JPWO2005104203A1 - 基板処理装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
プラズマエッチングは半導体装置の製造に不可欠な技術であり、平行平板型エッチング装置をはじめ、様々なエッチング装置が一般的な半導体装置の製造に使われている。
従来の半導体装置の製造工程では、エッチング技術は主にSiO2を主とする絶縁膜のパターニング、あるいはAlやW,Tiなどの金属膜のパターニングに使われている。
一方、最近の強誘電体メモリ(FeRAM)など、PZT(Pb(Zr,Ti)O3)やPLZT((Pb)(Zr,Ti)O3),BST(BiSrTiO3),STO(SrTiO3)のような強誘電体膜あるいは高誘電体膜を有し、さらにPtやIr,Ruのような蒸気圧の低い金属材料よりなる電極膜を有する半導体装置の製造においては、これらの膜をエッチングするのに高い電子密度と電子エネルギ(電子温度)が必要で、このためにECR型やヘリコン型、ICP(誘導結合)型などの高密度プラズマエッチング装置を使う必要がある。このうち特にICP型のエッチング装置は装置構造が比較的簡単なため、多く使用されている。
図1Aを参照するに、シリコン基板1上には図示を省略したメモリセルトランジスタを覆うように絶縁膜2が形成されており、前記絶縁膜2上には、Tiなどの密着層(図示せず)を介してPtなどの貴金属や、IrO2,SrRuO3などの導電性酸化物よりなる下部電極層3が形成されている。さらに前記下部電極3上には、PZT(Pb(Zr,Ti)O3)などの強誘電体膜4が形成され、前記強誘電体膜4上には、PtやIr,Ruなどの貴金属や、IrO2,SrRuO3などの導電性酸化物よりなる上部電極層5が形成されている。
次に図1Bの工程において前記上部電極層5がフォトリソグラフィ工程によりパターニングされ、前記強誘電体膜4上に上部電極5Aが形成される。
図1Bの工程においてはさらに酸素雰囲気中での熱処理により、前記強誘電体膜4中に前記上部電極層5のパターニングの際に形成された酸素欠損が補償され、さらに図1Cの工程において前記強誘電体膜4をフォトリソグラフィ工程によりパターニングし、前記下部電極層3上に強誘電体キャパシタ絶縁膜4Aを形成する。
図1Cの工程では、さらにこのようにして形成された強誘電体キャパシタ絶縁膜4Aを酸化雰囲気中で熱処理することにより、前記強誘電体膜4のパターニングの際に前記強誘電体キャパシタ絶縁膜4A中に形成された酸素欠損が補償され、さらにAl2O3などの水素の浸透に対してバリア性を有する第1のエンキャップ層6により、前記上部電極5Aおよび強誘電体キャパシタ絶縁膜4Aを覆う。
さらに図1Dの工程において前記下部電極層3およびその下のTi密着層をフォトリソグラフィ工程によりパターニングし、下部電極3Aを形成する。
さらに図1Dの工程では、このようにして形成された強誘電体キャパシタを前記第1のエンキャップ層6を介して覆うように、Al2O3などよりなる第2のエンキャップ層7が形成される。
このようなFeRAMの製造工程では、前記下部電極層3、強誘電体膜4および上部電極層5をパターニングするフォトリソグラフィ工程においてプラズマエッチングプロセスが使われるが、これらの膜は蒸気圧の低い金属元素を含んでおり、プラズマ励起されたラジカルの作用だけでは充分なエッチング速度が得られず、ラジカルによるエッチング作用に加えて顕著なスパッタ作用が生じる高密度プラズマエッチングプロセスを使う必要がある。
図2は、図1B〜1Dの高密度プラズマエッチングプロセスで従来使われているICP型エッチング装置10の構成を示す。
図2を参照するに、ICP型エッチング装置10は排気ポート10Aにおいて排気されプロセス空間11Aを画成する石英ベルジャ11を処理容器として備え、前記処理容器11内には被処理基板Wを保持する基板保持台15が設けられている。また前記処理容器11の外周にはコイル12が、アンテナとして巻回されている。
前記コイル12はインピーダンス整合回路13を介して高周波電源14に接続されており、前記処理容器11中にプラズマガス供給ポート11aからArなどのプラズマガスを導入し、さらに前記高周波電源14からコイル12に高周波電力を供給することにより、前記処理容器11内にプラズマが形成される。そこで前記処理容器11内に処理ガス導入ポート11bより、例えばClやFなどのハロゲンを含むエッチングガスを導入することにより、前記被処理基板Wの表面には前記プラズマにより、エッチングガスのラジカルが励起される。
さらに前記基板保持台15は、ブロッキングキャパシタ16及びインピーダンス整合回路17を介して高周波バイアス電源18に接続されており、前記高周波バイアス電源18より高周波バイアスパワーを供給することにより、前記基板保持台15には負のバイアス電位が印加される。
かかるバイアス電位の印加の結果、前記プラズマ中のAr+などの正イオンがラジカルとともに前記基板保持台15上の被処理基板に衝突し、エッチングと同時にスパッタリングが生じ、前記被処理基板Wに略垂直方向に、効率的な異方性エッチングが実現される。
図2のICP型プラズマエッチング装置10の場合、前記処理容器11の内壁面にこのような導電性の膜が堆積すると前記コイル12からの高周波パワーが処理容器11内のプロセス空間11Aに到達しなくなり、プラズマエッチングは不可能となる。また、このような処理容器11の内壁面の堆積物が剥離するとパーティクルとなり、半導体装置の製造歩留まりが低下する。
通常のSiO2系の絶縁膜やAl,W,Tiなどの金属膜のプラズマエッチングでは、このように前記処理容器11の内壁面に堆積物が生じても、前記処理容器11中にクリーニングガスを供給し、さらに前記高周波源14より高周波パワーを供給して前記処理容器中にプラズマを誘起することにより、前記堆積物を効率よく除去することができる。また、最近の低誘電率層間絶縁膜のプラズマエッチングの場合にも、前記処理容器11中に酸素ガスなどの酸化ガスを供給し、さらに前記高周波コイル12を高周波源14からの高周波パワーで駆動して前記処理容器中に酸素プラズマを誘起することにより、処理容器11の内壁に付着した炭化水素などの堆積物を効率よく除去することができる。
これに対し、FeRAMなどの蒸気圧が低くエッチング速度の遅い材料を含む半導体装置の製造においては、前記処理容器11の内壁面に付着する堆積物が貴金属など蒸気圧の低い材料であることが多く、このため上記のプラズマクリーニングプロセスは有効でなく、プラズマエッチングを効率よく、高い歩留まりで実行するためには、プラズマエッチング装置10を分解し、処理容器11のウェットクリーニングを頻繁に行う必要があった。しかし、このような頻繁なメンテナンスは半導体装置の製造効率を低下させることになる。
本発明の一の課題は、
排気系により排気され、被処理基板を保持する基板保持台を備え、内部にプロセス空間を画成する処理容器と、
前記処理容器中にエッチングガスを導入する処理ガス供給路と、
前記プロセス空間にプラズマを形成するプラズマ発生源と、
前記基板保持台に結合された高周波源とよりなる基板処理装置において、
前記処理容器内には、前記プロセス空間を、前記被処理基板の表面を含む第1のプロセス空間部分と前記プロセス空間の残りの領域よりなる第2のプロセス空間部分とに分割する遮蔽板を備え、
前記遮蔽板には、前記被処理基板以上の大きさを有する開口部が形成されている基板処理装置を提供することにある。
本発明によれば、基板保持台上の被処理基板を高密度プラズマを使ってプラズマエッチングする際に、プラズマエッチングに伴って生じるスパッタリング作用により前記被処理基板から放出される粒子が前記遮蔽板により効果的に捕捉され、前記処理容器内壁への堆積物の堆積が抑制される。その際、前記遮蔽板は前記被処理基板以上の大きさの開口部を有するため、前記遮蔽板上に堆積した堆積物が剥離しても前記被処理基板上に落下することはなく、かかる遮蔽板の使用により半導体装置の製造歩留まりが低下することはない。また、前記遮蔽板に前記被処理基板以上の大きさの開口部を形成することにより、前記基板前面にわたり一様なプラズマエッチング処理を行うことが可能になる。
本発明のその他の課題および特徴は、以下に図面を参照しながら行う本発明の詳細な説明より明らかとなろう。
図2は、従来のICP型高密度プラズマエッチング装置の構成を示す図;
図3は、図2のプラズマエッチング装置の問題点を説明する図;
図4は、本発明の第1実施例によるプラズマエッチング装置の構成を示す図;
図5は、図4のプラズマエッチング装置で使われる遮蔽板の構成を示す図;
図6は、図5の遮蔽板の一変形例を示す図;
図7は、本発明の第2実施例によるプラズマエッチング装置の構成を示す図;
図8は、図7のプラズマエッチング装置の一変形例を示す図;
図9は、本発明の第1実施例によるプラズマエッチング装置の構成を示す図;
図10は、本発明の第3実施例によるプラズマエッチング装置の構成を示す図である。
図4は、本発明の第1実施例によるプラズマエッチング装置20の構成を示す。
図4を参照するに、前記ICP型エッチング装置20は排気ポート20Aにおいて排気されプロセス空間21Aを画成する石英ベルジャ21を処理容器として備え、前記処理容器21内には被処理基板Wを水平に保持する基板保持台25が設けられている。また前記処理容器21の外周にはコイル22が、アンテナとして巻回されている。前記処理容器21は、石英ガラスよりなり前記プロセス空間21Aを画成するスリーブ状の側壁部21Bと、前記石英側壁部21B上に形成され、前記プロセス空間21Aを上部において塞ぐ金属蓋21Cと、前記石英側壁部21Bの下部において前記基板保持台25を囲み、前記石英側壁部21Bを支え、さらに前記排気ポート20Aが形成された本体部21Dとより構成されている。
前記コイル22はインピーダンス整合回路23を介して高周波電源24に接続されており、前記処理容器21中に前記金属蓋21Cに形成されたプラズマガス供給ポート21aからHe,Ne,Ar,Kr,Xeなどのプラズマガスを導入し、さらに前記高周波電源24からコイル22に高周波電力を供給することにより、前記処理容器21内にプラズマが形成される。そこで前記処理容器21内に、前記本体部21Dに形成された処理ガス導入ポート21bより、例えばFやClなどのハロゲンを含む、例えばCl2,CCl4,CF4,CHF3などのエッチングガスを導入することにより、前記被処理基板Wの表面には前記プラズマにより、エッチングガスのラジカルが励起される。
さらに前記基板保持台25は、ブロッキングキャパシタ16及びインピーダンス整合回路27を介して高周波バイアス電源28に接続されており、前記高周波バイアス電源28より高周波バイアスパワーを供給することにより、前記基板保持台25には負のバイアス電位が印加される。
かかるバイアス電位の印加の結果、前記プラズマ中のAr+などの正イオンがラジカルとともに前記基板保持台25上の被処理基板に衝突し、前記被処理基板W上においては、前記ラジカルによるエッチングと同時にスパッタリングが生じ、前記被処理基板Wに略垂直方向に、効率的な異方性エッチングが実現される。
図4のICP型プラズマエッチング装置20では、さらに前記基板Wからスパッタリングにより放出されたスパッタ粒子を捕獲して、前記処理容器21の内壁上における堆積物の形成を可能な限り抑制するために、前記被処理基板W上には、前記処理容器21内のプロセス空間21Aを、前記基板表面を含みエッチングおよびスパッタリングが生じるプロセス空間部分21A1と、前記コイル21より高周波パワーを供給され高密度プラズマが励起されるプロセス空間部分21A2とに分割するように、石英あるいはアルミナなどの絶縁物よりなる遮蔽板26が、前記被処理基板Wを覆うように形成されており、前記遮蔽板26には、前記被処理基板Wの径よりも大きな開口部26Aが形成されている。
図4のプラズマエッチング装置20では、前記プロセス空間21A2で励起されたエッチングガスのラジカルおよびイオンは前記遮蔽板26中の開口部26Aを通って前記被処理基板Wの表面に到達し、基板前面にわたり一様で効率的なエッチングがなされる。
一方、前記イオンの衝突に伴うスパッタリング作用により放出されたスパッタ粒子のうち、前記処理容器21の側壁面へと飛散するものは前記遮蔽板26により捕獲され、その結果、前記処理容器21の側壁面上における堆積物の形成は生じない。
さらに図4のプラズマエッチング装置20では、前記遮蔽板26中の開口部26Aが前記被処理基板Wの直上に、前記被処理基板Wの径よりも大きな径で形成されているため、前記遮蔽板26上に形成された堆積物が剥離しても、剥離した堆積物が被処理基板Wの表面に落下することがなく、半導体装置の製造歩留まりが低下する問題を回避することができる。
特に前記被処理基板Wが15から20cm径のウェハである場合、前記開口部26Aを前記ウェハ径よりも0.5〜5cm大きく設定し、さらに前記被処理基板Wの表面と前記遮蔽板26との間の距離Hを15cm程度あるいはそれ以下に設定することにより、前記遮蔽板26から剥離した堆積物が不規則な経路をたどった場合でも、前記被処理基板Wの表面に落下する確率を低減することができる。
図4のプラズマエッチング装置20においてエッチングプロセスを行う場合、本実施例では前記石英側壁部21B上の金属蓋21Cを接地することにより、前記被処理基板Wに高周波電源28から基板保持台25を介して印加される負の基板バイアス電圧が効果的に作用し、高いエッチング速度を実現することができる。同時に、このような構成により、前記開口部26Aを通過して前記金属蓋21Cの下面に堆積したスパッタ粒子は、前記開口部26Aを通過して新たに入来する荷電粒子により逆スパッタ作用を受け、その結果、前記処理容器21のうち、前記被処理基板Wの直上に位置する部分に形成される堆積物はわずかである。すなわち、かかる構成では、前記金属蓋21Cの下面のうち、前記被処理基板Wの直上の部分に厚い堆積物が堆積することはない。そこで、前記開口部26Aが前記被処理基板Wを露出していても、前記開口部26Aを介して前記基板W上に堆積物が前記金属蓋21Cから落下する恐れは少ない。
図5は、前記遮蔽板26の詳細を示す。
図5を参照するに、前記遮蔽板26の下面には、サンドブラスト処理などにより微細な凹凸26aが、0.1〜数ミリメートル程度のピッチで形成されている。
かかる凹凸26aを形成することにより、前記遮蔽板26下面の表面積が増大し、前記被処理基板Wの表面からスパッタされた堆積物W‘は、かかる凹凸面26aにより効果的に捕獲される。また、このように遮蔽板26下面の表面積が増大する結果、単位面積あたりの堆積物W‘の厚さが低減する。
なお図5では前記凹凸面を矩形断面を有するものとして示したが、これはあくまでも模式図であり、図6に示すようにのこぎり波状の断面、あるいは不規則な断面を有していてもよい。
図4のプラズマ処理装置20では、基板保持台25が被処理基板Wを水平に保持するため基板の着脱が容易で、しかも基板上方からの落下物による被処理基板Wの汚染を軽減できる好ましい効果が得られる。
[第2実施例]
図7は、本発明の第2実施例によるプラズマエッチング装置40の構成を示す。ただし図7中、先に説明した部分に対応する部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
図7を参照するに、前記プラズマエッチング装置40は、図4のプラズマエッチング装置20と類似した構成を有するが、前記遮蔽板26の代わりに遮蔽板46を有している。
遮蔽板46も前記遮蔽板26と同様に、前記被処理基板Wの径よりも大きな開口部46Aを有しているが、前記遮蔽板46のうち、前記開口部46Aを含む内縁部は、前記開口部46Aの中心に近い部分46Bが上方に反った斜面を形成している。
図7のプラズマエッチング装置40では、前記遮蔽板46にこのように上方に反った斜面46Bを形成することにより、前記被処理基板Wから放出されるスパッタ粒子の捕獲面積が増大し、前記石英側壁部21Bにおけるより効率的なスパッタ粒子の堆積抑制および堆積物の剥離に起因するパーティクルの除去が可能となる。またかかる斜面46Bを形成することにより、仮に剥離した堆積物が前記遮蔽板46上に落下しても、かかる剥離物が前記開口部46Aを通って被処理基板Wの表面に落下することがない。
図8は、図7のプラズマエッチング装置40の一変形例によるプラズマエッチング装置40Aの構成を示す。ただし図8中、先に説明した部分に対応する部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
図8を参照するに、プラズマエッチング装置40Aでは前記斜面46Bの内縁に、前記開口部46Aを画成するように、上部に向かって延在する延在部46Cが形成されている。かかる延在部46Cを形成することにより、前記スパッタ粒子の捕獲面積がさらに増大し、また剥離して遮蔽板46上に落下する堆積物が前記被処理基板Wの表面に落下するのが、効果的に阻止される。
[第3実施例]
図9は、本発明の第3実施例によるプラズマエッチング装置60の構成を示す。ただし図9中、先に説明した部分に対応する部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
図9を参照するに、プラズマエッチング装置60は、図4のプラズマエッチング装置20と類似した構成を有するが、前記遮蔽板46の一部に、前記遮蔽板46の温度を制御するヒータなどの温度制御部46Hを設けている。
前記温度制御部46Hは前記遮蔽板46の温度を、前記被処理基板Wの着脱時を含め、常時数十度から200℃程度の温度の保持し、これにより、前記遮蔽板46の温度が、例えば被処理基板Wを入れ替えるような場合に降下し、熱膨張係数の差により前記遮蔽板46上に捕獲されていた堆積物が剥離して被処理基板W上に落下するのが抑制される。
なお、かかる温度調節部46Hは、先の実施例、および以下に説明する実施例のいずれに設けてもよい。
[第4実施例]
図10は、本発明の第4実施例によるプラズマエッチング装置80の構成を示す。ただし図10中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
本実施例では図4のプラズマエッチング装置40において、石英やアルミナより構成されている遮蔽板46を金属遮蔽板86に置き換えている。
このように前記処理容器21中に金属遮蔽板86を設けた場合、前記処理容器21中のプラズマが形成は、かかる金属遮蔽板86の電位により影響される。
そこで、図10のプラズマエッチング装置80では、前記金属遮蔽板86の電位を制御するために、前記金属遮蔽板86に電気的に接続して、電圧制御回路86Aを設けている。
かかる構成によって、前記処理容器21中でのプラズマ形成に実質的な影響を及ぼすことなく、スパッタ粒子の処理容器21内壁への堆積を抑制することが可能となる。
以上、本発明をICP型のプラズマエッチング装置について説明したが、本発明はかかる特定のプラズマエッチング装置に限定されるものではなく、ECR型など、他の形式の高密度プラズマエッチング装置に対しても同様に適用可能である。
本発明のプラズマエッチング装置を使い、先に図1A〜1Dで説明したような強誘電体キャパシタを形成することができる。その際、本発明のプラズマエッチング装置を使うことにより、基板上に形成されたPZT膜のみならず、PLZT((Pb,La)(Zr,Ti)O3)膜、SBT(SrBi2(Ta,Nb)2O9)膜など、他の強誘電体膜、BST(BaSrTiO3)膜、STO(SrTiO3)膜、HfO2膜などの高誘電体膜、Al,Tiなどの金属元素を含む金属酸化膜、さらにはPt,Ir,Ru,Co,Fe,Sm,Niのいずれかを含む金属膜あるいは化合物膜を、効率よく、高い歩留まりでパターニングすることができる。
Claims (17)
- 排気系により排気され、被処理基板を保持する基板保持台を備え、内部にプロセス空間を画成する処理容器と、
前記処理容器中にエッチングガスを導入する処理ガス供給路と、
前記プロセス空間にプラズマを形成するプラズマ発生源と、
前記基板保持台に結合された高周波源とよりなる基板処理装置において、
前記処理容器内には、前記プロセス空間を、前記被処理基板の表面を含む第1のプロセス空間部分と前記プロセス空間の残りの領域よりなる第2のプロセス空間部分とに分割する遮蔽板を備え、
前記遮蔽板には、前記被処理基板以上の大きさを有する開口部が形成されている基板処理装置。 - 前記遮蔽板は、前記基板保持台の上方に設けられる請求項1記載の基板処理装置。
- 前記遮蔽板は、少なくともその下面に、凹凸パターンが形成されている請求項1記載の基板処理装置。
- 前記遮蔽板は、その一部に、前記被処理基板の表面に対して傾斜した傾斜面を有する請求項1記載の基板処理装置。
- 前記傾斜面は前記開口部に沿って、前記開口部の中心に向かって上方に反るように形成されており、前記傾斜面は前記開口部を画成する請求項1記載の基板処理装置。
- 前記遮蔽板は、前記傾斜面のうち、前記開口部を画成する縁部に、上方に向かって前記被処理基板の表面に対して略垂直に延在する延在部を有する請求項5記載の基板処理装置。
- 前記遮蔽板は絶縁物よりなる請求項1記載の基板処理装置。
- 前記遮蔽板は石英ガラスあるいはアルミナよりなる請求項1記載の基板処理装置。
- 前記遮蔽板は金属よりなり、さらに前記基板処理装置は前記遮蔽板の電位を制御する制御回路を含む請求項1記載の基板処理装置。
- 前記基板保持台は、前記被処理基板を水平に保持する請求項1記載の基板処理装置。
- 前記処理容器は、前記被処理基板に対向する導体蓋を備え、前記導体蓋は接地されている請求項1記載の基板処理装置。
- 前記処理容器は誘電体材料よりなる側壁面を有し、前記プラズマ発生源は、前記処理容器に巻回されたコイルよりなる請求項1記載の基板処理装置。
- 基板上の膜をパターニングする工程を含む半導体装置の製造方法であって、
前記膜を形成された基板を、排気系により排気され内部にプロセス空間を画成する処理容器中の基板保持台上に被処理基板として保持する工程と、
前記処理容器中にエッチングガスを導入し、前記プロセス空間にプラズマを形成し、前記基板保持台にバイアス電圧を印加して前記膜をエッチングする工程とを含み、
さらに前記エッチング工程の際に前記被処理基板からスパッタされる粒子を、前記処理容器内に、前記プロセス空間を前記被処理基板の表面を含む第1のプロセス空間部分と前記プロセス空間の残りの領域よりなる第2のプロセス空間部分とに分割するように設けられ、前記被処理基板以上の大きさの開口部が形成されている遮蔽板により捕獲する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記基板は前記基板保持台上に、略水平に保持されることを特徴とする請求項13記載の方法。
- 前記膜は、強誘電体膜である請求項13記載の方法。
- 前記膜は、AlあるいはTiのいずれかを含む金属酸化膜である請求項13記載の方法。
- 前記膜は、Pt,Ir,Ru,Co,Fe,Sm,Niのいずれかを含む請求項13記載の方法。
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