JPWO2006035674A1

JPWO2006035674A1 - 焼成用敷板及びこれを用いたハニカム成形体の焼成方法

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Publication number: JPWO2006035674A1
Application number: JP2006537701A
Authority: JP
Inventors: 野口　康; 康野口; 末信　宏之; 宏之末信; 中村　知雄; 知雄中村; 武彦渡邉
Original assignee: NGK Insulators Ltd
Current assignee: NGK Insulators Ltd
Priority date: 2004-09-27
Filing date: 2005-09-22
Publication date: 2008-05-15
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Abstract

焼成後の結晶相の主成分が被焼成体と同じであり、且つ被焼成体との接触面の表面粗さＲａが８〜５０μｍである焼成用敷板である。本発明の焼成用敷板によれば、製品であるハニカム焼成体のセル切れやセル欠けを発生させることなく、且つ膨張・収縮挙動のミスマッチによって生じる焼成キレ、セルよれ、クラック、変形や反応不良を発生させることなく、製品であるハニカム焼成体を製造する際の歩留まりの低下を防止することができる。

Description

本発明は、焼成用敷板（トチ）及びこれを用いたハニカム成形体の焼成方法に関する。

従来から、例えば、生素地であるハニカム成形体（セラミックスハニカム構造体）を焼成する際、例えば、図２に示すように、棚板１０上に焼成用敷板（トチ）６を載置し、更にその上にハニカム成形体２０を載置してトンネル炉や単独炉で焼成することが一般的であった。しかしながら、ハニカム成形体は、焼成工程において焼成収縮及び熱膨張を被り、その際、セラミック成形体と焼成用敷板（トチ）とが接触する接触面では、焼成用敷板（トチ）との焼成収縮差や熱膨張差により摩擦が発生する。この摩擦により、接触面で焼成後のハニカム成形体（ハニカム焼成体）にクラックが入ったり、クラックに到らずとも、接触面で希望する収縮が得られず、焼成後のハニカム成形体（ハニカム焼成体）が変形してしまうという問題点があった。

上記の問題点を解消するため、従来、焼成収縮の大きいハニカム成形体を焼成する焼成用敷板（トチ）は、ハニカム成形体と同一素地の成形体又は焼成体、更にハニカム成形体を所定の厚みにスライスし、面取り加工して作製されたものが使用されてきた。

特に、焼成用敷板（トチ）として、ハニカム成形体と同じ生素地を使用すると、焼成中の膨張・収縮挙動がハニカム成形体と同じであるため、膨張・収縮挙動のミスマッチによって生じる焼成キレ、セルよれ、クラックや変形の発生を防止することができる。また、上記焼成用敷板（トチ）を使用することにより、焼成後のハニカム成形体（ハニカム焼成体）に異質組成物が侵入し、汚染するといった反応不良が発生することがないという利点があった。

しかしながら、上記焼成用敷板（トチ）は、ハニカム成形体と同じ生素地を使用した場合、焼結時にハニカム成形体と焼成用敷板（トチ）とがくっつき、その後の焼成中や冷却中、くっついた焼成用敷板（トチ）から焼成後のハニカム成形体（ハニカム焼成体）を剥がす際に、製品であるハニカム焼成体にセル切れやセル欠けを発生させることがあった。

本発明は、上述した従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、製品であるハニカム焼成体と焼成用敷板（トチ）とのくっつきを大幅に抑制することができるため、製品であるハニカム焼成体のセル切れやセル欠けを発生させることなく、且つ膨張・収縮挙動のミスマッチによって生じる焼成キレ、セルよれ、クラック、変形や反応不良を発生させることなく、製品であるハニカム焼成体を製造する際の歩留まりの低下を防止することができる焼成用敷板（トチ）及びこれを用いたハニカム成形体の焼成方法を提供することにある。

上述の目的を達成するため、本発明は、以下の焼成用敷板（トチ）及びこれを用いたハニカム成形体の焼成方法を提供するものである。

即ち、本発明によれば、焼成後の結晶相の主成分が被焼成体と同じである焼成用敷板であって、被焼成体との接触面の表面粗さＲａが８〜５０μｍである焼成用敷板が提供される。

このとき、本発明の焼成用敷板では、開口率が、５０〜９０％のハニカム構造体であるセラミックス成形体から構成されていることが好ましい。

また、本発明の焼成用敷板では、被焼成体と同時に焼成したときにおける焼成後の結晶相の主な組成が、（１）コージェライト８５〜１００質量％、（２）シリコンカーバイド５０〜１００質量％、（３）アルミニウムチタネート５０〜１００質量％、のいずれか１つであることが好ましい。

更に、本発明の焼成用敷板では、被焼成体と同時に焼成したときにおける焼成後の気孔率が２０〜７０％であることが好ましい。

尚、本発明の焼成用敷板は、（１）〜（３）の条件をいずれか１つ以上満たすことが好ましい。
（１）被焼成体の直径±１０％の大きさで、且つその厚さが５〜５０ｍｍであること。
（２）被焼成体との接触面の外周角部を、３〜３０ｍｍの範囲で面取りしたものであること。
（３）被焼成体の形状が、直径１４０〜４００ｍｍ、高さ１５０〜４００ｍｍであること。

また、本発明によれば、以上の焼成用敷板を使用したハニカム成形体の焼成方法が提供される。

焼成用敷板（トチ）の一例を示す要部断面図である。焼成用敷板（トチ）の一例を示す概略斜視図である。ハニカム成形体の焼成時における棚板、焼成用敷板及びハニカム成形体の配置状態を示す説明図である。

符号の説明

１：本発明の焼成用敷板（トチ）、６：従来の焼成用敷板（トチ）、１０：棚板、２０：ハニカム成形体。

以下、本発明の焼成用敷板（トチ）及びこれを用いたハニカム成形体の焼成方法について詳細に説明するが、本発明は、これに限定されて解釈されるものではなく、本発明の範囲を逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて、種々の変更、修正、改良を加え得るものである。

図１（ａ）は焼成用敷板（トチ）の一例を示す要部断面図、図１（ｂ）は焼成用敷板（トチ）の一例を示す概略斜視図、図２は、ハニカム成形体の焼成時における棚板、焼成用敷板及びハニカム成形体の配置状態を示す説明図である。

本発明に係る焼成用敷板（トチ）の主な特徴は、焼成後の結晶相の主成分が被焼成体と同じであって、被焼成体との接触面の表面粗さＲａが８〜５０μｍ（より好ましくは、１０〜３０μｍ）であることにある（図１（ａ）（ｂ）参照）。

これは、被焼成体（ハニカム成形体）との接触面の表面粗さＲａが８μｍ未満である場合、製品であるハニカム焼成体を焼成用敷板（トチ）から外す際に、製品であるハニカム焼成体が焼成用敷板（トチ）にくっついてしまい、製品であるハニカム焼成体に与えるダメージ（特に、リブ切れ）が大きくなってしまうからである。一方、被焼成体（ハニカム成形体）との接触面の表面粗さＲａが５０μｍを超過する場合、製品であるハニカム焼成体の接触面が荒れるためである。

これにより、本発明の焼成用敷板（トチ）は、製品であるハニカム焼成体と焼成用敷板（トチ）とのくっつきを大幅に抑制することができるため、製品であるハニカム焼成体のセル切れやセル欠けを発生させることなく、且つ膨張・収縮挙動のミスマッチによって生じる焼成キレ、セルよれ、クラック、変形や反応不良を発生させることなく、製品であるハニカム焼成体を製造する際の歩留まりの低下を防止することができる。

ここで、本発明の焼成用敷板（トチ）は、焼成後の結晶相の主成分が被焼成体（即ち、ハニカム成形体）と同じであって、開口率が５０〜９０％（より好ましくは５５〜８５％）のハニカム構造体であるセラミックス成形体から構成されていることが好ましい。これは、開口率が５０％未満である場合、製品であるハニカム焼成体を焼成用敷板（トチ）から外す際に、製品であるハニカム焼成体が焼成用敷板（トチ）にくっついてしまい、製品であるハニカム焼成体の端面の一部が破損してしまうからである。一方、開口率が９０％を超過する場合、焼成用敷板（トチ）の強度が弱いため、製品であるハニカム焼成体を焼成用敷板（トチ）から外す際に、焼成用敷板がバラバラに壊れてしまうため、製品であるハニカム焼成体の下端面に付着した破片の除去（研磨）や窯内の洗浄が必要となるため、生産性が低下するためである。

尚、開口率は、ハニカム構造体の流路と垂直方向の断面積をＳ、この面における開口面積をＡとした時、Ａ／Ｓ×１００によって表される。

更に、本発明の焼成用敷板（トチ）は、被焼成体（即ち、ハニカム成形体）と同時に焼成したときにおける焼成後の結晶相の主な組成が、（１）コージェライト８５〜１００質量％、（２）シリコンカーバイド５０〜１００質量％、（３）アルミニウムチタネート５０〜１００質量％、のいずれか１つであることが好ましい。これは、製品であるハニカム焼成体の結晶相の主な組成と同じになるようにすることにより、膨張・収縮挙動のミスマッチによって生じる焼成キレ、セルよれ、クラックや変形の発生を防止することができるとともに、焼成後のハニカム成形体（ハニカム焼成体）に異質組成物が侵入し、汚染するといった反応不良が発生することを防止できるからである。

次に、本発明の焼成用敷板（トチ）は、被焼成体（即ち、ハニカム成形体）と同時に焼成したときにおける焼成後の気孔率が２０〜７０％であることが好ましい。これは、上記気孔率が２０％未満であると、製品であるハニカム焼成体が焼成用敷板（トチ）にくっつきやすくなるからである。一方、焼成用敷板の気孔率が７０％を超過する場合、製品であるハニカム焼成体が焼成用敷板（トチ）によりくっつき難くなるが、焼成用敷板（トチ）の強度も弱くなり、製品であるハニカム焼成体を焼成用敷板（トチ）から外す際に、焼成用敷板がバラバラに壊れてしまうため、製品であるハニカム焼成体の下端面に付着した破片の除去（研磨）や窯内の洗浄が必要となるため、生産性が低下してしまう。

また、本発明の焼成用敷板（トチ）は、被焼成体（即ち、ハニカム成形体）の直径±１０％の大きさで、且つその厚さが５〜５０ｍｍ（より好ましくは、１０〜４０ｍｍ）であることが好ましい。これは、被焼成体（即ち、ハニカム成形体）の直径＋１０％の大きさを超過してしまう場合、窯詰め可能な（被焼成体）個数が減ってしまい生産性が低下するからである。一方、被焼成体（即ち、ハニカム成形体）の直径−１０％の大きさ未満である場合、ハニカム成形体が焼成用敷板（トチ）に接触していないため、焼成後のハニカム構造体（製品）の下端面が垂れてしまう。また、厚さが５０ｍｍを超過する場合、バインダー燃焼時の発熱が大きくなるため、製品であるハニカム焼成体内部にキレが発生してしまう。一方、厚さが５ｍｍ未満の場合は、敷板の強度が弱くなるため敷板が割れやすくなり、窯出し時に窯内の清掃が必要になる。

更に、本発明の焼成用敷板（トチ）は、被焼成体（即ち、ハニカム成形体）との接触面の外周角部（図１のｔ参照）を、３〜３０ｍｍ（より好ましくは、５〜２０ｍｍ）の範囲で面取りすることが好ましい。これは、上記面取りが３ｍｍ未満の場合、焼成後のハニカム構造体（製品）の最外周部のセルが変形してしまうからである。一方、上記面取りが３０ｍｍを超過してしまう場合、ハニカム成形体が焼成用敷板（トチ）に接触していないため、焼成後のハニカム構造体（製品）の下端面が垂れてしまう。

尚、本発明の焼成用敷板（トチ）は、被焼成体（即ち、ハニカム成形体）の形状が、直径１４０〜４００ｍｍ、高さ１５０〜４００ｍｍの被焼成体（即ち、ハニカム成形体）に好適に用いることができる。

本発明を実施例に基づいて、更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限られるものではない。

（測定方法）
（１）表面粗さＲａ
テーラーホブソン社製のＦＴＳ−Ｓ４Ｃ型表面粗さ測定機で、先端２μｍＲの触針を先端角度９０°で敷板の製品接触面に沿って２．５ｍｍの長さで接触させ、得られた焼成用敷板の接触面のプロファイルから表面粗さＲａを得た。本発明における表面粗さＲａの値は、上記測定方法による１０箇所の測定の平均値から算出した。

（２）開口率
光学顕微鏡にて２０箇所にてリブ厚とセルピッチを測定し、それぞれ平均値を算出。これらの値から計算した１セルあたりの開口面積から、開口率を計算した。

（３）気孔率
マイクロメリティックス社製の水銀圧入式ポロシメーターで測定して得られた全細孔容積の値と、コージェライトの真比重２．５２ｇ／ｃｃから、気孔率を計算した。

（実施例１〜１３、比較例１〜３）
平均粒径のタルク（平均粒径：２５μｍ）、カオリン（平均粒径：５μｍ）、アルミナ（平均粒径：５μｍ）、水酸化アルミニウム（平均粒径：５μｍ）及び溶融シリカ（平均粒径：３０μｍ）を、タルク４０質量％、カオリン２０質量％、アルミナ１５質量％、水酸化アルミニウム１５質量％、溶融シリカ１０質量％の割合で混合してコージェライト化原料を調製した（表１参照）。

次に、表１に示すように、このコージェライト化原料１００質量部に対して、発泡樹脂（アクリロニトリル−メチルメタクリレート共重合体からなる発泡済みの発泡樹脂）、バインダー（ヒドロキシプロピルメチルセルロース）及び界面活性剤（ラウリン酸カリ石鹸）をそれぞれの割合で投入、混練して可塑性とし、得られた可塑性の原料（バッチＮｏ．１〜３）を、真空土練機でシリンダー状の坏土を成形し、押出し成形機に投入してハニカム状に成形した。このとき、表２に示す直径（敷板直径）を有するハニカム成形体をそれぞれ成形した。

得られたハニカム成形体を、誘電乾燥の後、熱風乾燥で絶乾し、２枚羽のメタルボンド砥石で表２に示す厚さ（敷板厚さ）で平行に切断した。切断面のうち、ハニカム成形体との接触面を、表２に示すサンドペーパーで仕上げた後、外周部（図２のｔ参照）を表２に示すように砥石で削って面取り（Ｒ取り）することにより、焼成用敷板（図１（ａ）（ｂ）参照）をそれぞれ作製した（実施例１〜１３、比較例１〜３）。

一方、被焼成体であるハニカム成形体は、貫通孔を同様の組成のコージェライト化原料からなるスラリーで、貫通孔が開口する両端面で互い違いに目封じしたものを用意した（バッチＮｏ．１〜３）。

次に、図２に示すように、棚板１０上に焼成用敷板（トチ）１を載置し、更にその上にハニカム成形体２０を載置した後、最高温度１４２０℃で５時間保持しながら焼成することにより、サイズ：φ２８０ｍｍ×Ｌ３０５ｍｍ、リブ厚：３００μｍ、セルピッチ１．４７ｍｍ（セル数：３００セル／平方インチ）のハニカム構造体（製品）をそれぞれ１０ヶずつ得た（実施例１〜１３、比較例１〜３）。得られたハニカム構造体（製品）の評価をそれぞれ行った。その結果を表２に示す。

（考察：実施例１〜１３、比較例１〜３）
表２の結果から、実施例１〜４及び実施例６では、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は良好であり、問題も発生しなかった。

一方、実施例５では、ハニカム構造体（製品）にキレや破損がなく、実使用には問題なかったが、焼成用敷板（トチ）の気孔率が大きいため、ハニカム構造体の端面に焼成用敷板（トチ）の破片が多数付着しており、サンドペーパーでハニカム構造体の端面を研磨する必要があった。

実施例７では、ハニカム構造体（製品）にキレや破損はなく、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）も良好であったが、敷板の開口率が小さく、製品と接触している面積が大きくなり敷板と製品のくっつきが大きくなった。このため、製品から敷板を外す際に通常よりも時間を要した。

実施例８及び実施例９では、ハニカム構造体（製品）にキレや破損はなく、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）も良好であったが、実施例８の場合、敷板直径が、ハニカム構造体（製品）よりも小さいため、ハニカム構造体の下端面が垂れてしまい、実施例９の場合、敷板直径が大きすぎるため窯詰可能数が減り、生産性が低下した。

実施例１０では、ハニカム構造体（製品）にキレや破損がなく、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は良好であったが、敷板厚さが薄すぎるため、窯出し時に焼成用敷板が割れていたため、窯内の洗浄が必要であり、実施例１１の場合、ハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は良好で且つ製品端面にキレや破損はないが、敷板厚さが厚すぎるため、ハニカム構造体（製品）に１０ヶ焼成中４ヶに製品内部にキレ（中キレ）が発生していた。

実施例１２及び実施例１３では、ハニカム構造体（製品）にキレや破損がなく、実使用には問題なかったが、実施例１２の場合、ハニカム構造体（製品）の最外周部のセルが変形し、実施例１３の場合、焼成用敷板（トチ）の面取り部が大きすぎて、ハニカム成形体が焼成用敷板（トチ）に接触していないため、焼成後のハニカム構造体（製品）の下端面が垂れてしまった。

比較例１及び比較例２では、表面粗さＲａが８μｍ未満であるため、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）が許容範囲外であり、ハニカム構造体（製品）にもリブキレが発生するだけでなく、敷板と製品のくっつきが多発していた。

比較例３では、表面粗さＲａが５０μｍより大きいため、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）が許容範囲外であり、ハニカム構造体（製品）の端面が目視で確認できる程ザラザラであった。

（実施例１４〜２２、比較例４及び比較例５）
シリコンカーバイド粉末に有機バインダー（メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース）を添加し、更に界面活性剤及び水を添加し、可塑性の坏土を作製した。この坏土を押出し成形することによりハニカム構造の成形体をそれぞれ得た。

得られたハニカム成形体を、誘電乾燥の後、熱風乾燥で絶乾し、２枚羽のメタルボンド砥石で表３に示す厚さ（敷板厚さ）で平行に切断した。切断面のうち、ハニカム成形体との接触面を、表３に示すサンドペーパーで仕上げた後、外周部（図２のｔ参照）を表２に示すように砥石で削って面取り（Ｒ取り）することにより、焼成用敷板（図１（ａ）（ｂ）参照）をそれぞれ作製した（実施例１４〜２２、比較例４及び比較例５）。

一方、被焼成体であるシリコンカーバイドハニカム成形体は、貫通孔を同様の組成のスラリーで、貫通孔が開口する両端面で互い違いに目封じしたものを用意した。

次に、図２に示すように、棚板１０上に焼成用敷板（トチ）１を載置し、更にその上にハニカム成形体２０を載置した後、最高温度１４２０℃で５時間保持しながら焼成することにより、サイズ：φ２８０ｍｍ×Ｌ３０５ｍｍ、リブ厚：３００μｍ、セルピッチ１．４７ｍｍ（セル数：３００セル／平方インチ）のハニカム構造体（製品）をそれぞれ１０ヶずつ得た（実施例１４〜２２、比較例１〜３）。得られたシリコンカーバイドハニカム構造体（製品）の評価をそれぞれ行った。その結果を表３に示す。

（考察：実施例１４〜２２、比較例４及び比較例５）
表３の結果から、実施例１４では、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は許容するが、敷板の開口率が小さく、製品と接触している面積が大きくなり、敷板と製品のくっつきが多少発生していた。

一方、実施例１５及び実施例１６では、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態は良好であった。特に、実施例１６では、実施例１５よりも表面粗さが粗くしたものであるが、問題は発生しなかった。

実施例１７では、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は許容するが、敷板直径が、ハニカム構造体（製品）よりも小さいため、ハニカム構造体の下端面が垂れてしまい、実施例１８の場合、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は良好であるが、敷板直径が大きすぎるため窯詰可能数が減り、生産性が低下した。

実施例１９及び実施例２０では、敷板厚さが３〜６０ｍｍの範囲では、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は良好であり、問題は発生しなかった。

実施例２１及び実施例２２では、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は許容するが、実施例２１の場合、焼成用敷板（トチ）に面取り面がないため、ハニカム構造体（製品）の最外周セルの変形し、実施例２２の場合、焼成用敷板（トチ）の面取り部が大きすぎて、ハニカム成形体が焼成用敷板（トチ）に接触していないため、焼成後のハニカム構造体（製品）の下端面が垂れてしまった。

比較例４では、表面粗さＲａが８μｍ未満であるため、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）が許容範囲外であり、ハニカム構造体（製品）にもリブキレが発生するだけでなく、敷板と製品のくっつきが多発していた。

比較例５では、表面粗さＲａが５０μｍより大きいため、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）が許容範囲外であり、ハニカム構造体（製品）の端面が目視で確認できる程ザラザラであった。

（実施例２３〜３１、比較例６及び比較例７）
α−アルミナ（平均粒径：５．０μｍ、ＢＥＴ比表面積：０．８ｍ²／ｇ）、ベーマイト（平均粒径：０．１μｍ、ＢＥＴ比表面積：１６３ｍ²／ｇ）、酸化チタン（平均粒径：０．２μｍ）、高純度カオリン（平均粒径：３μｍ）を調合・混合することにより、アルミニウムチタネート化原料（ＡＴ化原料）を調製した。調製したＡＴ化原料の１００質量部に対して、有機バインダー（メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース）を１．５質量部添加して、更に混合・真空脱気した。得られた真空脱気した混合物を石膏型で鋳込み成形して、成形体をそれぞれ得た。

得られたハニカム成形体を、誘電乾燥の後、熱風乾燥で絶乾し、２枚羽のメタルボンド砥石で表４に示す厚さ（敷板厚さ）で平行に切断した。切断面のうち、ハニカム成形体との接触面を、表４に示すサンドペーパーで仕上げた後、外周部（図２のｔ参照）を表４に示すように砥石で削って面取り（Ｒ取り）することにより、焼成用敷板（図１（ａ）（ｂ）参照）をそれぞれ作製した（実施例２３〜３１、比較例６及び比較例７）。

一方、被焼成体であるアルミニウムチタネートハニカム成形体は、貫通孔を同様の組成のスラリーで、貫通孔が開口する両端面で互い違いに目封じしたものを用意した。

次に、図２に示すように、棚板１０上に焼成用敷板（トチ）１を載置し、更にその上にハニカム成形体２０を載置した後、最高温度１４２０℃で５時間保持しながら焼成することにより、サイズ：φ２８０ｍｍ×Ｌ３０５ｍｍ、リブ厚：３００μｍ、セルピッチ１．４７ｍｍ（セル数：３００セル／平方インチ）のハニカム構造体（製品）をそれぞれ１０ヶずつ得た（実施例１４〜２２、比較例１〜３）。得られたアルミニウム−チタネートハニカム構造体（製品）の評価をそれぞれ行った。その結果を表４に示す。

（考察：実施例２３〜３１、比較例６及び比較例７）
表４の結果から、実施例２３では、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は許容するが、敷板の開口率が小さく、製品と接触している面積が大きくなり、敷板と製品のくっつきが多少発生していた。

一方、実施例２４及び実施例２５では、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態は良好であった。特に、実施例２５では、実施例１５よりも表面粗さが粗くしたものであるが、問題は発生しなかった。

実施例２６では、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は許容するが、敷板直径が、ハニカム構造体（製品）よりも小さいため、ハニカム構造体の下端面が垂れてしまい、実施例２７の場合、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は良好であるが、敷板直径が大きすぎるため窯詰可能数が減り、生産性が低下した。

実施例２８及び実施例２９では、敷板厚さが３〜６０ｍｍの範囲では、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は良好であり、問題は発生しなかった。

実施例３０及び実施例３１では、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）は許容するが、実施例３０の場合、焼成用敷板（トチ）に面取り面がないため、ハニカム構造体（製品）の最外周セルの変形し、実施例３１の場合、焼成用敷板（トチ）の面取り部が大きすぎて、ハニカム成形体が焼成用敷板（トチ）に接触していないため、焼成後のハニカム構造体（製品）の下端面が垂れてしまった。

比較例６では、表面粗さＲａが８μｍ未満であるため、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）が許容範囲外であり、ハニカム構造体（製品）にもリブキレが発生するだけでなく、敷板と製品のくっつきが多発していた。

比較例７では、表面粗さＲａが５０μｍより大きいため、焼成用敷板（トチ）との接触面におけるハニカム構造体（製品）の表面状態（製品端面状態）が許容範囲外であり、ハニカム構造体（製品）の端面が目視で確認できる程ザラザラであった。

本発明の焼成用敷板（トチ）及びこれを用いたハニカム成形体の焼成方法は、製品であるハニカム焼成体を製造する際の歩留まりの向上に寄与することができる。

Claims

焼成後の結晶相の主成分が被焼成体と同じである焼成用敷板であって、被焼成体との接触面の表面粗さＲａが８〜５０μｍである焼成用敷板。
開口率が、５０〜９０％のハニカム構造体であるセラミックス成形体から構成された請求項１に記載の焼成用敷板。
前記被焼成体と同時に焼成したときにおける焼成後の結晶相の主な組成が、（１）コージェライト８５〜１００質量％、（２）シリコンカーバイド５０〜１００質量％、（３）アルミニウムチタネート５０〜１００質量％、のいずれか１つである請求項１又は２に記載の焼成用敷板。
前記被焼成体と同時に焼成したときにおける焼成後の気孔率が、２０〜７０％である請求項１〜３のいずれか１項に記載の焼成用敷板。
請求項１〜４のいずれか１項に記載の焼成用敷板が、被焼成体の直径±１０％の大きさで、且つその厚さが５〜５０ｍｍである焼成用敷板。
前記被焼成体との接触面の外周角部を、３〜３０ｍｍの範囲で面取りした請求項５に記載の焼成用敷板。
前記被焼成体の形状が、直径１４０〜４００ｍｍ、高さ１５０〜４００ｍｍである請求項５又は６に記載の焼成用敷板。
請求項１〜７のいずれか１項に記載の焼成用敷板を使用したハニカム成形体の焼成方法。