹脂材料のガラス転移温度 よりも 8 0〜1 8 0 °C高い温度にすることが好ましく、 1 0 0〜1 5 0 °C高い温 度にすることがより好ましい。 押出機での溶融温度が過度に低いと樹脂材料の流 動性が不足するおそれがあり、 逆に溶融温度が過度に高いと樹脂材料が劣化する 可能性がある。 さらに、 フィルム化の前に、 用いる樹脂材料を予備乾燥しておく ことが好ましい。 予備乾燥は、 例えば原料をペレットなどの形態にして、 熱風乾 燥機などで行われる。 乾燥温度は 1 0 0 °C以上が好ましく、 乾燥時間は 2時間以 上が好ましい。 予備乾燥を行うことにより、 フィルム中の揮発性成分量を低減さ せることができ、 さらに押出す樹脂材料の発泡を防ぐことができる。
さらに、 本発明に使用する基材フィルムの好適な製造方法は、 押出機から押出 された溶融状態の樹脂材料を、 第 1冷却ドラム、 第 2冷却ドラム及び第 3冷却ド ラムに順に外接させて冷却する工程を有し、 押出機から押出された溶融状態の榭 脂材料を、 第 1冷却ドラム、 第 2冷却ドラム及び第 3冷却ドラムの 3本の冷却ド ラムに順に外接させて移送する工程を有し、 第 2冷却ドラムの周速度 R 2 に対す る第 3冷却ドラムの周速度 R 3 の比 R 3 ZR 2 が 0 . 9 9 9未満、 0 . 9 9 0以 上とする。 R 3 /R 2 の値が過度に大きいと樹脂材料に延伸がかかって、 得られ る基材フィルムに反りや厚さむらが発生する傾向がある。 一方、 R 3 /R 2 の値 が過度に小さい場合も、 樹脂材料が弛んで垂れ、 その重さが張力となって樹脂材 料に延伸がかかり、 得られる基材フィルムに反りや厚さむらが発生する傾向があ る。 上記の周速比を採ることにより、 溶融状態の樹脂材料が弛むことなく、 適当 なテンションで引つ張られながら、 反りや厚さむらが小さレ、基材フィルムを得る ことができる。
また、 上記に加えて第 1冷却ドラムの周速度 に対する第 2冷却ドラムの周 速度 R 2 の比 R 2 を 1 . 0 1未満、 0 . 9 9 0以上に設定することが好ま しく、 1 . 0 0 0未満、 0 . 9 9 5以上に設定することがより好ましい。 R 2ノ の値をこの範囲にすることにより、 得られるフィルムの分子配向が特に小さ くなり、 それが熱収縮率を小さくすることができる。 またさらに巻きジヮの発生 を防ぐことができる。
このとき、 第 1冷却ドラムと第 2冷却ドラムの温度差を 2 0 °C以下とすること が、 さらに好ましい。 両者の温度差を 2 0 °C以下に保持して冷却を行うことで、 前記樹脂材料を冷却することにより、 フィルム中の残留応力を抑えることができ る。
本発明に用いる基材フィルムとして、 片面又は両面に表面改質処理を施したも のを使用してもよい。 表面改質処理を行うことにより、 ハードコート層との密着 性を向上させることができる。 表面改質処理としては、 エネルギー線照射処理や 薬品処理などが挙げられる。
エネルギー線照射処理としては、 コロナ放電処理、 プラズマ処理、 電子線照射 処理、 紫外線照射処理などが挙げられ、 処理効率の点等から、 コロナ放電処理、 プラズマ処理が好ましく、 コロナ放電処理が特に好ましい。
薬品処理としては、 重クロム酸カリウム溶液、 濃硫酸などの酸化剤水溶液中に 、 浸漬し、 その後充分に水で洗浄すればよい。 浸漬した状態で振盪すると効果的 であるが、 長期間処理すると表面が溶解したり、 透明性が低下したりするといつ た問題があり、 用いる薬品の反応性、 濃度などに応じて、 処理時間などを調整す る必要がある。
基材フィルムの膜厚は、 機械的強度などの観点から、 好ましくは 30〜300 Mm, より好ましくは 40〜200 μιηである。
(2) 反射防止層
本発明の偏光板保護フィルムは、 上記基材フィルムに、 直接又はその他の層を 介して反射防止層が積層されてなる。
反射防止層は、 実質的な反射防止機能を担う部分であり、 単層構造又は複層構 造の適宜な構造とすることができる。 例えば、 A. VAS I CEK著、 「ΟΡΤ I CS OF THI N F I LMS」 P 159〜283 [北オランダパブリツ シングカンパ-、 アムステルダム （1960) ： NORTH-HOLLAND PUBL I SHI NG COMPANY, AMSTERDAM (1960) ] や 、 特開昭 58— 46301号公報、 特開昭 59— 49501号公報、 特開昭 59 -50401号公報、 特開平 1— 294709号公報、 特公平 6— 5324号公 報等に記載された構造のものが挙げられる。
本発明においては、 前記反射防止層の層構造は、 無機酸化物の単層膜若しくは 2層以上の多層膜であるのが好ましく、 相対的に低屈折率の薄膜と相対的に高屈 折率の薄膜とが交互に積層されてなる、 異種の無機酸化物からなる 2層以上の複 合多層膜であるのがより好ましい。 このような複合多層膜において、 各層の厚さ や屈折率等については、 例えば、 A. VAS I CEK著、 「OPT I CS OF
TH I N F I LMS」 等に記載された公知技術に準じて設定することができ る。
反射防止層の形成には無機物を用いることができる。 その具体例としては、 S i O2 、 A 12 03 、 Z rO2 、 T i〇2 、 Ta2 〇5 、 TaHf 2 、 S i O、 T i O、 T i 2 03 、 H f 02 、 ZnO、 I n2 03 /SnO2 、 Y2 03 、 Y b 2 03 、 S b 2 O3 、 Mg〇、 C e O2等の無機酸化物： L i F、 Na F、 M g F2 、 3 N a F/A 1 F3 、 B a F2 、 Ca F2 、 S r F2 、 LaF2 、 A l F3 、 Na 3 A 1 F6 等の無機フッ化物；等の無機ハロゲン化物；等が挙げられ る。
また、 これら屈折率が既知の材料を用いる手段に代えて、 樹脂等のマトリクス 材料中に超微粒子を分散させて屈折率を可変とし、 目的の屈折率の値に調整した 材料を用いることもできる。 マトリクス材料中に、 分散させる微粒子の候補とし ては、 フッ化マグネシウム等の無機フッ化物、 シリカ系微粒子の他、 真空、 空気 あるいは窒素等のガスからなる微小な空孔が挙げられる。 低屈折率材料を得ると いう観点からは、 シリカ系中空微粒子をマトリクス中に分散させたものを用いる のが好ましい。 これらの微粒子含有層を形成する手段としては、 マトリクス形成 材料中に分散させて得られるコーティング組成物を塗布し乾燥する方法が挙げら れる。
反射防止層の厚みは、 通常は 0 . 0 1〜 5 0 ;u m、 好ましくは 0 . 1〜 3 0 /ζ m、 さらに好ましくは 0 . 5〜 2 0 ;z mである。 0 . 0 1 μ m未満であると反射 防止効果が発揮できず、 5 0 Ζ ΠΙを超えると塗膜の厚みにムラが生じやすくなり 外観等が悪化し好ましくない。
( 3 ) その他の層
本発明の偏光板保護フィルムにおいては、 基材フィルムと反射防止層との間に その他の層を介在させることができる。 その他の層としては、 プライマー層ゃハ ードコート層が挙げられる。
プライマー層は、 基材フィルムと反射防止層との接着性の付与及び向上を目的 として形成される。 プライマー層を構成する材料としては、 ポリエステルウレタ ン系樹脂、 ポリエーテルウレタン系樹脂、 ポリイソシァネート系樹脂、 ポリオレ フィン系樹脂、 主鎖に炭化水素骨格及び/又はポリブタジエン骨格を有する樹脂 、 ポリアミド樹脂、 アクリル系樹脂、 ポリエステル系樹脂、 塩化ビュル一酢酸ビ ニル共重合体、 塩ィヒゴム、 環化ゴム又はこれらの重合体に極性基を導入した変性 物が挙げられる。
なかでも、 主鎖に炭化水素骨格及び/又はポリプタジェン骨格を有する榭脂の 変性物及ぴ環化ゴムの変性物が好ましい。
主鎖に炭化水素骨格及び/又はポリブタジエン骨格を有する樹脂としては、 ポ リブタジエン骨格もしくはその少なくとも一部を水素添加した骨格を有する樹脂 、 具体的には、 ポリブタジエン樹脂、 水添ポリブタジエン樹脂、 スチレン 'ブタ ジェン 'スチレンブロック共重合体 ( S B S共重合体) 及びその水素添加物 ( S E B S共重合体) などが挙げられる。 中でも、 スチレン ·ブタジエン . スチレン プロック共重合体の水素添加物の変性物が好ましい。
導入する極性基としては、 カルボン酸又はその誘導体が好ましく、 具体的には 、 アクリル酸、 メタクリル酸、 マレイン酸、 フマール酸等の不飽和カルボン酸； 塩化マレイル、 マレイミド、 無水マレイン酸、 無水シトラコン酸等の不飽和カル ボン酸のハロゲン化物、 アミド、 イミド、 無水物、 エステル等の誘導体；等によ る変性物が挙げられ、 密着性に優れることから、 不飽和カルボン酸又は不飽和力 ルボン酸無水物による変性物が好ましく、 アクリル酸、 メタクリル酸、 マレイン 酸、 無水マレイン酸がより好ましく、 マレイン酸、 無水マレイン酸が特に好まし い。 これらの不飽和カルボン酸等を、 2種以上を混合して用い、 変性してもよい プライマー層の形成方法は特に制限されず、 例えば、 プライマー層形成用塗工 液を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して形成する方法が挙げられる プライマー層の厚みは特に制限されないが、 通常 0 . 0 1〜5 μ πι、 好ましく は 0 . 1〜2 μ ηιである。
ハードコート層は、 基材フィルムの表面硬度、 耐繰り返し疲労性及ぴ耐擦傷性 を補強する目的で形成される。 ハードコート層の形成材料としては、 有機シリコ ーン系、 メラミン系、 エポキシ系、 アクリル系等の有機系ハードコート材料；二 酸化ケィ素等の無機系ハードコート材料；が挙げられる。 なかでも、 接着力が良 好であり、 生産性に優れる観点から、 多官能ァクリレート系ハードコート材料の 使用が好ましい。 ハードコート層の形成方法は特に制限されず、 例えば、 ハード コート層形成用塗工液を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して、 紫外 線を照射し硬化させて形成する方法が挙げられる。 ハードコート層の厚みは特に 限定されないが、 通常 0 . 5〜3 0 μ πι、 好ましくは 3〜1 5； u mである。 本発明の偏光板保護フィルムにおいては、 反射防止層を保護し、 かつ、 防污性 能を高めるために、 反射防止層上に防污層をさらに有するのが好ましい。
防汚層を構成する材料としては、 反射防止層の機能が阻害されず、 防汚層とし ての要求性能が満たされる限り特に制限はない。 通常、 疎水基を有する化合物を 好ましく使用できる。 具体的な例としてはパーフルォロアルキルシラン化合物、 パーフルォロポリエーテルシラン化合物、 フッ素含有シリコーン化合物を使用す ることができる。 防汚層の形成方法は、 形成する材料に応じて、 例えば、 蒸着、 スパッタリング等の物理的気相成長法、 CVD等の化学的気相成長法、 湿式コー ティング法等を用いることができる。 防汚層の厚みは特に制限はないが、 通常 2 O nm以下が好ましく、 1〜10 nmであるのがより好ましい。
本発明の偏光板保護フィルムは、 ガスパリア性に優れており、 偏光板と張り合 わせた場合に、 水蒸気や酸素が透過して偏光板の性能が劣化するのを防止するこ とができる。 ガスパリァ性は、 酸素透過率及び水蒸気透過率で評価することがで きる。 本発明の偏光板保護フィルムは、 温度 23°C、 湿度 90%RHで測定され る酸素透過率が 2. 5 cm3 /m2 /d a y/a t m以下で、 かつ温度 38° (：、 湿度 100%RHで測定される水蒸気透過率が 2. 5 g/m2 / ά a y/a tm 以下のものが好ましく、 前記酸素透過率が 2. 0 cm3 /m2 / ά a y/a t m 以下であり、 かつ前記水蒸気透過率が 2. 0 g/m2 /d a y/a t m以下であ るものがより好ましい。 酸素透過率及び水蒸気透過率は、 公知の酸素ガス透過率 測定装置及び水蒸気透過率測定装置を用いて測定することができる。
本発明の偏光板保護フィルムは、 例えば、 携帯電話、 デジタル情報端末、 ボケ ットベル （登録商標） 、 ナビゲーシヨン、 車載用液晶ディスプレイ、 液晶モニタ 一、 調光パネル、 OA機器用ディスプレイ、 AV機器用ディスプレイ等の各種液 晶表示素子ゃェレクト口ルミネッセンス表示素子あるいはタツチパネル等の偏光 板の保護フィルムとして有用である。
2) 偏光板保護フィルムの製造方法
本発明の偏光板保護フィルムの製造方法は、 樹脂材料からなる基材フィルム表 面上、 又はその他の層が形成された基材フィルムの当該その他の層表面上に、 反 射防止層を形成する工程を有する偏光板保護フィルムの製造方法であって、 前記 反射防止層を、 イオンプレーティング法、 スパッタリング法、 真空蒸着法、 無電 解めつき法、 電気めつき法又はこれらを組み合わせた方法のレ、ずれかの方法によ り形成することを特徴とする。
本発明の偏光板保護フィルムの製造方法においては、 前記反射防止層を形成す る工程が、 基材フィルムの表面上又は表面にその他の層が形成された基材フィノレ ムの当該その他の層の表面上に、 複数の無機酸化物薄膜を順次積層することによ り反射防止層を形成するものであって、 前記基材フィルム又は表面上にその他の 層が形成された基材フィルムを、 無機酸化物薄膜を形成する成膜手段を有する複 数の成膜室を順次通過させ、 それぞれの成膜室が有する成膜手段によって、 前記 基材フィルム表面上、 又はその他の層が形成された基材フィルムの当該その他の 層の表面上に、 複数の無機酸ィヒ物薄膜を順次積層する工程であるのが好ましい。 本発明の偏光板保護フィルムの製造方法は、 光弾性係数が 9 X 1 0— 1 2 P a 一 1 未満、 飽和吸水率が 0 . 0 5 %未満であり、 かつ、 樹脂材料を平均厚み 5 0 i m、 大きさ 1 0 O mm X 1 0 0 mmのフィルムに成形し、 6 0 °C、 湿度 9 5 % の雰囲気下に 5 0 0時間放置したときの反り率が 1 %以下である基材フィルムを 用いるものであるため、 従来のように、 反射防止層を形成する前に乾燥工程を設 ける必要がない。 また、 反射防止層を形成する前のフィルムを、 吸湿を防止する ために特別な乾燥条件下で、 保存 ·運搬する必要もない。 従って、 以下に述べる ように、 基材フィルムから、 プライマー層、 ハードコート層、 反射防止層及び防 汚層を連続成膜することで、 偏光板保護フィルムを連続生産することができる。 この連続生産する方法は、 例えば、 第 2図に示す成膜装置を用いて実施するこ とができる。 第 2図に示す成膜装置は、 プライマー層形成部 4、 ハードコート層 形成部 5、 反射防止層形成部 6、 及び防汚層形成部 7からなる。 反射防止層形成 部 6は、 無機酸化物薄膜を形成する成膜手段を有する 4つの成膜室 （6 a〜6 d ) からなる。 この成膜装置は、 基材フィルム上に、 ブライマー層、 ハードコート 層、 4層からなる反射防止層及び防汚層を連続的に成膜する連続装置である。 先ず、 ロール状に巻き取られた長尺の基材フィルム 3上に、 プライマー層形成 部 4及びハードコート層形成部 5において、 プライマー層及びハードコート層を 順次形成する。 プライマー層及びハードコート層の形成材料及び形成方法は上述 したとおりである。
次に、 反射防止層形成部 6の 4つの成膜室 （6 a〜6 d ) を順次通過させ、 そ れぞれの成膜室が有する成膜手段によって、 基材フィルムのハードコート層の表 面上に、 複数の薄膜を順次積層することで、 計 4層からなる反射防止層を形成す る。 ここで、 反射防止層の成膜手段としては特に制限されず、 公知の成膜手段を 採用できるが、 無機酸化物薄膜を成膜する場合には、 イオンプレーティング法、 スパッタリング法、 真空蒸着法、 無電解めつき法、 電気めつき法のいずれかの成 膜手段であるのが好ましい。
次いで、 反射防止層が形成された基材フィルムを防污層形成部 7に送り込み、 反射防止層上に防汚層を形成する。 防汚層の形成材料及び形成方法は上述したと おりである。 表面に防汚層が形成された基材フィルム （偏光板保護フィルム） 8 は、 ロール状に卷き取られ、 保存 ·運搬することができる。
反射防止層を形成する装置の別の態様として、 第 3図に示す装置が挙げられる 。 第 3図に示す連続真空スパッタ成膜装置は、 真空室 6 e内に、 巻き出しロール 1 0 a、 ガイド口一ノレ 9 a、 9 b、 9 c、 9 d、 成膜ローノレ 1 0 b、 ターグット l l a、 1 1 bを備えた成膜力ソード 1 2 a、 1 2 b、 卷き取りロール 1 0 c、 真空ポンプ 1 3を備えている。 そして、 ロール状に卷かれた長尺のハードコート 層積層フィルム 3 aは、 巻き出しロール 1 0 aに装填されている。
なお、 第 3図に示す連続真空スパッタ成膜装置ではターゲット及ぴ成膜カソー ドをそれぞれ 2つ備えているが、 これらの設置数は特に制限されない。
まず、 装填されたハードコート層が積層された基材フィルム 3 aは、 巻き出し ロール 1 0 aから卷き出された後、 複数のガイドロール 9 a、 9 bに導かれて、 成膜ロール 1 0 bに外接し、 さらに別のガイドロール 9 c、 9 dを経て、 卷き取 りローノレ 1 0 cに至るようになっている。 成膜ロール 1 0 bの周りにターゲット 1 1 a、 l i bを備えた成膜力ソード 1 2 a、 1 2 bが設置されており、 スパッ タリングで成膜ロール 1 0 bに巻回された基材フィルム 3 aの表面に低屈折率層 及び高屈折率層が連続的に成膜される。 次いで、 高屈折率層及び低屈折率層が積 層されたハードコート層が積層された基材フィルム 3 aは、 反対側のガイドロー ノレ 9 c、 9 dに導かれ、 巻き取りロール 1 0 cにより卷き取られる。
ここで、 成膜ロール 1 0 bの温度 T s (°C) は、 基材フィルムに使用する樹脂 材料のガラス転移温度を T g (°C) とすると、 （T g— 1 3 0 ) (°C) < T s ( °C) < T g (°C) の範囲にすることが好ましい。 成膜ロールの温度 T sを前記範 囲とすることにより、 高屈折率層及び低屈折率層がハードコート層積層フィルム 全面に均一に積層することができ、 それにより反射率の均一な反射防止層を形成 させることができる。
このスパッタリングによる成膜の際、 真空室 6 eは真空ポンプ 1 3により常に 排気され、 図示しないが成膜に必要となる作用ガスや反応ガスがボンベにより導 入される。 作用ガスとしては、 不活性なガスが挙げられ、 具体的にはアルゴンな どの希ガスが用いられる。 反応性ガスとしては、 通常酸素が挙げられる。 真空室 内の圧力は、 通常 1 0— 2 〜1 0 - 5 P aの範囲である。
本発明にお！/、て、 低屈折率層及び高屈折率層をそれぞれ 2層以上形成させる場 合には、 第 3図に示すようなフィルム巻き取り式真空成膜装置を用いて卷き取り 方向などを順次変えて （例えば、 巻き取りロール 1 0 cを卷'き出しロールにし、 巻き出しロール 1 0 aを巻き取りロールにする。 ） 、 連続的に高屈折率層及び低 屈折率層を形成させてもよいし、 第 3図に示すようなフィルム巻き取り式真空成 膜装置を 2連に連接して、 連続的に低屈折率層及び高屈折率層を形成させるよう にしてもよい。
なお、 本実施形態では、 計 4層からなる反射防止層を連続成膜することにより 偏光板保護フィルムを製造しているが、 反射防止層の層構成はこれに限定される ものではなく、 単層、 あるいは 2層や 3層、 5層以上の多層からなる反射防止層 も同様の方法により形成することができる。
また、 複数の反射防止層を連続成膜する場合及び反射防止層の上に防汚層を成 膜する場合においては、 反射防止層間あるいは反射防止層と防汚層との層間密着 性を高めるために、 反射防止層の表面に表面改質処理を施すこともできる。 表面 改質処理を行うことにより、 反射防止層間あるいは反射防止層と防汚層との密着 性を向上させることができる。 表面改質処理する方法としては、 前述したェネル ギ一線照射処理や薬品処理などが挙げられる。
以上のようにして製造される偏光板保護フィルムの層構成の一例を第 4図に示 す。 第 4図に示す偏光板保護フィルム 8 1は、 図中下側から、 基材フィルム層 1 4、 プライマー層 2 1、 ハードコート層 3 1、 第 1の反射防止膜 4 1 a、 第 2の 反射防止膜 4 1 b、 第 3の反射防止膜 4 1 c、 第 4の反射防止膜 4 1 dの 4層か らなる反射防止層 4 1、 及ぴ防汚層 5 1からなつている。
本発明の製造方法により得られる偏光板保護フィルムは、 層間密着性に優れて おり、 高温、 高湿度下に長時間置いた場合であっても、 層間剥離等が起こること がない。
3 ) 反射防止機能付偏光板
本発明の反射防止機能付偏光板は、 本発明の偏光板保護フィルムの基材フィル ムの反射防止層が設けられていない側の一面に、 偏光板が積層されてなることを 特 ί敫とする。
本発明で使用できる偏光板は、 偏光板としての機能を有するものであれば、 特 に限定はされない。 例えば、 ポリビュルアルコール （P VA) 系やポリェン系の 偏光板が挙げられる。
偏光板の製造方法は特に限定されない。 P V Α系の偏光板を製造する方法とし ては、 P VA系フィルムにヨウ素イオンを吸着させた後に一軸に延伸する方法、 P VA系フィルムを一軸に延伸した後にヨウ素イオンを吸着させる方法、 P VA 系フィルムへのヨウ素イオン吸着と一軸延伸とを同時に行う方法、 P VA系フィ ルムを二色性染料で染色した後に一軸に延伸する方法、 P V A系フィルムを一軸 に延伸した後に二色性染料で吸着する方法、 P V A系フィルムへの二色性染料で の染色と一軸延伸とを同時に行う方法が挙げられる。 また、 ポリェン系の偏光板 を製造する方法としては、 P VA系フィルムを一軸に延伸した後に脱水触媒存在 下で加熱 ·脱水する方法、 ポリ塩ィヒビニル系フィルムを一軸に延伸した後に脱塩 酸触媒存在下で加熱 ·脱水する方法等の公知の方法が挙げられる。 本発明の反射防止機能付偏光板は、 本発明の偏光板保護フィルムの基材フィル ムの反射防止層が設けられていない側の一面に、 偏光板を積層することにより製 造することができる。
偏光板保護フィルムと偏光板との積層は、 接着剤や粘着剤等の適宜な接着手段 を用いて貼り合わせることができる。 接着剤又は粘着剤としては、 例えば、 ァク リル系、 シリコーン系、 ポリエステル系、 ポリウレタン系、 ポリエーテノレ系、 ゴ ム系等が挙げられる。 これらの中でも、 耐熱性や透明性等の観点から、 アクリル 系のものが好ましい。
本発明の反射防止機能付偏光板の層構成断面図を第 5図に示す。 第 5図に示す 反射防止機能付偏光板 9 1は、 本発明の偏光板保護フィルムの反射防止層 4 1が 設けられていない面側に、 接着剤又は粘着剤層 7 1を介して、 偏光板 6 1が積層 された構造を有している。 .
本発明の反射防止機能付偏光板においては、 偏光板の本発明の偏光板保護フィ ルムが積層されていない方の面に、 接着剤又は粘着剤層を介して、 別の保護フィ ルムが積層されていてもよい。 保護フィルムとしては、 光学異方性が小さい材料 からなるものが好ましい。 光学異方性が小さい材料としては、 特に制限されず、 例えばトリァセチルセルロースなどのセルロースエステルや脂環式構造含有重合 体樹脂などが挙げられるが、 透明性、 低複屈折性、 寸法安定性などに優れる点か ら脂環式構造含有重合体樹脂が好ましい。 脂環式構造含有重合体樹脂としては、 本発明の基材フィルムの部分で記載したものと同様のものが挙げられる。 接着剤 又は粘着剤としては、 偏光板保護フィルムと偏光板との積層に用いる接着剤又は 粘着剤と同様のものが挙げられる。 本発明の反射防止機能付偏光板の厚みは、 特 に制限されないが、 通常 6 0 μ ηιから 2 mmの範囲である。
本発明の反射防止機能付偏光板は、 高温 ·高湿度の環境下に長時間置かれた場 合であっても、 全体に反りや変形、 歪み等が生じ難レ、構造の偏光板となっている
4 ) 光学製品
本発明の光学製品は、 本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とす る。 本発明の光学製品の好ましい具体例としては、 液晶表示装置、 タツチパネル 、 エレク ト口ルミネッセンス表示装置等が挙げられる。
本発明の反射防止機能付偏光板を備える光学製品の一例として、 本発明の反射 防止機能付偏光板を備える液晶表示装置の層構成例を第 6図に示す。 第 6図に示 す液晶表示装置は、 下から順に、 偏光板 101、 位相差板 102、 液晶セル 10 3、 及び本発明の反射防止機能付偏光板 91からなる。 反射防止機能付偏光板 9 1は、 液晶セル 103上に、 接着剤又は粘着剤 （図示を省略） を介して、 偏光板 面と貼り合わせて形成されている。 液晶セル 103は、 例えば第 7図に示すよう に、 透明電極 104を備えた電極基板 105の 2枚をそれぞれ透明電極 104力 S 対向する状態で所定の間隔をあけて配置するとともに、 その間隙に液晶 106を 封入することにより作製される。 第 7図中、 107はシールである。
液晶 106の液晶モードは特に限定されない。 液晶モードとしては、 TN (T w i s t e d Nema t i c) 型、 STN (Su p e r Tw i s t e d N e m a t i c ) 型、 HAN (Hy b r i d A l i g nme n t Nema t i c) 型、 VA (Ve r t i c a l A l i g nme n t) 型、 MVA (Mu 1 t i p l e Ve r t i c a l A l i g nme n t) 型、 I P S ( I n P 1 a n e Sw i t c h i n g) 型、 OCB (Op t i c a l C omp e n s a t e d B e n d) 型等が挙げられる。
また、 第 7図に示す液晶表示装置は、 印加電圧が低い時に明表示、 高い時に暗 表示であるノーマリーホワイトモードでも、 印加電圧が低い時に暗表示、 高い時 に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。
本発明の光学製品は、 高温 ·高湿度下での使用における変形や応力が生じるこ とがなく耐久性に優れる本発明の反射防止機能付き偏光板を備える。 従って、 高 温 ·高湿度下で長時間にわたって使用する場合であっても、 表示パネル端部の色 抜けや、 表示パネル面内の色相のバラツキ等がないものである。
(実施例）
次に、 実施例により本発明をさらに詳細に説明する。 本発明は以下の実施例に 限定されるものではない。 (1) 分子量及び分子量分布
ゲル ·パーミエーシヨン 'クロマトグラフィーにより測定し、 ポリイソプレン 換算値にて算出した。
(2) ガラス転移温度 （Tg)
J I S K 71 21に基づいて測定した。
(3) メノレトフローレート
J I S K 671 9に基づいて、 280 °C、 2. 1 6 k g f の荷重で測定した
(製造例 1 )
7, 8—べンゾトリシクロ [4. 3. 0. 12 · 5 ] デカー 3—ェン （慣用名 ：メタノテトラヒ ドロフルオレン。 以下、 MTFと略記する。 ） 、 テトラシクロ
[4. 4. 0. 12 · 5 . 17 · 1 0 ] -ドデ力一 3—ェン （慣用名 ：テトラシ クロドデセン。 以下、 T CDと略記する。 ） 、 及びトリシクロ [4. 3. 0. 1 2 ' 5 ] デカー 3， 7—ジェン （1貧用名 ： ジシクロペンタジェン。 以下、 DCP と略記する。 ） を、 MTF/TCD/DCP= 26. 8/35/38. 2の重量 比で含む混合物を公知の方法で開環重合し、 次いで水素添加して MT F/TCD /DCP開環共重合体水素添加物 1を得た。 この開環共重合体水素添加物 1の重 量平均分子量 （Mw) は 41, 000、 MWD (=重量平均分子量 Z数平均分子 量） は 2. 1、 ガラス転移温度 （Tg) は 136°C、 メノレトフローレートは 4. 2 g/10分であった。
この開環共重合体水素添加物 1の 100重量部に対して 0. 2重量部のフエノ ール系老化防止剤ペンタエリスリチルーテトラキス （3— (3， 5—ジ一ターシ ャリーブチルー 4ーヒ ドロキシフエニル） プロピオネート） を混合し、 二軸混練 機で混練し、 ストランド （棒状の溶融樹脂） をストランドカッターに通してペレ ット (粒状) 状の成形材料を得た。
(製造例 2 )
DCP及ぴビシクロ [4. 2. 1] ヘプト一 2—ェン （慣用名 ： ノルボルネン 。 以下、 NBと略記する。 ） を、 DCP/NB = 80/20の重量比で含む混合 物を公知の方法で開環重合し、 次いで水素添加して DC P/NB開環共重合体水 素添加物 2を得た。 この開環共重合体水素添加物 2の Mwは 43, 000、 MW Dは 3. 2、 T gは 70°C、 メルトフローレートは 23 gZl 0分であった。 得 られた開環共重合体水素添加物 2を用いて、 製造例 1と同様にしてペレツト (粒 状） 状の成形材料を得た。
(製造例 3) ハードコート剤の調製
6官能ウレタンアタリレートオリゴマー (新中村化学社製、 商品名 「NKオリ ゴ U— 6 HAJ ) 30部、 プチルァクリレート 40部、 ィソボロニルメタクリ レート (新中村化学社製、 商品名 「NKエステル I BJ ) 30部、 2， 2—ジ メ トキシ一 1， 2—ジフエニルェタン一 1一オン 10部をホモジナイザーで混合 して紫外線硬化性榭脂組成物からなるハードコート剤を調整した。
(製造例 4) プライマー溶液の調製
無水マレイン酸変性スチレン ·ブタジエン ·スチレンプロック共重合体の水素 添加物 (旭化成社製、 タフテック Ml 913、 メルトインデックス値は 200°C 、 5 k g荷重で 4. O g/10分、 スチレンプロック含量 30重量0 /0、 水素添加 率 80%以上、 無水マレイン酸付加量 2%) 2部を、 キシレン 8部とメチルイソ プチルケトン 40部の混合溶媒に溶解し、 孔径 Ι μπιのポリテトラフルォロェチ レン製のフィルターをろ過して、 完全な溶液のみをプライマー溶液として調整し た。
(実施例 1 )
製造例 1で得られたペレツトを、 空気を流通させた熱風乾燥機を用いて 110 °Cで、 4時間乾燥した。 そしてこのペレットを、 リーフディスク形状のポリマー フィルター （ろ過精度 30 m) を設置した 65 mm φのスクリューを備えた樹 脂溶融混練機を有する Tダイ式フィルム溶融押出し成形機を使用し、 内面に表面 粗さ R a = 0. 15 μ mのクロムメツキを施した 350 m m幅の T型ダイスを用 いて溶融樹脂温度 260°C及びダイス温度 260°Cで押出し、 押出されたシート 状 MTF/TCDZDCP開環共重合体水素添加物 1を、 第 1冷却ドラム （直径 25 Omm, 温度： 135°C、 周速度 : 14. 50 mZ分） に密着させ、 次 いで第 2冷却ドラム （直径 2 5 0mm、 温度： 1 2 5°C、 周速度 R2 : 1 4. 4 6m/分） 、 次いで第 3冷却ドラム （直径 2 5 0mm, 温度： 1 0 0°C、 周速度 R3 : 1 4. 4 6m//分） に順次密着させて移送し、 長さ 3 0 0m、 膜厚 4 0 mの基材フィルム 1 Aを押出成形した。 得られた長尺の基材フィルム 1 Aは、 口 ール状に卷き取った。 また、 この基材フィルム 1 Aの揮発性成分の含有量は 0. 0 1重量％以下、 飽和吸水率は 0. 0 1重量％以下であった。
この基材フィルム 1 Aの両面に、 高周波発振機 (コロナジェネレーター HV 0 5— 2、 T a m t e c社製） を用いて、 出力電圧 1 0 0%、 出力 2 5 0Wで、 直 径 1. 2mmのワイヤー電極で、 電極長 24 0mm、 ワーク電極間 1. 5mmの 条件で 3秒間コロナ放電処理を行い、 表面張力が 0. 0 7 2NZmになるように 表面改質した基材フィルム 1 Bを得た。 このフィルムは再度ロール状に巻き取つ た。
製造例 4で得られたプライマー溶液を、 前記表面改質した基材フイルム 1 Bの 表面改質処理を行った面のうち片面に、 乾燥後のプライマー層の膜厚が 0. 5 μ mになるように、 ダイコーターを用いて塗布し、 8 0°Cの乾燥炉中で 5分間乾燥 させて、 プライマー層を有する基材フィルム 1 Cを得た。
プライマー層を有する基材フィルム 1 Cのプライマー層を有する方の面に、 製 造例 3で得たハードコート剤を硬化後のハードコート層の膜厚が 5 mになるよ うに、 ダイコーターを用いて連続的に塗布した。 次いで、 8 0°Cで 5分間乾燥さ せた後、 紫外線照射 （積算光量 3 0 0m j/c m2 ) を行い、 ハードコート剤を 硬化させ、 ハードコート層付きフィルム 1 Dを得た。 このハードコート層付きフ イルム 1 Dは、 ロール状に卷き取った。 硬化後のハードコート層の膜厚は 5 μπι であった。
次いで、 上記ハードコート層付フィルム 1 Dの長尺ロールを、 第 3図に示すよ うな連続真空スパッタ成膜装置内に装填し、 内部を真空排気した。 真空チャンバ 一の圧力が 1 X 1 0-5 P aとなった時点でスパッタリング法による成膜を開始 し、 成膜ロールにより温度 8 0 で、 低屈折率層 （S i 02層） と高屈折率層 （ I TO層） が交互に積層されてなる、 合計 4層からなる反射防止層を形成した。 反射防止層の厚みは、 ハードコート層側から第 1の S i 02層： 20 nm、 第 1 の I TO層： 30 n m、 第 2の S i 02層： 40 n m、 第 2の I TO層： 100 n mであつに。
次いで、 防汚層としてフッ素系表面防汚コーティング剤 (ダイキン工業社製、 ォプツール D S X) をパーフルォ口へキサンで 0. 1重量％に希釈して、 デイツ プコート法により塗布した。 塗布後、 60°Cで 1分間加熱乾燥して厚さ 5 n の 防汚層を形成させた。
以上のようにして、 第 4図に示すのと同様な層構造を有する偏光板保護フィル ム 1 Eを得た。
(比較例 1 )
基材フィルム 1 Aに代えて、 厚さが 50 μπιのトリァセチルセルロースフィル ム （商品名：フジタック、 富士写真フィルム製、 基材フィルム 2 Αとする。 ） を 使用する以外は、 実施例 1と同様にして操作して、 比較例 1の偏光板保護フィル ム 2 Eを得た。
(比較例 2)
基材フィルム 1 Aに代えて、 厚さが 50 μηιのポリエチレンテレフタレートフ イルム （商品名 ：ルミラー T60 # 50、 東レ製、 基材フィルム 3 Aとする。 ） を使用する以外は、 実施例 1と同様にして操作して、 比較例 2の偏光板保護フィ ルム 3 Eを得た。
(比較例 3 )
製造例 1で得たぺレットに代えて製造例 2で得たぺレットを使用し、 溶融樹脂 温度及ぴダイス温度を 200 にし、 第 1冷却ドラムの温度を 75 °C、 第 2冷却 ドラムの温度を 65 °C、 第 3冷却ドラムの温度を 55 °Cとした以外は実施例 1と 同様に操作して、 比較例 3の基材フィルム 4 Aを得た。 また、 実施例 1と同様に して比較例 3の偏光板保護フイルム 4 Eを得た。
基材フィルムの性能評価試験
実施例 1及び比較例 1〜 3で用いた基材フィルム 1 A〜 4 Aの光弾性係数、 飽 和吸水率、 反り率及び揮発性成分の含有量を下記に示す方法により測定した。 (光弾性係数）
基材フィルムに 50〜150 gの範囲で荷重を加えながら、 フィルム面内のレ ターデーシヨンをレターデーシヨン測定装置 （王子計測機器 （社） 製、 「KOB RA— 21ADH」 ） を用いて測定し、 これをフィルムの厚みで割って複屈折値 厶 nを求める。 荷重を変えながら Δηを求め、 荷重一 Δη曲線を作成し、 その傾 きを光弾性係数とした。
(飽和吸水率）
ASTM D 530に従い、 23 で 1週間浸漬して増加重量を測定すること により求めた。
(反り率）
基材フィルムを切断して、 10 OmmX 100mmの試験片とし、 このものを 60°C、 95 RH%で 500時間放置した後、 試験後の試験片を、 上に凹の状態 になる向きに水平な定盤上に置き、 定盤面と、 定盤面からもっとも遠い部分の下 側までの距離]！ (mm) をノギスで測定し、 その距離の試験片の長さに対する割 合として求めた。 すなわち、 式：反り率 （％) =h/l 00 X 100で求めた。
(揮発性成分の含有量）
ガスクロマトグラフィーにより、 分子量 200以下の物質の合計量を計算した 吸水率、 光弾性係数、 反り率及び揮発性成分の含有量を測定した結果を第 1表 に示す。
偏光板保護フィルムの性能評価試験
実施例 1、 比較例 1〜 3で得た偏光板保護フイルム 1 E〜 4 Eのガスバリァ性 及び密着性を、 以下に示す試験を行い評価した。 評価結果を第 1表に示す。
(ガスバリア試験）
偏光板保護フィルムの酸素ガス透過率及び水蒸気透過率を下記に示す測定装置 及び測定条件で測定した。 評価結果を下記第 1表に示す。
酸素ガス透過率：酸素ガス透過率測定装置 （OX— TRAN 2/20、 MO CON社製） を用いて、 温度 23°C、 湿度 90%RHで測定した。 水蒸気透過率：水蒸気透過率測定装置 （P ERMATRAN—W3/3 1、 M OCON社製） を用いて、 温度 3 8°C、 湿度 1 0 0%RHで測定した。
(密着性試験）
初期と耐久試験後 （6 5。C、 9 5%RHに 5 0 0時間放置後） における偏光板 保護フィルムの密着性試験を、 クロスカット法による剥離試験で行った。 防汚層 の上からカッターにより 1 mm間隔で縦横互いに直角に交わる各 1 1本の切れ目 を入れ、 1 mm四方の碁盤目を 1 0 0目作り、 その碁盤目にセロハン粘着テープ
(積水化学社製） を貼り、 これを貼った表面に対して垂直方向に引っ張って剥が し、 1 0 0目中剥離しなかった目の数で評価した。 評価結果を第 1表に示す。
(反射率）
分光光度計 （日本分光社製： 「紫外可視近赤外分光光度計 V— 5 7 0」 ） を 用い、 入射角 5° にて反射スぺク トルを測定し、 波長 5 5 O nmの反射率を求め た。
液晶表示素子の作製
(1 ) 反射防止機能付偏光板の製造
重合度 240 0、 厚さ 7 5 μπιのポリビュルアルコールフィルムを、 ヨウ素と ョゥ化カリゥム配合の 4 0°Cの染色浴に浸漬して染色処理を行った後、 ホウ酸と ョゥ化カリウムを添カ卩した 6 0 °Cの酸性浴中で総延伸倍率が 5. 3倍となるよう に延伸処理と架橋処理を行った。 水洗処理した後、 4 0°Cで乾燥して、 厚さ 2 8 μ mの偏光板を得た。
実施例 1で得た偏光板保護フイルム 1 Eの基材フィルム面側に、 アタリル系接 着剤 （住友スリーェム社製、 「DP— 8 0 0 5クリア」 ） を介して、 上記偏光板 を張り合わせ、 また偏光板のもう片方の面側に、 アクリル系接着剤を介して、 表 面改質した基材フイルム 1 Bを貼り合わせて、 反射防止機能付偏光板 1 Fを作製 した。 また、 偏光板保護フィルム 2 E〜4 Eを用いて同様の操作を行って、 反射 防止機能付偏光板 2 F〜 4 Fをそれぞれ得た。
(2) 液晶表示素子の作製
プラスチックセル基板を使用した液晶表示セル （3インチ、 プラスチック基板 の厚さ 4 0 0 μ m) を準備し、 これのフロント側と、 上記で得た反射防止機能付 偏光板 1 F〜 4 Fの偏光板側とを貼り合わせた。 また、 もう 1枚の偏光板を用意 し、 これをリア用として、 液晶表示セルの反対面に貼り合わせて、 液晶表示素子 をそれぞれ作製した。 この液晶表示素子を 6 0 °C、 9 5 % R Hの環境下で 5 0 0 時間放置した後、 照度 3 3 0 0 0ルックス （L u x ) のバックライ トの上に置き 、 液晶セルのパネル端部の色抜けや、 パネル面内の色相のばらつきを目視観察し た。 パネル端部付近での光漏れがなく、 均一な黒表示が得られた場合を〇、 パネ ル端部付近で多少の光漏れが見られた場合を△、 パネル端部から離れたところ ( パネル面内) でも光漏れが見られ、 色相のばらつきが見られた場合を Xとして評 価した。 評価結果を第 1表に示す。
第 1 表
Figure imgf000032_0001
(樹脂材料）
a: MTF/TCDZDCP開環共重合体水素添加物 1
b:トリァセチルセルロース
c:ポリエチレンテレフタレ一卜
d： DCPZNB開環共重合体水素添加物 2
(* 1) 65°C95RH%500hr
(*2) cm3/m'/day/atm
(*3) g/m'/day/atm 第 1表より、 実施例 1の偏光板保護フィルムは、 基材フィルムの光弾性係数が 9 X 10— 1 2 P a— 1 未満、 飽和吸水率が 0. 05 %未満であり、 かつ基材フ イルムを構成する樹脂材料を平均厚み 50 μηι、 大きさ 10 OmmX 1 0 Omm のフィルムに成形し、 60 °C、 湿度 95 %の雰囲気下に 500時間放置したとき の反り率が 1 %以下であるので、 反射防止層を形成する前に基材フィルムの乾燥 を行わなくとも、 反射防止層を形成した後において、 フィルムがカールしたり、 複雑な形状に変形することがない。 また、 偏光板と貼り合わせたときの密着性も 良好である。 また、 実施例 1で得られた偏光板保護フィルムに反射防止層を形成 した偏光板保護フィルムは、 ガスパリァ性に優れており、 偏光板を貼りあわせた 後、 液晶表示装置に組み込んで、 高温，高湿度環境下に長時間放置した後でも、 パネル端部に色抜けなどが見られない。
一方、 比較例 1及び 2の偏光板保護フィルムは、 基材フィルムの光弾性係数、 飽和吸水率が大きく、 かつ及び基材フィルムを構成する榭脂材料を平均厚み 5 0 μ τ , 大きさ 1 0 O mm X 1 0 0 mmのフィルムに成形し、 6 0。C、 湿度 9 5 % の雰囲気下に 5 0 0時間放置したときの反り率が大きいので、 反射防止層を形成 した後においてフィルム全体がカールしていた。 そのため、 偏光板と貼り合せる 場合には、 カールしたフィルムを一旦平坦化する必要があり、 作業効率に劣る。 比較例 1の偏光板保護フィルムに反射防上層を形成した偏光板保護フィルムは、 ガスバリア性及び密着性に劣る。 また、 偏光板を貼り合わせた後、 液晶表示装置 に組み込んで、 高温 ·高湿度環境下に長時間放置した場合、 パネルは端部付近に おいて光漏れが認められる。 比較例 2の偏光板保護フィルムは、 ガスパリァ性に 優れるものの、 偏光板を貼り合わせた後、 液晶表示装置に組み込んで、 高温-高 湿度環境下に長時間放置した場合、 パネル端部のみならず、 端部から離れたとこ ろからも光漏れが認められる。
比較例 3の偏光板保護フィルムは、 基材フィルムの光弾性係数、 飽和吸水率は 実施例 1で使用している基材フィルムと同等であるが、 基材フィルムを構成する 樹脂材料を平均厚み 5 0 μ πι、 大きさ 1 0 O mm X 1 0 O mmのフィルムに成形 し、 6 0 °C、 湿度 9 5 %の雰囲気下に 5 0 0時間放置したときの反り率が大きい 。 そのため、 初期の密着性、 ガスパリア性は実施例 1の偏光板保護フィルムと同 等であるが、 反射防止層を形成した後に、 カールが発生していた。 従って、 偏光 板と貼り合わせる際においては、 平坦化の作業が必要であり、 作業効率に劣る。 比較例 3の偏光板保護フィルムは、 偏光板を貼り合わせた後、 液晶表示装置に組 み込んで、 高温 *高湿度環境下に長時間放置した場合、 パネル端部付近において 光漏れが認められる。 産業上の利用可能性
本発明によれば、 高温 ·高湿度環境下に長時間置かれた場合であっても、 反り や変形、 歪み等が生じ難い構造の偏光板保護フィルムが提供される。 また、 本発 明の偏光板保護フィルムは密着性に優れる。
本発明の製造方法によれば、 本発明の偏光板保護フィルムを効率よく製造する ことができる。 本発明においては、 光弾性係数、 吸水率及ぴ反り率が低い基材フ イルムを用いるので、 反射防止層を形成する前に、 特別にフィルムを乾燥する必 要がなくなる。
本発明の反射防止機能付偏光板は、 本発明の偏光板保護フィルムを用いるもの であり、 しかもガスバリア性に優れる。 従って、 この反射防止機能付偏光板を、 液晶表示装置等の光学製品の液晶表示素子に組み込み、 高温 ·高湿度環境下に長 時間放置した場合であっても、 優れた表示性能が維持される。
本発明の光学製品は、 本発明の反射防止機能付偏光板を備えるので、 耐熱性及 び耐湿性に優れるものである。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 樹脂材料からなる基材フィルムの少なくとも一面に、 直接又はその他の層を 介して反射防止層が積層されてなる偏光板保護フィルムであって、 前記基材フィ ルムの光弾性係数が 9 X 1 0— 1 2 P a— 1 未満、 飽和吸水率が 0 . 0 5 %未満 であり、 かつ、 前記基材フィルムを構成する樹脂材料を、 平均厚み 5 0 /z m、 大 きさ 1 0 O mm X 1 0 0 mmのフィルムに成形し、 6 0 °C、 湿度 9 5 %の雰囲気 下に 5 0 0時間放置したときの反り率が 1 %以下であることを特徴とする偏光板 保護フィルム。
2 . 前記樹脂材料が、 脂環式構造含有重合体樹脂を含むものであることを特徴と する請求項 1に記載の偏光板保護フィルム。
3 . 前記反射防止層が、 無機酸化物の単層膜若しくは 2層以上の多層膜であるこ とを特徴とする請求項 1又は 2に記載の偏光板保護フィルム。
4 . 樹脂材料からなる基材フィルム表面上、 又はその他の層が形成された基材フ イルムの当該その他の層表面上に反射防止層を形成する工程を有する偏光板保護 フィルムの製造方法であって、 前記反射防止層を、 イオンプレーティング法、 ス パッタリング法、 真空蒸着法、 無電解めつき法、 電気めつき法又はこれらを組み 合わせた方法のいずれかの方法により形成することを特徴とする、 請求項 1〜 3 のいずれかに記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
5 . 前記反射防止層を形成する工程が、 基材フィルムの表面上、 又は表面にその 他の層が形成された基材フィルムの当該その他の層の表面上に、 複数の無機酸ィ匕 物薄膜を順次積層することにより反射防止層を形成するものであって、
前記基材フィルム又は表面上にその他の層が形成された基材フイルムを、 無機 酸化物薄膜を形成する成膜手段を有する複数の成膜室を順次通過させ、 それぞれ の成膜室が有する成膜手段によって、 前記基材フィルム表面上、 又はその他の層 が形成された基材フィルムの当該その他の層の表面上に、 複数の無機酸化物薄膜 を順次積層する工程であることを特徴とする請求項 4に記載の偏光板保護フィル ムの製造方法。
6 . 前記基材フィルムが、 脂環式構造含有重合体樹脂を含む樹脂材料からなるフ ィルムであることを特徴とする請求項 4又は 5に記載の偏光板保護フィルムの製 造方法。
7 . 請求項 1〜 3のいずれかに記載の偏光板保護フィルムの基材フィルムの反射 防止層が設けられていない側の一面に、 偏光板が積層されてなることを特徴とす る反射防止機能付偏光板。
8 . 請求項 7に記載の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする光学製品
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006178123A (ja) * 2004-12-22 2006-07-06 Nippon Zeon Co Ltd 反射防止積層体、偏光板及び、液晶表示装置
JP2007233333A (ja) * 2006-02-01 2007-09-13 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
JP2010286572A (ja) * 2009-06-10 2010-12-24 Topcon Corp 反射防止膜を有する光学素子及び医療用光学機器
US8173202B2 (en) * 2009-01-06 2012-05-08 Innovation & Infinity Global Corp. Multi-layer coating structure with anti-reflection, anti-static and anti-smudge functions and method for manufacturing the same
JPWO2012014653A1 (ja) * 2010-07-27 2013-09-12 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法及び電子デバイス
JP2015221528A (ja) * 2014-05-23 2015-12-10 株式会社太洋工作所 メッキ樹脂製品
WO2018092657A1 (ja) * 2016-11-18 2018-05-24 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム、偏光板保護フィルム、およびこれらを含む偏光板、ならびにこれらを含む表示装置
JP2018104825A (ja) * 2018-03-22 2018-07-05 株式会社太洋工作所 メッキ樹脂製品
WO2019088192A1 (ja) * 2017-11-06 2019-05-09 日東電工株式会社 反射防止層付偏光板およびその製造方法
KR20190099400A (ko) * 2016-12-28 2019-08-27 니폰 제온 가부시키가이샤 광학 필름 및 편광판
JPWO2018101204A1 (ja) * 2016-11-30 2019-10-24 日本ゼオン株式会社 偏光板、及び、偏光板の製造方法
JP2021012390A (ja) * 2016-10-31 2021-02-04 富士フイルム株式会社 光学フィルムおよび液晶表示装置
WO2022014568A1 (ja) * 2020-07-13 2022-01-20 日東電工株式会社 防汚層付き光学フィルム

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5098640B2 (ja) * 2005-02-28 2012-12-12 株式会社ニコン 光学素子及び光学素子の製造方法
JP4652122B2 (ja) * 2005-05-18 2011-03-16 株式会社日立製作所 投射型映像表示装置、それに用いる光学部材及び光学ユニット
WO2009081596A1 (ja) * 2007-12-20 2009-07-02 Toppan Printing Co., Ltd. 反射防止フィルム
JP2010181871A (ja) * 2009-01-06 2010-08-19 Toppan Printing Co Ltd 反射防止フィルム
US10077207B2 (en) 2011-11-30 2018-09-18 Corning Incorporated Optical coating method, apparatus and product
CN104321290A (zh) * 2011-11-30 2015-01-28 康宁股份有限公司 具有光学涂层和易清洁涂层的玻璃制品的制备方法
US9957609B2 (en) 2011-11-30 2018-05-01 Corning Incorporated Process for making of glass articles with optical and easy-to-clean coatings
EP3696293A1 (en) * 2011-11-30 2020-08-19 Corning Incorporated Optical coating method, apparatus and product
KR101462579B1 (ko) * 2013-02-06 2014-11-18 동우 화인켐 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치
CN104880857B (zh) 2015-06-30 2018-01-09 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、显示面板和显示装置
JP6781818B2 (ja) * 2017-03-06 2020-11-04 日東電工株式会社 光学機能層付光学部材
JP7121070B2 (ja) * 2020-05-21 2022-08-17 デクセリアルズ株式会社 反射防止フィルム

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000336196A (ja) * 1999-03-23 2000-12-05 Dainippon Printing Co Ltd 積層フィルムの製造方法および反射防止フィルム
JP2001108826A (ja) * 1999-10-04 2001-04-20 Sekisui Chem Co Ltd 偏光子保護フィルム及びその製造方法と偏光板
JP2001147303A (ja) * 1999-11-22 2001-05-29 Sony Corp 機能フィルムの製造方法
JP2003039599A (ja) * 2001-07-27 2003-02-13 Nippon Zeon Co Ltd 樹脂積層体
JP2003062943A (ja) * 2001-08-28 2003-03-05 Nippon Zeon Co Ltd 樹脂積層体

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2977274B2 (ja) * 1989-12-26 1999-11-15 日本ゼオン株式会社 成形用材料および成形品
US6793981B2 (en) * 1999-03-23 2004-09-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Process for producing laminated film, and reflection reducing film
KR100679785B1 (ko) * 1999-09-13 2007-02-07 닛토덴코 가부시키가이샤 광학 보상 필름, 광학 보상 편광판 및 액정 디스플레이 장치
DE10034158C2 (de) * 2000-07-10 2003-05-15 Fraunhofer Ges Forschung Reflexionsmindernde Beschichtung aus einem Wechselschichtsystem unterschiedlicher Schichtmaterialien mit jeweils niedrigerem und höherem Brechungsindex

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000336196A (ja) * 1999-03-23 2000-12-05 Dainippon Printing Co Ltd 積層フィルムの製造方法および反射防止フィルム
JP2001108826A (ja) * 1999-10-04 2001-04-20 Sekisui Chem Co Ltd 偏光子保護フィルム及びその製造方法と偏光板
JP2001147303A (ja) * 1999-11-22 2001-05-29 Sony Corp 機能フィルムの製造方法
JP2003039599A (ja) * 2001-07-27 2003-02-13 Nippon Zeon Co Ltd 樹脂積層体
JP2003062943A (ja) * 2001-08-28 2003-03-05 Nippon Zeon Co Ltd 樹脂積層体

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006178123A (ja) * 2004-12-22 2006-07-06 Nippon Zeon Co Ltd 反射防止積層体、偏光板及び、液晶表示装置
JP2007233333A (ja) * 2006-02-01 2007-09-13 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
US8173202B2 (en) * 2009-01-06 2012-05-08 Innovation & Infinity Global Corp. Multi-layer coating structure with anti-reflection, anti-static and anti-smudge functions and method for manufacturing the same
JP2010286572A (ja) * 2009-06-10 2010-12-24 Topcon Corp 反射防止膜を有する光学素子及び医療用光学機器
JPWO2012014653A1 (ja) * 2010-07-27 2013-09-12 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法及び電子デバイス
JP5862565B2 (ja) * 2010-07-27 2016-02-16 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法及び電子デバイス
JP2016137710A (ja) * 2010-07-27 2016-08-04 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法及び電子デバイス
JP2015221528A (ja) * 2014-05-23 2015-12-10 株式会社太洋工作所 メッキ樹脂製品
JP2022066287A (ja) * 2016-10-31 2022-04-28 富士フイルム株式会社 光学フィルムおよび液晶表示装置
JP2021012390A (ja) * 2016-10-31 2021-02-04 富士フイルム株式会社 光学フィルムおよび液晶表示装置
JP7355869B2 (ja) 2016-10-31 2023-10-03 富士フイルム株式会社 光学フィルムおよび液晶表示装置
WO2018092657A1 (ja) * 2016-11-18 2018-05-24 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム、偏光板保護フィルム、およびこれらを含む偏光板、ならびにこれらを含む表示装置
JPWO2018101204A1 (ja) * 2016-11-30 2019-10-24 日本ゼオン株式会社 偏光板、及び、偏光板の製造方法
JP7040462B2 (ja) 2016-11-30 2022-03-23 日本ゼオン株式会社 偏光板、及び、偏光板の製造方法
KR20190099400A (ko) * 2016-12-28 2019-08-27 니폰 제온 가부시키가이샤 광학 필름 및 편광판
KR102638927B1 (ko) 2016-12-28 2024-02-20 니폰 제온 가부시키가이샤 광학 필름 및 편광판
KR20200038529A (ko) * 2017-11-06 2020-04-13 닛토덴코 가부시키가이샤 반사 방지층 부착 편광판 및 그 제조 방법
JP6999370B2 (ja) 2017-11-06 2022-01-18 日東電工株式会社 反射防止層付偏光板およびその製造方法
JP2019086605A (ja) * 2017-11-06 2019-06-06 日東電工株式会社 反射防止層付偏光板およびその製造方法
KR102405568B1 (ko) * 2017-11-06 2022-06-07 닛토덴코 가부시키가이샤 반사 방지층 부착 편광판 및 그 제조 방법
WO2019088192A1 (ja) * 2017-11-06 2019-05-09 日東電工株式会社 反射防止層付偏光板およびその製造方法
JP2018104825A (ja) * 2018-03-22 2018-07-05 株式会社太洋工作所 メッキ樹脂製品
WO2022014568A1 (ja) * 2020-07-13 2022-01-20 日東電工株式会社 防汚層付き光学フィルム
JPWO2022014568A1 (ja) * 2020-07-13 2022-01-20
JP7130893B2 (ja) 2020-07-13 2022-09-05 日東電工株式会社 防汚層付き光学フィルム
KR20230005423A (ko) * 2020-07-13 2023-01-09 닛토덴코 가부시키가이샤 방오층이 형성된 광학 필름
KR102518011B1 (ko) 2020-07-13 2023-04-04 닛토덴코 가부시키가이샤 방오층이 형성된 광학 필름
TWI811736B (zh) * 2020-07-13 2023-08-11 日商日東電工股份有限公司 附防汙層之光學膜

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