JPWO2005103122A1 - セルロースアシレートフィルムおよびセルロースアシレートペレットの製造方法 - Google Patents

Abstract

溶融製膜したセルロースアシレートフィルムに於いて、液晶表示装置に組み込み黒表示時した時に発生する表示故障を解消することができるセルロースアシレートフィルム等を提供する。溶融流延によって製膜され、微細偏光異物が０〜１０個／ｍｍ２、黒色異物が０〜１０個／ｍｍ２、４５０ｎｍにおける透過率（Ｔ４５０）が９０〜１００％である、セルロースアシレートフィルムを採用した。

Description

本発明は、新規なセルロースアシレートフィルムおよび、該セルロースアシレートフィルムの原料に適したセルロースアシレートペレットの製造方法に関する。

従来、液晶画像表示装置等に使用されるセルロースアシレートフィルムを製造する際、ジクロロメタンのような塩素系有機溶剤に溶解し、これを基材上に流延し、乾燥して製膜する溶液流延法が主として実施されていた。塩素系有機溶剤としてのジクロロメタンは、セルロースアシレートの溶媒として好ましく用いられていた。その理由の１つは、製造工程中、製膜工程および乾燥工程において沸点が低い（沸点約４０℃）ことから、乾燥が容易であるということである。
しかしながら、近年、環境保全の観点から、上記塩素系有機溶媒は、密閉設備での取り扱いが厳しく要求されるようになった。すなわち、漏れを著しく低減させるよう要求され、さらに、万が一漏れた場合の対策も要求される。そこで、ガス吸収塔を設置して、塩素系有機溶媒を外に出す前に吸着させて処理する方法、ガスを排出する前に火力による燃焼あるいは電子線ビームによって塩素系有機溶媒を分解する方法等が知られている。この結果、殆ど有機溶媒が排出されることはなくなったが、完全な非排出までにはさらに研究が求められている。
そこで、塩素系有機溶剤を用いない製膜法として、特開２０００−３５２６２０号公報には、セルロースアシレートを溶融製膜する方法が開示されている。特開２０００−３５２６２０号公報は、セルロースアシレートのエステル基の炭素鎖を長くすることにより融点を下げ溶融製膜しやすくなることを述べている。具体的には、セルロースアセテートを、セルロースプロピオネート等に変えることを記載している。
しかし、本発明者が、特開２０００−３５２６２０号公報に記載の方法で溶融製膜したフィルムを用いて偏光板を作製し、該偏光板を液晶表示装置に組み込んだところ、黒表示にしたときに表示故障が発生した。すなわち、本来真っ黒であるべきところから光が漏れ、灰色にしか表示できないことがわかった。さらに、特開２０００−３５２６２０号公報に記載の方法では黒色異物、黄色みが強いことも問題であった。これは、該公報に記載の方法は、溶融状態で５０μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下の微細ろ過によって異物を取り除いているため、ろ過機内のデッドスペースに滞留した樹脂が熱分解し、黄色みが増加したり炭化物となって黒色異物となるためである。このような熱分解はセルロースアシレート樹脂において顕著に発生する。

本発明は上記課題を解決するものであって、溶融製膜したセルロースアシレートフィルムに於いて、液晶表示装置に組み込み、黒表示時した時に発生する表示故障を解消するものである。
（１）溶融流延によって製膜され、微細偏光異物が０〜１０個／ｍｍ^２、黒色異物が０〜１０個／ｍｍ^２、４５０ｎｍにおける透過率（Ｔ４５０）が９０〜１００％である、セルロースアシレートフィルム。
（２）前記微細偏光異物が０〜８個／ｍｍ^２、黒色異物が０〜８個／ｍｍ^２、４５０ｎｍにおける透過率（Ｔ４５０）が９１〜９９％である請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
（３）Ｒｔｈが１００〜８００ｎｍである（１）または（２）に記載のセルロースアシレートフィルム。
（４）Ｒｔｈが１４０〜５００ｎｍである、（１）または（２）に記載のセルロースアシレートフィルム。
（５）前記セルロースアシレートフィルムが有するアシル基は、下記式（１）〜（３）で表される要件すべてを満たす（１）〜（４）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
式（１） ２．６≦Ｘ＋Ｙ＜３．０
式（２） ０≦Ｘ≦１．８
式（３） １．０≦Ｙ＜３
（上記式（１）〜（３）中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。）
（６）前記セルロースアシレートフィルムが有するアシル基は、下記式（１）〜（３）で表される要件すべてを満たす（１）〜（４）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
下記Ｙの１／２以上がプロピオニル基の場合
式（４） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
式（５） ０≦Ｘ≦０．９５
式（６） １．５≦Ｙ≦２．９５
下記Ｙの１／２未満がプロピオニル基の場合
式（７） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
式（８） ０．１≦Ｘ≦１．６５
式（９） １．３≦Ｙ≦２．５
（上記式（４）〜（９）中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。）
（７）Ｒｅが２０〜３００ｎｍである（１）〜（６）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
（８）Ｒｅが３０〜２５０ｎｍである（１）〜（６）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
（９）（１）〜（８）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを、少なくとも１方向に１０〜３００％延伸してなるセルロースアシレートフィルム。
（１０）全光線透過率が８０％以上である、（１）〜（９）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
（１１）セルロースアシレートを含む組成物を、混練押し出し機で、１５０〜２２０℃、スクリュー回転数１００〜８００ｒｐｍ、滞留時間５秒〜３分で混練して融解する工程を含むセルロースアシレートペレットの製造方法。
（１２）前記セルロースアシレートが、下記式（１）〜（３）で表される要件すべてを満たす（１１）に記載のセルロースアシレートペレットの製造方法。
式（１） ２．６≦Ｘ＋Ｙ＜３．０
式（２） ０≦Ｘ≦１．８
式（３） １．０≦Ｙ＜３
（上記式（１）〜（３）中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。）
（１３）真空排気しながら混錬して融解する（１１）または（１２）に記載のセルロースアシレートペレットの製造方法。
（１４）前記溶融した後、３０〜９０℃の温水中でストランド状に固化し、さらに、裁断および乾燥することを特徴とする（１１）〜（１３）のいずれかに記載のセルロースアシレートペレットの製造方法。
（１５）（１１）〜（１４）のいずれかに記載の方法で製造セルロースアシレートペレット。
（１６）下記式（１）〜（３）で表される要件すべてを満たし、微細偏光異物が０〜１００個／ｍｍ^３のセルロースアシレートペレット。
式（１） ２．６≦Ｘ＋Ｙ＜３．０
式（２） ０≦Ｘ≦１．８
式（３） １．０≦Ｙ＜３
（上記式（１）〜（３）中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。）
（１７）（１１）〜（１４）のいずれかに記載の方法により製造したセルロースアシレートペレットを溶融し、ダイから押出した後、キャスティングドラムで所定の厚さに製膜する工程を含み、かつ、前記ダイのリップ間隔Ｔと製膜後のフィルム厚みＤの比（Ｔ／Ｄ）が２〜１０となるよう製膜するセルロースアシレートフィルムの製造方法。
（１８）偏光層と、偏光層上に設けられた、少なくとも１層の（１）〜（１０）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムとを有する偏光板。
（１９）（１）〜（１０）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを基材に用いた液晶表示板用光学補償フィルム。
（２０）（１）〜（１０）のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを基材に用いた反射防止フィルム。
発明の詳細な説明
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
上記液晶表示装置に組み込み黒表示した時に発生する表示故障、即ち、真っ黒に表示すべきところが灰色に表示する故障の原因を解析したところ、微細異物による光漏れと液晶表示装置斜め方向からの光漏れに原因にあることが解かった。
（微細偏光異物による光漏れ）
偏光顕微鏡でしか見えない微細偏光異物が存在し、これから僅かに光が漏れ、黒表示が灰色表示となることが原因とわかった。このような微細な異物は肉眼では確認できず異物故障とはならないが、僅かな光漏れを引き起こし、上記のような表示故障の原因となる。このような光漏れは微量であるため、光を全て遮断する黒表示でないと認識できない。このような微細偏光異物の大きさは、その直径が１〜１００μｍで、クロスニコル下の偏光顕微鏡で観察されるものを指し、好ましくは０〜１０個／ｍｍ^２、より好ましくは０〜８個／ｍｍ^２、さらに好ましくは０〜５個／ｍｍ^２である。ここでいう直径とは円相当径の直径を指す。即ち異物の面積と同じ面積の円の直径を指す。
（液晶表示装置斜め方向からの光漏れ）
溶融製膜法では、溶融により配向が完全に失われた状態のまま直ちに固化されるため、面配向が進み難い。これに対し、従来の溶液製膜では、溶剤が揮発しながら製膜されるため、それに伴い厚み方向に圧縮され面配向が進む。このため、溶融製膜フィルムは溶液製膜フィルムに比べ、下記で表される面配向の指標であるレターデーション値（Ｒｔｈ）が発現しにくく、Ｒｔｈはせいぜい８０ｎｍ以下にしか達しない。
Ｒｔｈ＝｜｛（ｎ_ｍｄ、１＋ｎ_ｔｄ）／２｝−ｎ_ｔｈ｜×ｄ
ここで、ｎ_ｍｄ、ｎ_ｔｄ、ｎ_ｔｈはそれぞれ、長手方向（ｍｄ）、幅方向（ＴＤ）、厚み方向（ｔｈ）の屈折率を指し、ｄは厚み（ｎｍ単位で表したもの）を指す。
Ｒｔｈは厚み方向の屈折率異方性であるため、フィルムを斜め方向から覗いたとき、このＲｔｈの効果が顕著に現れる。即ちこれらのフィルムを液晶表示素子に組み込んだ場合、Ｒｔｈの大きな従来の溶液製膜の光学特性に合わせて作製されているため、Ｒｔｈの小さな溶液製膜フィルムを使用した場合、斜め方向から光漏れが発生する。
このため溶融製膜フィルムのＲｔｈは１００ｎｍ〜８００ｎｍが好ましく、１４０ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましく、１６０ｎｍ〜３５０ｎｍがさらに好ましい。
（黒色異物、黄色み）
黒色異物は、偏光板を用いず直接観察した際に黒く見える異物である（直交した偏光板に挟んだ状態では黒いため見えないことから、上述の輝点異物とは異なる）。このような黒色異物は樹脂が熱分解し炭化するために発生するものであり、濾過機のような滞留時間が長くかつデッドスペースの大きい所で発生し易い。黒色異物は、例えば、その直径が１〜１００μｍで、透過型顕微鏡（偏光を用いない通常の観察法）で観察されるものを指す。本発明では、黒色異物は、好ましくは０〜１０個／ｍｍ^２、より好ましくは０〜８個／ｍｍ^２、さらに好ましくは０〜５個／ｍｍ^２である。ここでいう直径とは円相当径の直径を指す。即ち異物の面積と同じ面積の円の直径を指す。
一方、黄色みは、製膜フィルムを４５０ｎｍで測定した１００μｍ換算光線透過率（Ｔ４５０）で求めることができる。即ち黄色の補色である青色（４５０ｎｍ）の光の透過性で評価できる。黄色みの原因も濾過機内の滞留による熱分解である。好ましいＴ４５０は９０％〜１００％、より好ましくは９１％〜９９％、更に好ましくは９２％〜９８％である。
上述の微細偏光異物および低いＲｔｈに関し、本発明では以下のように解決した。
（１）微細偏光異物、黒色異物、黄色みの低減
微細偏光異物は、溶液流延法で製膜したセルロースアシレートフィルムには存在せず、溶融製膜法で作製したフィルムにのみ存在する。この発生原因を解析したところ、セルロースアシレートを製造する際に発生する未反応物であることが解かった。即ちセルロースアシレートはセルロースをアシル化して調製するが、アシル化が不均一に進みアシル化率の低いセルロースアシレートが生成することがある。溶液製膜法では、このような低アシル化物も溶剤に溶解するため微細偏光異物は発生しないが、従来の溶融製膜法ではこのような低アシル化物は溶融しきれず微細異物となって残り、上述の微細偏光異物となっていた。
このような微細偏光異物の発生を、本発明ではセルロースアシレートのペレット化工程で対処したことを特徴としている。即ち、このような微細な異物は濾過では取りきれず、根源から対処した（微細偏光異物となる低アシル化物を十分に融解させた）ことが特徴である。さらに濾過工程の前のペレット化工程で微細異物を除去するため濾過機を用いる必要がなく、簡略な金属メッシュフィルターで十分である。この結果、濾過機内での熱分解に起因する黒色異物や黄色みを軽減することができる。
具体的には、２軸混練押し出し機を用い、温度は、好ましくは１５０〜２２０℃、より好ましくは１６０〜２１０℃、さらに好ましくは１７０〜２００℃で、スクリュー回転数は、好ましくは１００〜８００ｒｐｍ、より好ましくは１５０〜６００ｒｐｍ、さらに好ましくは２００〜４００ｒｐｍで、滞留時間は好ましくは５秒〜３分、より好ましくは１０秒〜２分、さらに好ましくは２０秒〜９０秒でセルロースアシレートのペレットを作製する。
用いるスクリューの圧縮比は２〜５が好ましく、２．５〜４．５がより好ましく、２．５〜４がさらに好ましい。スクリューを通すバレルの直径は１０ｍｍ〜１００ｍｍが好ましく、１５ｍｍ〜８０ｍｍがより好ましく、２０ｍｍ〜６０ｍｍがさらに好ましい。バレルの長さ（Ｌ）と直径（Ｄ）の比（Ｌ／Ｄ）は、２０〜１００が好ましく、２５〜８０がより好ましく、２５〜６０がさらに好ましい。樹脂の吐出量は５０ｋｇ／時間〜１０００ｋｇ／時間が好ましく、７０ｋｇ／時間〜８００ｋｇ／時間がより好ましく、８０ｋｇ／時間〜６００ｋｇ／時間がさらに好ましい。
従来のペレット化工程においては、２軸混練押出し機を用い、２５０〜３３０℃、またはそれ以上の高温において、スクリュー回転数１０〜５０ｒｐｍ、またはそれ以下の低速で、滞留時間５分〜１５分、またはそれ以上という長時間をかけて実施していた。即ち、高温でゆっくり剪断力を加えず（低回転で）ペレット化していた。
これに対し、本発明では、低温、短時間、高剪断力（高回転）でペレット化することが好ましい。この方法を採用することにより、低アセチル体を溶融するためにより有効となる。即ち従来法のように剪断力ではなく（低回転）、熱（高温×長時間）で溶融する方法では溶融中に分解が発生し、これに伴い発生する架橋反応が低アセチル化体を一層溶融させにくくする。これに対し本発明のように熱ではなく（低温×短時間）、剪断力（高回転）で融解することで、分解による架橋を発生させず有効に低アセチル化体を融解することができる。
さらに、本発明では、２軸混練押し出し機の出口側にベントを設け真空排気しながらペレットを作製するのが好ましい。
セルロースアシレートのペレット化工程では事前に十分に予備乾燥（８０℃〜１５０℃で０．１時間〜２４時間）させるのが一般的であるが、セルロースアシレート粉体は親水的であるため、０．２質量％程度の残留水分が残り低アセチル化体は水の存在で分解が促進され、架橋性の異物となり易い。このため、本発明ではこのような予備乾燥に加え、ペレット２軸混練押出し機にベントを設け真空排気しながらペレット化することが好ましい。ベント部の真空度は、好ましくは１００Ｐａ〜９０ｋＰａであり、より好ましくは１０００Ｐａ〜８０ｋＰａであり、さらに好ましくは１０ｋＰａ〜７０ｋＰａである。このような真空排気は、２軸混練押出し機のスクリューのケーシングに排気口を設け、これを真空ポンプに配管することで達成できる。
さらにまた、本発明では、溶融後、好ましくは３０〜９０℃、より好ましくは３５〜８０℃、さらに好ましくは３７〜６０℃の温水中でストランド状に固化させた後、裁断し、乾燥する。
通常の工程では、２軸混練押出し機で溶融した後、数ｍｍの孔が多数空いたダイから、５〜２０℃の冷水に押出し、ストランド状にしてから凝固させた後、搬送させながら脱水、裁断しペレット化していた。この時、凝固させるための水温は上述のように低くするのが一般的であった。これはストランドを搬送する際、なるべく弾性率を高くし搬送し易くするためであった。
これに対し本発明では、上述のような温水で凝固させることが好ましい。低アシル化体は水酸基が多く残存しており、水に溶解し易いため、このように凝固浴の温度を上げることで溶出をより促す効果がある。さらに熱分解物も極性が高く温水に溶けやすいため、これらを低減し黄色みを減少させる効果もある。このような温水への浸漬時間は、好ましくは３秒〜１０分であり、より好ましくは５秒〜５分であり、さらに好ましくは１０秒〜３分である。
このような凝固浴の後、５℃以上〜３０℃未満の冷水中に通すことでストランドの弾性率を高め、搬送し易くすることがさらに好ましい。
このようにして得たセルロースアシレートペレット中には微細偏光異物の数が激減している。この数は下記方法で求めることができる。ペレットをホットプレスで潰し（２２０℃１分間）、約１００μｍのシートにする。これをクロスニコル下の偏光顕微鏡で観察し、微細偏光異物の数を数える。厚み、観察面積から単位体積（ｍｍ^３）あたりの数を求める。微細偏光異物は直径が１〜１００μｍであり、好ましくは０〜１００個／ｍｍ^３、より好ましくは０〜８０個／ｍｍ^３、さらに好ましくは０〜５０個／ｍｍ^３である。
（２）高Ｒｔｈ化
高Ｒｔｈ化に伴い、下記（２−１）〜（２−３）の少なくとも１以上の手段を採用するのが好ましい。
（２−１）Ｔ／Ｄを大きくする。
一般的に、溶融製膜では樹脂を溶融した後、スリットから樹脂を押出し、キャスティングドラム上で固化させるが、本発明では、キャスティングドラム上で、面配向させＲｔｈを増加させることが好ましい。即ちダイのリップ間隔（Ｔ）と製膜後のフィルムの厚み（Ｄ）の比（Ｔ／Ｄ）を大きくすることが好ましい。即ち溶融樹脂は、リップ間隔の厚みＴからＤにまで薄くなるため、この間面配向が進むからである。Ｔ／Ｄ比は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２．５〜８であり、さらに好ましくは３〜６である。従前のものでは、ＴはＤにより近い値に設定するためＴ／Ｄはほぼ１であった。
このようにＴからＤまで厚みを減少させるには、下記の方法がある。
すなわち、キャスティングドラムの周速を大きくし、リップから押出されてきた樹脂を高速で回転するキャスティングドラム（ＣＤ）上に引き取ることで、厚みを薄くし面配向を進めることができる。この時、キャスティングドラムの回転速度は、押出し速度とリップ間隔との兼ね合いで決まり、押出し速度×（Ｔ／Ｄ）になるよう調整する。即ち、押出し機ダイ出口の樹脂の線速度（Ｖ）のＴ／Ｄ倍になるようにＣＤ回転速度を設定すればよい。
（２−２）ダイのリップとキャスティングドラムの距離を調整する。
ダイのリップとキャスティングドラムの距離は、流延幅の１〜２０％にするのが好ましい。リップとキャスティングドラムの間隔を流延幅の１〜２０％に以内とすることにより、幅を比較的広く保つことが可能となり、また、厚みを比較的薄くできるため好ましい。具体的には、ダイのリップとキャスティングドラムの間は、好ましくは流延幅の１〜２０％、より好ましくは２〜１５％、さらに好ましくは３〜１０％にすることが好ましい。従来技術としては３０％程度の距離をおいて製膜することが通常であった。
（２−３）ダイの両端の温度を中央部より高くする。
Ｔ／Ｄを大きくし、かつキャスティングドラムの周速を大きくし高速で引き取ることにより、延伸を行っていることになる。樹脂温度がガラス移転温度（Ｔｇ）の近傍にまで低下するキャスティングドラム上では、このような延伸操作に伴いフィルム両端に割れが発生し易くなる。これを防ぐため、本発明ではダイの両端の温度を中央部より、好ましくは１〜２０℃、より好ましくは２〜１５℃、さらに好ましくは３〜１２℃、高くすることがより好ましい。このようなダイの端部の加熱は、パネルヒーターを増設することで達成できる。
さらに、これらのようにＴ／Ｄ比を大きくし、ダイ端部の温度を高くすることは微細偏光異物を少なくすることにもより効果的である。即ち、上記のように高いＴ／Ｄ比で面配向を進める際、厚みが圧縮されるため、この分を吸収するため幅方向に広がろうとし、中央から端部に向かい樹脂が流動する傾向にある。このとき端部の温度が高いと、端部の流動性が上昇し中央から端部に向かう樹脂の流れが促進される。この樹脂の流動にのり、微細偏光異物が端部に集まりやすくなる。このため、中央部には微細偏光異物がより存在し難くなる。一方、端部には微細偏光異物が濃縮されるが、製膜工程、その後の延伸工程でスリットされるため、問題は発生しない。
以下に本発明を製膜手順に沿って説明を加える。
（セルロースアシレート樹脂）
本発明で用いるセルロースアシレートは以下の特徴を有するものが好ましい。
（１）アシル基が、下記式（１）〜（３）で表される要件すべてを満たすセルロースアシレートフィルムが好ましい。
式（１） ２．６≦Ｘ＋Ｙ＜３．０
式（２） ０≦Ｘ≦１．８
式（３） １．０≦Ｙ＜３
（上記式中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。）
より好ましくは、
Ｙの１／２以上がプロピオニル基の場合
式（４） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
式（５） ０≦Ｘ≦０．９５
式（６） １．５≦Ｙ≦２．９５
Ｙの１／２未満がプロピオニル基の場合
式（７） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
式（８） ０．１≦Ｘ≦１．６５
式（９） １．３≦Ｙ≦２．５
さらに好ましくは、
Ｙの１／２以上がプロピオニル基の場合
式（１０） ２．７≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
式（１１） ０≦Ｘ≦１．５５
式（１２） ２．０≦Ｙ≦２．９
Ｙの１／２未満がプロピオニル基の場合
式（１３） ２．７≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
式（１４） ０．７≦Ｘ≦１．６５
式（１５） １．３≦Ｙ≦２．０
（上記式中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。）
本発明では、アセチル基の置換度を少なくし、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基の置換度の総和を多くしていることが特徴である。これにより、延伸中に伸びむらがより発生し難く、ＲｅおよびＲｔｈむらが発現しにくい上、結晶融解温度（Ｔｍ、融点とも言う）を下げることができ、溶融製膜の熱による分解で発生する黄変を抑制することもできる。これらの効果は、なるべく大きな置換基を用いることで達成できるが、大きすぎるとＴｇや弾性率を低下させすぎるため好ましくない。このためアセチル基より大きなプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基が好ましく、より好ましくはプロピオニル基、ブチリル基である。
これらのセルロースアシレート合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。具体的には、綿花リンターや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位および６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸および触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。アシル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解およびエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩または酸化物）の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水または希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水または希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理によりセルロースアシレートを得る。
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で、好ましくは１００〜７００、より好ましくは１００〜５５０、さらに好ましくは１２０〜４００であり、特に好ましくは１４０〜３５０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。さらに特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
このような重合度の調整には低分子量成分を除去することでも達成できる。低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。さらに重合方法でも分子量を調整できる。例えば、低分子成分の少ないセルロースシレテートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。
本発明で用いられるセルロースアシレートは、重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が、好ましくは１．５〜５．５であり、より好ましくは２．０〜５．０であり、さらに好ましくは２．５〜５．０であり、最も好ましくは３．０〜５．０である。
これらのセルロースアシレートは１種類のみを用いてもよく、２種以上混合しても良い。また、セルロースアシレート以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにしたときの透過率が好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上、よりさらに好ましくは９２％以上である。
さらに本発明では可塑剤を添加することが、より好ましい。可塑剤としては、例えば、アルキルフタリルアルキルグリコレート類、リン酸エステルやカルボン酸エステル、多価アルコール系（多価アルコールのエステル類）、ポリアルキレングリコール系（ポリアルキレングリコールのエステル類）等が挙げられる。
アルキルフタリルアルキルグリコレート類として、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレートおよびオクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。
リン酸エステルとしては、例えばトリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェートおよびビフェニルジフェニルホスフェート等を挙げることができる。さらに特表平６−５０１０４０号公報の請求項３〜７および本文の６〜７頁に記載のリン酸エステル系可塑剤を用いることが好ましい。
リン酸カルボン酸エステルとしては、例えばジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートおよびジエチルヘキシルフタレート等のフタル酸エステル類、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチルおよびクエン酸アセチルトリブチル等のクエン酸エステル類、ならびに、ジメチルアジペート、ジブチルアジペート、ジイソブチルアジペート、ビス（２−エチルヘキシル）アジペート、ジイソデシルアジペートおよびビス（ブチルジグリコールアジペート）等のアジピン酸エステルを挙げることができる。また上記の他、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチルおよびトリアセチン等を単独あるいは併用するのが好ましい。
多価アルコール系可塑剤は、セルロース脂肪酸エステルとの相溶性が良く、また熱可塑化効果が顕著に現れるグリセリンエステル、ジグリセリンエステルなどグリセリン系のエステル化合物やポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコール、ポリアルキレングリコールの水酸基にアシル基が結合した化合物などである。
具体的なグリセリンエステルとして、グリセリンジアセテートステアレート、グリセリンジアセテートパルミテート、グリセリンジアセテートミスチレート、グリセリンジアセテートラウレート、グリセリンジアセテートカプレート、グリセリンジアセテートノナネート、グリセリンジアセテートオクタノエート、グリセリンジアセテートヘプタノエート、グリセリンジアセテートヘキサノエート、グリセリンジアセテートペンタノエート、グリセリンジアセテートオレート、グリセリンアセテートジカプレート、グリセリンアセテートジノナネート、グリセリンアセテートジオクタノエート、グリセリンアセテートジヘプタノエート、グリセリンアセテートジカプロエート、グリセリンアセテートジバレレート、グリセリンアセテートジブチレート、グリセリンジプロピオネートカプレート、グリセリンジプロピオネートラウレート、グリセリンジプロピオネートミスチレート、グリセリンジプロピオネートパルミテート、グリセリンジプロピオネートステアレート、グリセリンジプロピオネートオレート、グリセリントリブチレート、グリセリントリペンタノエート、グリセリンモノパルミテート、グリセリンモノステアレート、グリセリンジステアレート、グリセリンプロピオネートラウレート、グリセリンオレートプロピオネートなどが挙げられるがこれに限定されず、これらを単独もしくは併用して使用することができる。
この中でも、グリセリンジアセテートカプリレート、グリセリンジアセテートペラルゴネート、グリセリンジアセテートカプレート、グリセリンジアセテートラウレート、グリセリンジアセテートミリステート、グリセリンジアセテートパルミテート、グリセリンジアセテートステアレート、グリセリンジアセテートオレートが好ましい。
ジグリセリンエステルの具体的な例としては、ジグリセリンテトラアセテート、ジグリセリンテトラプロピオネート、ジグリセリンテトラブチレート、ジグリセリンテトラバレレート、ジグリセリンテトラヘキサノエート、ジグリセリンテトラヘプタノエート、ジグリセリンテトラカプリレート、ジグリセリンテトラペラルゴネート、ジグリセリンテトラカプレート、ジグリセリンテトララウレート、ジグリセリンテトラミスチレート、ジグリセリンテトラパルミテート、ジグリセリントリアセテートプロピオネート、ジグリセリントリアセテートブチレート、ジグリセリントリアセテートバレレート、ジグリセリントリアセテートヘキサノエート、ジグリセリントリアセテートヘプタノエート、ジグリセリントリアセテートカプリレート、ジグリセリントリアセテートペラルゴネート、ジグリセリントリアセテートカプレート、ジグリセリントリアセテートラウレート、ジグリセリントリアセテートミスチレート、ジグリセリントリアセテートパルミテート、ジグリセリントリアセテートステアレート、ジグリセリントリアセテートオレート、ジグリセリンジアセテートジプロピオネート、ジグリセリンジアセテートジブチレート、ジグリセリンジアセテートジバレレート、ジグリセリンジアセテートジヘキサノエート、ジグリセリンジアセテートジヘプタノエート、ジグリセリンジアセテートジカプリレート、ジグリセリンジアセテートジペラルゴネート、ジグリセリンジアセテートジカプレート、ジグリセリンジアセテートジラウレート、ジグリセリンジアセテートジミスチレート、ジグリセリンジアセテートジパルミテート、ジグリセリンジアセテートジステアレート、ジグリセリンジアセテートジオレート、ジグリセリンアセテートトリプロピオネート、ジグリセリンアセテートトリブチレート、ジグリセリンアセテートトリバレレート、ジグリセリンアセテートトリヘキサノエート、ジグリセリンアセテートトリヘプタノエート、ジグリセリンアセテートトリカプリレート、ジグリセリンアセテートトリペラルゴネート、ジグリセリンアセテートトリカプレート、ジグリセリンアセテートトリラウレート、ジグリセリンアセテートトリミスチレート、ジグリセリンアセテートトリパルミテート、ジグリセリンアセテートトリステアレート、ジグリセリンアセテートトリオレート、ジグリセリンラウレート、ジグリセリンステアレート、ジグリセリンカプリレート、ジグリセリンミリステート、ジグリセリンオレートなどのジグリセリンの混酸エステルなどが挙げられるがこれらに限定されず、これらを単独もしくは併用して使用することができる。
この中でも、ジグリセリンテトラアセテート、ジグリセリンテトラプロピオネート、ジグリセリンテトラブチレート、ジグリセリンテトラカプリレート、ジグリセリンテトララウレートが好ましい。
ポリアルキレングリコールの具体的な例としては、平均分子量が２００〜１０００のポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどが挙げられるがこれらに限定されず、これらを単独もしくは併用して使用することができる。
ポリアルキレングリコールの水酸基にアシル基が結合した化合物の具体的な例として、ポリオキシエチレンアセテート、ポリオキシエチレンプロピオネート、ポリオキシエチレンブチレート、ポリオキシエチレンバリレート、ポリオキシエチレンカプロエート、ポリオキシエチレンヘプタノエート、ポリオキシエチレンオクタノエート、ポリオキシエチレンノナネート、ポリオキシエチレンカプレート、ポリオキシエチレンラウレート、ポリオキシエチレンミリスチレート、ポリオキシエチレンパルミテート、ポリオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチレンオレート、ポリオキシエチレンリノレート、ポリオキシプロピレンアセテート、ポリオキシプロピレンプロピオネート、ポリオキシプロピレンブチレート、ポリオキシプロピレンバリレート、ポリオキシプロピレンカプロエート、ポリオキシプロピレンヘプタノエート、ポリオキシプロピレンオクタノエート、ポリオキシプロピレンノナネート、ポリオキシプロピレンカプレート、ポリオキシプロピレンラウレート、ポリオキシプロピレンミリスチレート、ポリオキシプロピレンパルミテート、ポリオキシプロピレンステアレート、ポリオキシプロピレンオレート、ポリオキシプロピレンリノレートなどが挙げられるがこられに限定されず、これらを単独もしくは併用して使用することができる。
これらの可塑剤は、セルロースアシレートフィルムに対し、好ましくは０〜２０質量％であり、より好ましくは１〜２０質量％であり、さらに好ましくは２〜１５質量％である。これらの可塑剤は必要に応じて、２種類以上を併用して用いてもよい。
さらに、可塑剤以外に、種々の添加剤（例えば、紫外線防止剤、熱劣化防止剤、着色防止剤、光学異方性コントロール剤、微粒子、赤外吸収剤、界面活性剤および臭気トラップ剤（アミン等）など）を加えることができる。
赤外吸収染料としては、例えば、特開平２００１−１９４５２２号公報のものが使用でき、紫外線吸収剤としては例えば特開平２００１−１５１９０１号公報に記載のものが使用でき、それぞれセルロースアシレートに対して０．００１〜５質量％含有させることが好ましい。
熱劣化防止用、着色防止用の安定剤として、エポキシ化合物、弱有機酸、フォスフェイト、チオフォスフェイト系化合物、亜リン酸エステル（例えば、特開昭５１−７０３１６号公報、特開平１０−３０６１７５号公報、特開昭５７−７８４３１号公報、特開昭５４−１５７１５９号公報、特開昭５５−１３７６５号公報に記載のもの）、フォスファイト系化合物（特開２００４−１８２９７９号公報に記載のもの）を用いることができる。これらは単独で使用しても良く２種類以上混合して添加してもよい。
微粒子は、平均粒子サイズが５〜３０００ｎｍのものを使用することが好ましく、金属酸化物や架橋ポリマーから成るものを使用でき、セルロースアシレートに対して０．００１〜５質量％含有させることが好ましい。劣化防止剤はセルロースアシレートに対して０．０００１〜２質量％含有させることが好ましい。光学異方性コントロール剤は例えば特開２００３−６６２３０号公報および特開２００２−４９１２８号公報記載のもの等を使用でき、セルロースアシレートに対して０．１〜１５質量％含有させることが好ましい。
（溶融製膜）
（１）乾燥
上述の方法でペレット化したものを用いるのが好ましく、溶融製膜に先立ちペレット中の含水率を好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下にした後、溶融押出し機のホッパーに投入する。このときホッパーを、好ましくはＴｇ−５０℃〜Ｔｇ＋３０℃、より好ましくはＴｇ−４０℃〜Ｔｇ＋１０℃、さらに好ましくはＴｇ−３０℃〜Ｔｇにする。これによりホッパー内での水分の再吸着を抑制し、上記乾燥の効率をより発現し易くできる。
（２）混練押出し
好ましくは１２０℃〜２５０℃で、より好ましくは１４０℃〜２２０℃で、好ましくは混練溶融する。この時、溶融温度は一定温度で行ってもよく、いくつかに分割して制御しても良い。好ましい混練時間は２分〜６０分であり、より好ましくは３分〜４０分であり、さらに好ましくは４分〜３０分である。さらに、溶融押出し機内を不活性（窒素等）気流中、あるいはベント付き押出し機を用い真空排気しながら実施するのも好ましい。
（３）キャスト
溶融した樹脂をギヤポンプに通し、押し出し機の脈動を除去した後、金属メッシュフィルター等で濾過を行い、この後ろに取り付けたＴ型のダイから冷却ドラム上にシート状に押し出す。押出しは単層で行ってもよく、マルチマニホールドダイやフィードブロックダイを用いて複数層押出しても良い。この時、ダイのリップの間隔を調整することで幅方向の厚みむらを調整することができる。
この後キャスティングドラム上に押出す。この時、静電印加法、エアナイフ法、エアーチャンバー法、バキュームノズル法、タッチロール法等の方法を用い、キャスティングドラムと溶融押出ししたシートの密着を高めることが好ましい。このような密着向上法は、溶融押出しシートの全面に実施してもよく、一部に実施しても良い。
キャスティングドラムは、好ましくは６０〜１６０℃であり、より好ましくは７０〜１５０℃であり、さらに好ましくは８０〜１５０℃である。この後、キャスティングドラムから剥ぎ取り、ニップロールを経た後巻き取る。巻き取り速度は、好ましくは１０ｍ／分〜１００ｍ／分であり、より好ましくは１５ｍ／分〜８０ｍ／分であり、よりさらに好ましくは２０ｍ／分〜７０ｍ／分である。
製膜幅は、好ましくは１〜５ｍ、より好ましくは１．２〜４ｍ、さらに好ましくは１．３〜３ｍである。このようにして得られた未延伸フィルムの厚みは、好ましくは３０〜４００μｍであり、より好ましくは４０〜３００μｍであり、さらに好ましくは５０〜２００μｍである。
このようにして得たシートは両端をトリミングし、巻き取ることが好ましい。トリミングされた部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理や解重合・再重合等の処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料としてまたは異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。また、巻き取り前に、少なくとも片面にラミフィルムを付けることも、傷防止の観点から好ましい。
（延伸）
延伸は、Ｔｇ〜Ｔｇ＋５０℃で実施するのが好ましく、より好ましくはＴｇ＋１〜Ｔｇ＋３０℃、さらに好ましくはＴｇ＋２℃〜Ｔｇ＋２０℃である。延伸倍率は、好ましくは１０〜３００％であり、より好ましくは２０〜２５０％であり、さらに好ましくは３０〜２００％である。これらの延伸は１段で実施しても、多段で実施しても良い。ここで云う延伸倍率は、以下の式を用いて求めたものである。
延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）−（延伸前の長さ）｝／延伸前の長さ
このような延伸は縦延伸、横延伸、およびこれらの組み合わせによって実施される。縦延伸は、ロール延伸（出口側の周速を速くした２対以上のニップロールを用いて、長手方向に延伸）、固定端延伸（フィルムの両端を把持し、これを長手方向に次第に早く搬送し長手方向に延伸）等を用いることができる。さらに横延伸は、テンター延伸（フィルムの両端をチャックで把持しこれを横方向（長手方向と直角方向）に広げて延伸）等を使用することができる。これらの縦延伸、横延伸は、それだけで行っても良く（１軸延伸）、組み合わせて行っても良い（２軸延伸）。２軸延伸の場合、縦、横逐次で行っても良く（逐次延伸）、同時に行っても良い（同時延伸）。
縦延伸、横延伸の延伸速度は好ましくは１０％／分〜１００００％／分であり、より好ましくは２０％／分〜１０００％／分であり、さらに好ましくは３０％／分〜８００％／分である。多段延伸の場合、各段の延伸速度の平均値を指す。
このような延伸に引き続き、縦または横方向に０〜１０％緩和することも好ましい。さらに、延伸に引き続き、１５０〜２５０℃で１秒〜３分熱固定することも好ましい。
このような延伸により発現するＲｔｈは上述の範囲が好ましく、さらにＲｅは好ましくは２０ｎｍ〜３００ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍ〜２５０ｎｍ、さらに好ましくは４０ｎｍ〜２００ｎｍである。
ここで云うＲｅは以下の式で定義されるものである。
Ｒｅ＝｜ｎ_ｍｄ−ｎ_ｔｄ｜×ｄ
ここで、ｎ_ｍｄ、ｎ_ｔｄはそれぞれ、長手方向（ｍｄ）、幅方向（ＴＤ）の屈折率を指し、ｄは厚み（ｎｍ単位で表したもの）を指す。
また、ＲｅおよびＲｔｈは、好ましくはＲｅ≦Ｒｔｈであり、より好ましくはＲｅ×１．５≦Ｒｔｈであり、さらに好ましくはＲｅ≦Ｒｔｈ×２である。このようなＲｅおよびＲｔｈは、固定端１軸延伸、より好ましくは縦、横方向の２軸延伸により達成される。即ち縦、横に延伸することで面内の屈折率（ｎ_ｍｄ、ｎ_ｔｄ）の差を小さくしＲｅを小さくする、さらに、縦、横に延伸し面積倍率を大きくすることで厚み減少に伴う厚み方向の配向を強くすることでＲｔｈを大きくすることができるためである。このようなＲｅおよびＲｔｈにすることで、より一層黒表示での光漏れを軽減することができる。
このようにして延伸した後の膜厚は、好ましくは１０〜３００μｍであり、より好ましくは２０〜２００μｍであり、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。
また製膜方向（長手方向）と、フィルムのＲｅの遅相軸とのなす角度θが０°、＋９０°または−９０°に近いほど好ましい。即ち、縦延伸の場合は０°に近いほど好ましく、より好ましくは０±３°、さらに好ましくは０±２°、よりさらに好ましくは０±１°である。横延伸の場合は、９０±３°あるいは−９０±３°が好ましく、９０±２°あるいは−９０±２°がさらに好ましく、９０±１°あるいは−９０±１°がよりさらに好ましい。
これらの未延伸、延伸セルロースアシレートフィルムは単独で使用してもよく、これらと偏光板組み合わせて使用してもよく、これらの上に液晶層や屈折率を制御した層（低反射層）やハードコート層を設けて使用しても良い。
（表面処理）
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えば、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^−３〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマ処理や大気圧下でのプラズマ処理が好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素およびテトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、好ましくは１０〜１０００Ｋｅｖ下、２０〜５００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００Ｋｅｖ下、２０〜３００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。
アルカリ鹸化処理は、鹸化液に浸漬しても良く、鹸化液を塗布しても良い。浸漬法の場合は、ＮａＯＨやＫＯＨ等のｐＨ１０〜１４の水溶液を２０℃〜８０℃に加温した槽を０．１分〜１０分通過させたあと、中和、水洗、乾燥することで達成できる。
塗布方法の場合、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を用いることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するため濡れ性が良く、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨおよびＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒〜５分が好ましく、５秒〜５分がさらに好ましく、２０秒〜３分が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄し、その後水洗することが好ましい。また、塗布式鹸化処理と後述の配向膜解塗設を、連続して行ってもよく、この場合工程数を減少できる。これらの鹸化方法は、具体的には、特開２００２−８２２２６号公報または国際公開ＷＯ０２／４６８０９号パンフレット等に内容の記載が挙げられる。
機能層との接着のため下塗り層を設けることも好ましい。この層は上記表面処理をした後、塗設しても良く、表面処理なしで塗設しても良い。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁に記載されている。
これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。
（機能層）
本発明のセルロースアシレートフィルムに、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光層の付与（偏光板）、光学補償層の付与（光学補償シート）および反射防止層の付与（反射防止フィルム）である。
（１）偏光層の付与（偏光板の作製）
［使用素材］
現在、市販の偏光層は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素を浸透させることで作製されるのが一般的である。偏光膜は、Ｏｐｔｉｖａ Ｉｎｃ．に代表される塗布型偏光膜も利用できる。偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素またはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例えば、スルホ基、アミノ基またはヒドロキシル基等）を有することが好ましい。例えば、発明協会公開技法、公技番号２００１−１７４５号、５８頁（発行日２００１年３月１５日）に記載の化合物が挙げられる。
偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。バインダーには、例えば、特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロースおよびポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることもできる。水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号公報、同９−１５２５０９号公報および同９−３１６１２７号公報に記載がある。ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、２種以上を併用してもよい。
バインダー厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。厚みの上限は、液晶表示装置の光漏れの観点からは、薄ければ薄い程よい。現在市販の偏光板以下（例えば、３０μｍ以下）であることが好ましく、２５μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。
偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋性の官能基を有するポリマーおよびモノマーをバインダー中に混合しても良く、バインダーポリマー自身に架橋性官能基を付与しても良い。架橋は、光、熱あるいはｐＨ変化により行うことができ、架橋構造を持ったバインダーを形成することができる。架橋剤については、米国再発行特許第２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例えば、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましい。偏光素子の配向性、偏光膜の耐湿熱性が良好となる。
架橋反応が終了後でも、未反応の架橋剤は１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このようにすることで、耐候性がより向上する。
［延伸］
偏光膜は、偏光膜を延伸するか（延伸法）、またはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素または二色性染料で染色することが好ましい。
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。延伸はＭＤ方向に平行に行っても良く（平行延伸）、斜め方向におこなっても良い（斜め延伸）。これらの延伸は、１回で行っても、数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。
より好ましいのが斜め方向に１０〜８０度の傾きを付けて延伸する斜め延伸である。
（イ）平行延伸法
延伸に先立ち、ＰＶＡフィルムを膨潤させる。膨潤度は１．２〜２．０倍（膨潤前と膨潤後の重量比）である。この後、ガイドロール等を介して連続搬送しつつ、水系媒体浴内や二色性物質溶解の染色浴内で、好ましくは１５〜５０℃、より好ましくは１７〜４０℃の浴温で延伸する。延伸は２対のニップロールで把持し、後段のニップロールの搬送速度を前段のそれより大きくすることで達成できる。延伸倍率は、延伸後／初期状態の長さ比（以下同じ）に基づくが前記作用効果の点より、好ましくは１．２〜３．５倍、より好ましくは１．５〜３．０倍である。この後、５０〜９０℃において乾燥させて偏光膜を得るとよい。
（ロ）斜め延伸法
これには特開２００２−８６５５４号公報に記載の斜め方向に傾斜め方向に張り出したテンターを用い延伸する方法を用いることができる。この延伸は空気中で延伸するため、事前に含水させて延伸しやすくすることが必用である。含水率は、好ましくは５〜１００％、より好ましくは１０〜１００％である。
延伸時の温度は、好ましくは４０〜９０℃であり、より好ましくは５０〜８０℃である。湿度は、好ましくは５０〜１００％相対湿度（ＲＨ）であり、より好ましくは７０〜１００％相対湿度であり、さらに好ましくは８０〜１００％相対湿度である。長手方向の進行速度は、好ましくは１ｍ／分以上であり、より好ましくは３ｍ／分以上である。
延伸の終了後、好ましくは５０〜１００℃、より好ましくは６０〜９０℃で、好ましくは０．５分〜１０分、より好ましくは１分〜５分乾燥する。
このようにして得られた偏光膜の吸収軸は好ましくは１０〜８０度であり、より好ましくは３０〜６０度であり、さらに好ましくは実質的に４５度（４０〜５０度）である。
［貼り合せ］
上記鹸化後のセルロースアシレートフィルムと、延伸して調製した偏光層を貼り合わせ偏光板を調製する。張り合わせる方向は、セルロースアシレートフィルムの流延軸方向と偏光板の延伸軸方向が４５度になるように行うのが好ましい。
貼り合わせの接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基およびオキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは、乾燥後で、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍがより好ましい。
このようにして得た偏光板の光線透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがより好ましく、４０〜５０％の範囲にあることがさらに好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがより好ましく、９９〜１００％の範囲にあることがさらに好ましい。
さらに、このようにして得た偏光板はλ／４板と積層し、円偏光を作製することができる。この場合λ／４の遅相軸と偏光板の吸収軸を４５度になるように積層する。この時、λ／４は特に限定されないが、より好ましくは低波長ほどレターデーションが小さくなるような波長依存性を有するものがより好ましい。さらには長手方向に対し２０度〜７０度傾いた吸収軸を有する偏光膜、および液晶性化合物からなる光学異方性層から成るλ／４板を用いることが好ましい。
（２）光学補償層の付与（光学補償シートの作製）
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、セルロースアシレートフィルムの上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与することで形成される。
［配向膜］
上記表面処理したセルロースアシレートフィルム上に配向膜を設ける。この膜は、液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組み合わせを複数使用することができる。ポリマーの例には、例えば、特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体およびカルボキシメチルセルロースおよびポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチンおよびポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。
液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類および必要とする配向状態に応じて決定する。
例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基およびチオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基およびアジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシおよびモノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００２２］〜［０１４５］、特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体およびカルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。２種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がより好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、よりレチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマーおよび架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行って良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがより好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、例えば、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、８０℃〜１００℃がより好ましい。乾燥時間は、例えば、１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、好ましくはｐＨ４．５〜５．５で、より好ましくは５である。
配向膜は、透明支持体上または上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
工業的に実施する場合、搬送している偏光層のついたフィルムに対し、回転するラビングロールを接触させることで達成するが、ラビングロールの真円度、円筒度、振れ（偏芯）はいずれも３０μｍ以下であることが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１〜９０°が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０°以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。フィルムの搬送速度は１〜１００ｍ／分が好ましい。ラビング角は０〜６０°の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０°が好ましい。４５°が特に好ましい。
このようにして得た配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。
光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子が含まれる。棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
［棒状液晶性分子］
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、フェニルジトラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性分子として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性分子は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性分子については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
棒状液晶性分子の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基またはカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開２００２−６２４２７号公報の段落番号［００６４］〜［００８６］に記載の重合性基および重合性液晶化合物が挙げられる。
［円盤状液晶性分子］
円盤状（ディスコティック）液晶性分子には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
円盤状液晶性分子としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基および置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。円盤状液晶性分子から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物が円盤状液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。円盤状液晶性分子の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、円盤状液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
円盤状液晶性分子を重合により固定するためには、円盤状液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［０１５１］〜［０１６８］記載の化合物等が挙げられる。
ハイブリッド配向では、円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）と偏光膜の面との角度が、光学異方性層の深さ方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加または減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加および減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。さらに、角度は連続的に変化することが好ましい。
偏光膜側の円盤状液晶性分子の長軸の平均方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどを挙げることができる。長軸配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。
（光学異方性層の他の組成物）
上記の液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤および重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度および液晶分子の配向性等を向上することができる。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。
重合性モノマーとしては、例えば、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して、１〜５０質量％の範囲にあることが好ましく、５〜３０質量％の範囲にあることがより好ましい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報の段落番号［００２８］〜［００５６］に記載の化合物が挙げられる。
円盤状液晶性分子とともに使用するポリマーは、円盤状液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［０１７８］に記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
円盤状液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
［光学異方性層の形成］
光学異方性層は、液晶性分子および必要に応じて後述の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）およびエーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法およびダイコーティング法）により実施できる。
光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがより好ましく、１〜１０μｍであることがさらに好ましい。
［液晶性分子の配向状態の固定］
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号および同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ^２〜５０Ｊ／ｃｍ^２の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
この光学補償フィルムと偏光層を組み合わせることも好ましい。具体的には、上記のような光学異方性層用塗布液を偏光膜の表面に塗布することにより光学異方性層を形成する。その結果、偏光膜と光学異方性層との間にポリマーフィルムを使用することなく、偏光膜の寸度変化にともなう応力（歪み×断面積×弾性率）が小さい薄い偏光板が作製される。本発明に従う偏光板を大型の液晶表示装置に取り付けると、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる。
偏光層と光学補償層の傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。通常の傾斜角度は４５°である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５°でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
［液晶表示装置］
このような光学補償フィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。
（ＴＮモード液晶表示装置）
カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
（ＯＣＢモード液晶表示装置）
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許第４５８３８２５号および同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
（ＶＡモード液晶表示装置）
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向しているのが特徴であり、ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
（その他液晶表示装置）
ＩＰＳ、ＥＣＢモードおよびＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
（３）反射防止層の付与（反射防止フィルム）
反射防止膜は、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、および低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）とを透明基体上に設けて成る。
屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法が挙げられる。
一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。
上述したような塗布による反射防止フィルムに最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層から成る反射防止フィルムも挙げられる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは上記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式（塗布型）である。
［塗布型反射防止フィルムの層構成］
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。さらには、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層から構成してもよい。
例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報および特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また、膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
［高屈折率層および中屈折率層］
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒子サイズ１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理される技術（例えば、シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、特開平１１−１５３７０３号公報および特開２０００−９９０８号公報、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（特開２００１−１６６１０４等）、特定の分散剤併用（特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許６２１０８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等が挙げられる。
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂および硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
さらに、ラジカル重合性および／またはカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物およびその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、特開２００１−３１５２４２号公報、特開２００１−３１８７１号公報、特開２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
高屈折率層の屈折率は、例えば、１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
［低屈折率層］
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層してなる。低屈折率層の屈折率は、例えば、１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましく、１．３６〜１．４７であることがより好ましい。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報の段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報中の段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報の段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報、特開２００３−２６７３２号公報の段落番号［００１２］〜［００７７］、特開２００４−４５４６２号公報の段落番号［００３０］〜［００４７］等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例えば、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
架橋または重合性基を有する含フッ素および／またはシロキサンのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤および増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾル−ゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、特開昭５８−１４７４８３号公報、特開昭５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、特開平１１−１０６７０４号公報等に記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリパーフルオロアルキルエーテル基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、特開２００１−４８５９０号公報、特開２００２−５３８０４号公報に記載の化合物等）等が挙げられる。
低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法あるいはプラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
［ハードコート層］
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光および／または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、特開２０００−９９０８号公報、国際公開ＷＯ０／４６６１７号パンフレット等に記載のものが挙げられる。
高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層は、平均粒子サイズ０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜７μｍであることがより好ましい。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
［前方散乱層］
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設ける。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。
例えば、前方散乱係数を特定化した特開平１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等が挙げられる。
［その他の層］
上記の層以外に、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
［塗布方法］
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。
［アンチグレア機能］
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがより好ましく、７〜２０％であることがさらに好ましい。
反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層またはハードコート層）に比較的大きな粒子（粒子サイズ０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、特開２０００−９５８９３号公報、特開２００１−１００００４号公報および特開２００１−２８１４０７号公報等）、最上層（防汚性層）を塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報および特開２０００−２７５４０１号公報等に記載）等が挙げられる。
以下に本発明で使用した測定法について記載する。
（１）微細偏光異物
（１−１）フィルム中
溶融製膜後、あるいは延伸後のサンプルフィルムを、偏光子を直交させた偏光顕微鏡を用い倍率１００倍で観察する。ここで観察される１μｍ以上１００μｍ未満の白色の異物の数を目視で計測し、１ｍｍ^２あたりの個数で表す。
（１−２）ペレット中
ｉ）ペレットを２２０℃１分間ホットプレスでつぶし、約１００μｍのシートにする。
ｉｉ）これをクロスニコル下の偏光顕微鏡で１μｍ以上１００μｍ未満の白色異物の数を目視で計測し、厚み、観察面積から単位体積（ｍｍ^３）あたりの数を求める。
（２）ＲｅおよびＲｔｈ測定
上記サンプルフィルムを、２５℃・相対湿度６０％にて２４時間調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測機器（株）製）を用いて、２５℃・相対湿度６０％において、フィルム表面に対し垂直方向および遅相軸を回転軸としてフィルム面法線から＋５０°から−５０°まで１０°刻みで傾斜させた方向から波長５５０ｎｍにおける位相差値を測定することにより、面内レターデーション値（Ｒｅ）と膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）とを算出させた。特に断らない場合ＲｅおよびＲｔｈは、この値をさす。
（３）セルロースアシレートの置換度
セルロースアシレートのアシル置換度は、Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．２７３（１９９５）８３−９１（手塚他）に記載の方法で１３Ｃ−ＮＭＲにより求めた。
（４）黒色異物
溶融製膜後、あるいは延伸後のサンプルフィルムを、透過型顕微鏡を用い倍率１００倍で観察する。観察された１μｍ以上１００μｍ未満の黒色異物の数を目視で計測し、１ｍｍ^２あたりの個数で表す。
（５）黄色み
溶融製膜後、あるいは延伸後のサンプルフィルムを、分光光度計を用い空気をリファレンスとし、４５０ｎｍの透過率測定する。サンプルの厚みを測定し、ランベルト−ベール則を用い１００μｍあたりの透過率に換算し（Ｔ４５０）これを黄色みの指標とする。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
１．セルロースアシレートフィルムの製膜
（１）セルロースアシレートの調製
表１に記載のとおり、置換されるアシル基の種類および置換度の異なるセルロースアシレートを調製した。これらのセルロースアシレートは、触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、アシル置換基の原料となるカルボン酸を添加し、４０℃でアシル化反応を行った。この時、カルボン酸の種類および量を適宜調整することで、置換されるアシル基の種類および置換度を調整した。
また、アシル化後、４０℃で熟成を行った。このようにして得たセルロースアシレートの重合度は下記の方法で求めた。結果は、表１に示した（以下同じ。）。
（重合度測定法）
絶乾したセルロースアシレート約０．２ｇを精秤し、メチレンクロリド：エタノール＝９：１（質量比）の混合溶剤１００ｍｌに溶解した。これをオストワルド粘度計にて２５℃で落下秒数を測定し、重合度ＤＰを以下の式により求めた。
η_ｒｅｌ＝Ｔ／Ｔ_０
［η］＝（１ｎη_ｒｅｌ）／Ｃ
ＤＰ＝［η］／Ｋｍ
Ｔ：測定試料の落下秒数、Ｔ_０：溶剤単独の落下秒数、Ｃ：濃度（ｇ／ｌ）、Ｋｍ：６×１０^−４
（２）セルロースアシレートのペレット化
上記セルロースアシレートを１２０℃で３時間乾燥して、含水率を０．１質量％にしたものに、下記のいずれかの可塑剤を加え、さらに全水準に二酸化珪素部粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ）０．０５質量％を添加した。
可塑剤Ａ：下記可塑剤

可塑剤Ｂ：トリフェニルフォスフェート
可塑剤Ｃ：ジメチルフタレート
可塑剤Ｄ：ジオクチルアジペート
可塑剤Ｅ：グリセリンジアセテートモノオレエート
可塑剤Ｆ：ポリエチレングリコール（分子量６００）
上記を混合したものを２軸混練押出し機のホッパーに入れ、さらに表２のペレット化条件に記載の条件で混練した。なお、この２軸混練押出し機には真空ベントを設けて、真空排気（３０ｋＰａに設定）を行った。なお２軸混練機は圧縮率３のスクリューを用い、バレル直径４０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝４０、吐出量＝１５０ｋｇ／時間で混練押出しを行った。
このようにして融解した後のセルロースアシレートを、表２のストランド固化温度に記載の温度の水浴中に、直径３ｍｍのストランド状に押出し、１分間浸漬した後（ストランド固化）、１０℃の水中を３０秒通過させ温度を下げた後、長さ５ｍｍに裁断した。このようにして調製したペレットを１００℃で１０分間乾燥した。
上記の方法により得たペレットのＴｇは、以下の方法で測定した。
（Ｔｇ測定方法）
ＤＳＣの測定パンにサンプルを２０ｍｇ入れた。これを窒素気流中で、１０℃／分の速度で、３０〜２５０℃まで昇温した後（１ｓｔ−ｒｕｎ）、３０℃まで−１０℃／分の速度で冷却した。この後、再度、１０℃／分の速度で、３０℃から２５０℃まで昇温した（２ｎｄ−ｒｕｎ）。前記２ｎｄで求めたベースラインが低温側から偏奇し始める温度をＴｇ（℃）とした。
このようにして得たセルロースアシレートペレットの微細偏光異物を上記の方法で測定し表２に示した。本発明を実施したものの微細偏光異物は少なく良好であった。
（３）溶融製膜
上記方法で調製したセルロースアシレートペレットを、１１０℃の真空乾燥機で３時間乾燥した。これを（Ｔｇ−１０）℃になるように調整したホッパーに投入し、１９０℃で、５分間かけて溶融した。溶融後ダイとの間で、下記から選択した方法で濾過を行った。
（下記イ、ロから選んだ濾過方法は表３に記載した）
イ） スクリーンメッシュ（１００μｍ）
ロ）デプスフィルター（５μｍ）
ハ）デプスフィルター（５０μｍ）
ニ）スクリーンメッシュ（７０μｍ）
なお、比較例−９は特開２０００−３５２６２０の第００４６段落記載もさらに好ましい態様に準じてロ）の方法で濾過を行った。
表３に記載のＴ／Ｄ比（リップ間隔／製膜フィルムの厚み）、および、ダイとキャスティングドラム（ＣＤ）の間隔（ＣＤ−ダイ間の間隔を製膜幅で割り百分率で示したもの）の条件で製膜した。このとき、キャスティングドラムの速度を押出し速度のＴ／Ｄ倍にすることで所望の厚み（Ｄ）のフィルムを得た。この時、ダイの両端の温度を中央部より表３のダイの端部と中央の温度差（℃）に記載した温度だけ高くした。端部を１〜２０℃高くしたものはいずれも端部の割れは発生せず、１℃未満（比較例３、比較例９）では端部の割れが発生し、一方２０℃を超えると、樹脂の熱分解が発生し端部の着色が発生した（本発明−２８）。
キャスティングドラムはＴｇ−１０℃とし、この上で固化しフィルムとした。この時、各水準静電印加法（１０ｋＶのワイヤーをメルトのキャスティングドラムへの着地点から１０ｃｍのところに設置）を用いた。固化したメルトを剥ぎ取り、巻き取り直前に両端（全幅の各５％）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ５０μｍの厚みだし加工（ナーリング）を付けた後、３０ｍ／分の速度で３０００ｍずつ巻き取った。このようにして得た未延伸フィルムの幅は各水準とも１．５ｍであり、厚みは表３に記載した。
このようにして得た未延伸セルロースアシレートフィルムの微細偏光異物等を上記の方法で測定した。本発明を実施したものは良好な特性を示した。本発明の範囲外のものは、光学特性が低下した（表３の光漏れ、黒色異物、黄色みの増加）。特に、比較例−９は、特開２０００−３５２６２０号公報の実施例の試料Ｎｏ．１１に相当するものであるが、その微細偏光異物が増加し、Ｒｔｈが低かった。また、黒色異物、黄色みも増加した。
また、本発明３と比較例１、同１Ｂ、１Ｃを比較すると、本発明３は極めて粗いフィルターを用いても元々ペレットに含有する微細偏光異物が少ないため、製膜したフィルム、延伸したフィルム中の微細偏光異物を少なくすることができることが認められた。一方比較例１ではペレット中に存在する微細異物が多いため製膜フィルム、延伸フィルム中の微細偏光異物が多い。そして、これに微細な５、５０μｍフィルター（表３の濾過方法：ロ、ハ）を用いることで微細異物は減少するものの十分ではなく、さらに滞留部の熱分解により黒色異物、黄色みが増加している。このように、濾過では解決できない問題を本発明ではペレット化工程に着目することで解決している。本発明２９、比較例１０、同１０Ｂにおいても上記と同様のことを示す結果が得られた。
（４）延伸
上記未延伸フィルムを表３に記載の倍率で延伸した。この後、両端各５％ずつトリミングした。得られた延伸フィルムの物性（Ｒｔｈ、Ｒｅおよび微細偏光異物）を測定した。なお、延伸は上記で測定したＴｇより１０℃高い温度で、３００％／分で実施した。
２．偏光板の作製
（１）セルロースアシレートフィルムの鹸化
未延伸および延伸セルロースアシレートフィルムを下記浸漬鹸化法で鹸化した。
（１−１）浸漬鹸化
１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液を鹸化液として用いた。これを６０℃に調温し、セルロースアシレートフィルムを２分間浸漬した。この後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、水洗浴を通した。
（１−２）塗布鹸化
ｉｓｏ−プロパノール８０質量部に、水２０質量部を加え、これにＫＯＨを１．５規定となるように溶解し、６０℃に調温したものを鹸化液として用いた。
得られた鹸化液を６０℃のセルロースアシレートフィルム上に１０ｇ／ｍ^２の割合で塗布布し、１分間鹸化した。この後、スプレー状の５０℃の温水を、１０Ｌ／ｍ^２・分で、１分間吹きかけ洗浄した。
尚、上記いずれの鹸化でも同じものが得られた。
（２）偏光層の作製
特開平２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸した。
（３）貼り合わせ
このようにして得た偏光層と、上記鹸化処理した未延伸および延伸セルロースアシレートフィルムならびに鹸化処理したフジタックＴＤ８０Ｕ（未延伸トリアセテートフィルム）を、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、偏光軸とセルロースアシレートフィルムの長手方向が４５度となるように下記組み合わせで張り合わせた。
偏光板Ａ：延伸セルロースアシレートフィルム／偏光層／未延伸セルロースアシレートフィルム
偏光板Ｂ：延伸セルロースアシレートフィルム／偏光層／フジタックＴＤ８０Ｕ
偏光板Ｃ：延伸セルロースアシレートフィルム／偏光層／延伸セルロースアシレートフィルム
偏光板Ｄ：未延伸セルロースアシレートフィルム／偏光層／フジタックＴＤ８０Ｕ
偏光板Ｅ：未延伸セルロースアシレートフィルム／偏光層／未延伸セルロースアシレートフィルム
なお、偏光板Ａの未延伸セルロースアシレートは同じ水準の延伸前のフィルムを使用した。
偏光板Ｅの両側の未延伸セルロースアシレートは同じものを使用した。
３．光学補償フィルム・液晶表示素子の作製
１５インチディスプレーＶＬ−１５３０Ｓ（富士通（株）製、ＶＡ方式）において、偏光板を上記偏光板Ａ〜Ｅのいずれかに代えて使用した。この際、偏光板Ｄ，Ｅを用いた場合は、この偏光板と液晶層の間に位相差膜として本発明−１の延伸フィルムを挟み込んだ。これらの偏光板Ａ〜Ｄは液晶層の片側あるいは両側に設置した。このようにして得た液晶表示装置について、下記の方法によって漏れ量、黄色み、黒色異物量を測定した。
（光漏れ評価方法）
上記液晶表示装置を、全面黒表示とし、真っ暗な部屋の中に置いた。この時の画面の明るさを光度計で測定した。この光量の値を、全面白表示にした時の値で割り、百分率で表した量を光漏れ（％）とした。
本発明の延伸セルロースアシレートフィルムを用いた位相差偏光板を使用したものは、偏光板Ａ〜Ｅのいずれも構成でも光漏れが少なく、良好な光学補償フィルムを作製できた。一方、本発明の範囲外のものは、光漏れが顕著であった。特に、特開２０００−３５２６２０号公報の実施例中の試料Ｎｏ．１１に相当するもの（表３の比較例９）の光漏れが顕著であった。この点は、実施例２３との比較により、より明確であった。また、本発明２９〜３１は未延伸セルロースアシレートフィルムを偏光板に用いた。これらの未延伸セルロースアシレートフィルムのＲｅは０〜１０ｎｍ、Ｒｔｈは０〜１５ｎｍであった。このようにＲｅ，Ｒｔｈが低いため、光もれは延伸したものを用いた本発明−３２に比べると増加するが、実用には支障ない範囲であった。
（黄色み）
上記液晶表示装置を全面白表示とし、真っ暗な部屋の中に置いた。この時の４５０ｎｍと５５０ｎｍの発光強度を測定し、この比率（４５０ｎｍの発光強度／５５０ｎｍの発光強度）を黄色みの指標（Ｅ４５０）とした。即ち黄色みが強くなるほど補色の青色（４５０ｎｍ）の発光強度が低下し、５５０ｎｍで規格化した値が小さくなる。
本発明の偏光板を使用したものは偏光板Ａ〜Ｅいずれの構成でも、黄色みが少なく、良好な光学補償フィルムを作製できた。一方、本発明の範囲外のものは、黄色みが顕著であった。特に、特開２０００−３５２６２０号公報の実施例中の試料Ｎｏ．１１に相当するもの（表３の比較例９）の黄色みが顕著であった。この点は、実施例２３との比較により、より明確であった。
（黒色異物量）
上記液晶表示装置を全面白表示とし、一辺１０ｃｍの正方形中の黒点の数（黒色異物）の数を１００倍のルーぺを用いて測定し単位面積（ｍｍ^２）あたりの数とした。本発明の偏光板を使用したものは偏光板Ａ〜Ｅいずれの構成でも、黒色異物が少なく、良好な光学補償フィルムを作製できた。一方、本発明の範囲外のものは、黒色異物が顕著であった。特に、特開２０００−３５２６２０号公報の実施例中の試料Ｎｏ．１１に相当するもの（表３の比較例９）の黒色異物が顕著であった。この点は、実施例２３との比較により、より明確であった。表１において「ダイの端部と中央の温度差」はダイの端部の温度から中央の温度を差し引いた値で示した。
また、本発明−１、１６の未延伸フィルムを用いても、偏光板Ｄ、Ｅを作成し液晶表示素子の片側に装着し評価した。いずれも光漏れ４％、黒色異物０個、黄色み０．９６と良好な性能を示した。
さらに、ブチリル基を１．４、アセチル基を１．４にした以外は全て本発明−１とおなじようにしてペレット化した。このペレット中異物は０個／ｍｍ^３であった。これを用い製膜し未延伸フィルムを作成した。この未延伸フィルム中の微細偏光異物＝０個／ｍｍ^２、黒色異物＝０個／ｍｍ^２、黄色み＝９３％であった。これを用い、偏光板Ｄ、Ｅを作製し液晶表示素子の片側に装着し評価した。いずれも光漏れ４％、黒色異物０個、黄色み０．９６と良好な性能を示した。

さらに、特開平１１−３１６３７８号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムの代わりに、本発明の未延伸、延伸セルロースアシレートフィルムを使用しても、良好な光学補償フィルムを作製できた。
同様に、特開平７−３３３４３３号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムに代わって、本発明の未延伸、延伸セルロースアシレートフィルムに変更し光学補償フィルターフィルムを作製しても、良好な光学補償フィルムを作製できた。
さらにまた、本発明の偏光板および位相差偏光板を、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層およびポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置に用いたところ、いずれも、光漏れの無い良好な液晶表示素子が得られた。
４．低反射フィルムの作製
本発明の未延伸、延伸セルロースアシレートフィルムを発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）の実施例４７に従い本発明の延伸セルロースアシレートフィルムを用いて低反射フィルムを作製したところ、良好な光学性能が得られた。
さらに本発明の低反射フィルムを、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置液晶表示装置の最表層に貼り評価を行ったところ、いずれも、良好な液晶表示素子を得た。

本発明では、溶融製膜法で作製したセルロースアシレートフィルムにおいても、微細偏光異物を著しく低減させることが可能になった。
結果として、本発明のセルロースアシレートフィルムは、液晶表示装置に組み込み黒表示時した時に発生する表示故障（光漏れ、輝点異物、黒色異物、黄色み）を改良した。

Claims (20)

1. 溶融流延によって製膜され、微細偏光異物が０〜１０個／ｍｍ^２、黒色異物が０〜１０個／ｍｍ^２、４５０ｎｍにおける透過率（Ｔ４５０）が９０〜１００％である、セルロースアシレートフィルム。
2. 前記微細偏光異物が０〜８個／ｍｍ^２、黒色異物が０〜８個／ｍｍ^２、４５０ｎｍにおける透過率（Ｔ４５０）が９１〜９９％である請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
3. Ｒｔｈが１００〜８００ｎｍである請求項１または２に記載のセルロースアシレートフィルム。
4. Ｒｔｈが１４０〜５００ｎｍである、請求項１または２に記載のセルロースアシレートフィルム。
5. 前記セルロースアシレートフィルムが有するアシル基は、下記式（１）〜（３）で表される要件すべてを満たす請求項１〜４のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
   式（１） ２．６≦Ｘ＋Ｙ＜３．０
   式（２） ０≦Ｘ≦１．８
   式（３） １．０≦Ｙ＜３
   （上記式（１）〜（３）中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。）
6. 前記セルロースアシレートフィルムが有するアシル基は、下記式（１）〜（３）で表される要件すべてを満たす請求項１〜４のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
   下記Ｙの１／２以上がプロピオニル基の場合
   式（４） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
   式（５） ０≦Ｘ≦０．９５
   式（６） １．５≦Ｙ≦２．９５
   下記Ｙの１／２未満がプロピオニル基の場合
   式（７） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
   式（８） ０．１≦Ｘ≦１．６５
   式（９） １．３≦Ｙ≦２．５
   （上記式（４）〜（９）中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。）
7. Ｒｅが２０〜３００ｎｍである請求項１〜６のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
8. Ｒｅが３０〜２５０ｎｍである請求項１〜６のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムを、少なくとも１方向に１０〜３００％延伸してなるセルロースアシレートフィルム。
10. 全光線透過率が８０％以上である、請求項１〜９のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
11. セルロースアシレートを含む組成物を、混練押し出し機で、１５０〜２２０℃、スクリュー回転数１００〜８００ｒｐｍ、滞留時間５秒〜３分で混練して融解する工程を含むセルロースアシレートペレットの製造方法。
12. 前記セルロースアシレートが、下記式（１）〜（３）で表される要件すべてを満たす請求項１１に記載のセルロースアシレートペレットの製造方法。
    式（１） ２．６≦Ｘ＋Ｙ＜３．０
    式（２） ０≦Ｘ≦１．８
    式（３） １．０≦Ｙ＜３
    （上記式（１）〜（３）中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。）
13. 真空排気しながら混錬して融解する請求項１１または１２に記載のセルロースアシレートペレットの製造方法。
14. 前記溶融した後、３０〜９０℃の温水中でストランド状に固化し、さらに、裁断および乾燥することを特徴とする請求項１１〜１３のいずれか１項に記載のセルロースアシレートペレットの製造方法。
15. 請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の方法で製造セルロースアシレートペレット。
16. 下記式（１）〜（３）で表される要件すべてを満たし、微細偏光異物が０〜１００個／ｍｍ^３のセルロースアシレートペレット。
    式（１） ２．６≦Ｘ＋Ｙ＜３．０
    式（２） ０≦Ｘ≦１．８
    式（３） １．０≦Ｙ＜３
    （上記式（１）〜（３）中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基の置換度の総和を示す。）
17. 請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の方法により製造したセルロースアシレートペレットを溶融し、ダイから押出した後、キャスティングドラムで所定の厚さに製膜する工程を含み、かつ、前記ダイのリップ間隔Ｔと製膜後のフィルム厚みＤの比（Ｔ／Ｄ）が２〜１０となるよう製膜するセルロースアシレートフィルムの製造方法。
18. 偏光層と、偏光層上に設けられた、少なくとも１層の請求項１〜１０のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムとを有する偏光板。
19. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムを基材に用いた液晶表示板用光学補償フィルム。
20. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムを基材に用いた反射防止フィルム。