JPWO2002032882A1 - 置換アニリン化合物の製造方法 - Google Patents

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Abstract

本発明は、一般式（３）で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより、一般式（４）で表されるアセトアニリド化合物を製造し、この化合物に対しによる還元、及び、脱アセチル化をすることを特徴とする、一般式（６）で表される置換アニリン類の工業的に有利な製造方法を提供する。

Description

技術分野
本発明は例えば農医薬品の製造において有用な中間体となりうる置換アニリン化合物の製造方法に関するものである。
背景技術
これまでに４，６−ジメトキシピリミジンを有するスルホンアニリド誘導体の中で、いくつかの化合物が高い除草活性を有していることは既に知られており（特開平１１−６０５６２号公報、ＷＯ００／０６５５３号公報参照）、その製造においては、置換アニリン化合物が重要中間体として有用であることも知られている。
一方、高い除草活性を有するスルホンアニリド誘導体の重要中間体である置換アニリン類の製造方法も、これまで開示されているが（特開平７−４８３５９号公報、ＷＯ９６／４１７９９号公報参照）、これらは工業化製法としては不利な反応を利用するものであったので、目的とする置換アニリン類の工業的に有利な製造方法の出現が望まれていた。
発明の開示
本発明者が上記課題を解決すべく鋭意努力を重ねた結果、例えば（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物とヒドラジン化合物を酸の存在下反応させて置換インドール化合物を製造し、置換インドール化合物を酸化することによりインドール環の開環を行ってアセトアニリド化合物を得、得られたアセトアニリド化合物に対して好ましくは水素化ホウ素ナトリウムによる還元や、そのアミド部位の脱アセチル化をすることで、目的とする置換アニリン化合物を製造すること、即ち、上記課題を解決できることを見出し、この知見に基づき本発明を完成するに至った。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、主として下記〔１〕乃至〔１４〕に記載の発明を提供する事により前記課題を解決したものである。
〔１〕一般式（３）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより、一般式（４）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
で表されるアセトアニリド化合物を製造し、この化合物に対し還元、及び、脱アセチル化をすることを特徴とする、一般式（６）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
で表される置換アニリン化合物の製造方法。
〔２〕一般式（３）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより、一般式（４）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
で表されるアセトアニリド化合物を製造し、この化合物を還元し、一般式（５）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙ、Ａｃは前記と同じ意味を示す。）
で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物を製造し、続いて脱アセチルすることを特徴とする、一般式（６）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
で表される置換アニリン化合物の製造方法。
〔３〕一般式（３）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより得られる一般式（４）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
で表されるアセトアニリド化合物を単離することなく還元し、一般式（５）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙ、Ａｃは前記と同じ意味を示す。）
で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物を製造し、続いて脱アセチルすることを特徴とする、一般式（６）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
で表される置換アニリン化合物の製造方法。
〔４〕一般式（３）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより、一般式（４）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
で表されるアセトアニリド化合物を製造し、この化合物を脱アセチルして、一般式（７）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
で表されるアミノ化合物を製造し、続いて還元することを特徴とする、一般式（６）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
で表される置換アニリン化合物の製造方法。
〔５〕一般式（３）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
で表される置換インドール化合物を、一般式（１）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前記と同じ意味を示す。）
で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物と、一般式（２）
Figure 2002032882
（式中、Ｘ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
で表されるヒドラジン化合物を酸の存在下反応させて製造する、１乃至４のいずれかに記載の置換アニリン化合物の製造方法。
〔６〕一般式（３）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより、一般式（４）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
で表されるアセトアニリド化合物を製造し、この化合物を脱アセチルすることを特徴とする、一般式（７）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは、前記と同じ意味を示す。）
で表されるアミノ化合物の製造方法。
〔７〕一般式（３）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより、一般式（４）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
で表されるアセトアニリド化合物を製造し、この化合物を還元することを特徴とする、一般式（５）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙ、Ａｃは、前記と同じ意味を示す。）
で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物の製造方法。
〔８〕一般式（３）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより得られる一般式（４）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
で表されるアセトアニリド化合物を単離することなく還元することを特徴とする、一般式（５）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙ、Ａｃは前記と同じ意味を示す。）
で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物の製造方法。
〔９〕一般式（１）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示す。）
で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物と、一般式（２）
Figure 2002032882
（式中、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
で表されるヒドラジン化合物を酸の存在下反応させることを特徴とする、一般式（３）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味をを示す。）
で表される置換インドール化合物の製造方法。
〔１０〕一般式（３）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことを特徴とする、一般式（４）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
で表されるアセトアニリド化合物の製造方法。
〔１１〕一般式（４）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
で表されるアセトアニリド化合物を脱アセチルすることを特徴とする、一般式（７）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
で表されるアミノ化合物の製造方法。
〔１２〕一般式（７）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
で表されるアミノ化合物を還元することを特徴とする、一般式（６）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
で表される置換アニリン化合物の製造方法。
〔１３〕一般式（４）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を、Ａｃはアセチル基を示す。）
で表されるアセトアニリド化合物を還元することを特徴とする、一般式（５）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙ、Ａｃは前記と同じ意味を示す。）
で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物の製造方法。
〔１４〕一般式（５）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を、Ａｃはアセチル基を示す。）
で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物を脱アセチルすることを特徴とする、一般式（６）
Figure 2002032882
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
で表される置換アニリン化合物の製造方法。
以下、本発明について詳細に説明する。
〔１〕記載の本発明方法（以下、特記しないかぎり「本発明方法」は同意である。）は、一般式（３）で表される置換インドール化合物を原料とするが、この一般式（３）で表される置換インドール化合物は、一般式（１）で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物と、一般式（２）で表されるヒドラジン化合物を酸の存在下反応させて製造することができるので、最初にこの一般式（３）で表される置換インドール化合物を製造する工程（工程１）を説明する。
まず、原料となる、一般式（１）で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物と一般式（２）で表されるヒドラジン化合物とについて説明する。
一般式（１）で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物中のＲ１、Ｒ２、及びＲ３は、各々独立に例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等の炭素数１乃至６（以下、炭素数については、例えば炭素数が１乃至６である場合には、これを「Ｃ１〜Ｃ６」の様に略記する。）の直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ６アルキル基；例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基等の直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基；例えばメトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基等の直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル基；例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基等の直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基；カルボキシル基；例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基；例えばメチルカルボキサミド基、エチルカルボキサミド基等の直鎖又は分岐（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）カルボキサミド基；ニトロ基；フェニル基等のアリール基；例えばフェニルメチル基、フェニルエチル基等の直鎖または分岐アリール（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル基；例えばフェノキシ基、ナフトキシ基等のアリールオキシ基；例えばブロモ基、クロロ基、フルオロ基、ヨード基等のハロゲン原子及び水素原子を示すことができる。
従って工程１に使用できる一般式（１）で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物としては、具体的に例えば、１−（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン、１−（４，６−ジメチルピリミジン−２−イル）−２−プロパノン、１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノン、１−（４，６−ジメトキシ−５−メチルピリミジン−２−イル）−２−プロパノン、１−（４，６−ジメトキシ−５−エチルピリミジン−２−イル）−２−プロパノン、１−（４，６−ジメトキシ−５−ニトロピリミジン−２−イル）−２−プロパノン、１−（４，６−ジクロロピリミジン−２−イル）−２−プロパノン、１−（４，６−ジメトキシ−５−エトキシカルボニルピリミジン−２−イル）−２−プロパノン、１−（４，６−ジエトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノン等を挙げることできる。一般式（１）で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物には互変異性体が存在し、何れの互変異性体も本発明方法では使用可能であるが、本明細書の記載においては、その構造の表現は一般式（１）の如く２−プロパノン誘導体としての構造式で、また、その名称は上記の如く２−プロパノン誘導体としての命名による名称でそれぞれ代表させる。
これら一般式（１）で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物は公知の化合物であるか、２−フェニルスルホニル−４，６−ジメチルピリミジン等を原料としてケミカル　アンド　ファーマシューティカル　ブルティン（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　＆　Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ　Ｂｕｌｌｅｔｉｎ）、第１５２頁（１９８２年）記載の方法などに準じて製造することができる化合物であり、一般式（１）で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物の中には１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノン等の新規化合物があり、これは前記一般式（６）で表される置換アニリン化合物を製造する際に原料として有用な化合物である。
一方、一般式（２）中のＸ及びＹは、各々独立に例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等の直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ６アルキル基；例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基等の直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基；例えばメトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基等の直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル基；例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基等の直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基；カルボキシル基；例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基；例えばブロモ基、クロロ基、フルオロ基、ヨード基等のハロゲン原子；又は水素原子を示すことができる。
従って、工程１に使用できる一般式（２）で表されるヒドラジン化合物としては、具体的に例えば、フェニルヒドラジン、２−メチルフェニルヒドラジン、４−メチルフェニルヒドラジン、２，４−ジメチルフェニルヒドラジン、２−エチルフェニルヒドラジン、４−エチルフェニルヒドラジン、４−イソプロピルフェニルヒドラジン、２−メトキシフェニルヒドラジン、４−メトキシフェニルヒドラジン、２−メトキシメチルフェニルヒドラジン、４−メトキシメチルフェニルヒドラジン、４−トリフルオロメチルフェニルヒドラジン、２−ヒドラジノ安息香酸、４−メトキシカルボニルフェニルヒドラジン、２−クロロフェニルヒドラジン等を挙げることができる。
又、一般式（２）で表されるヒドラジン化合物は、フリー（遊離）のものでも、例えば塩酸塩や硫酸塩等の塩となっているものでも、何れも使用することができる。
一般式（２）で表されるヒドラジン化合物は公知の化合物であるか、あるいは対応するアニリンを原料としてジャーナル　オブ　オーガニック　ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、第２８４９頁（１９７２年）記載の方法などに準じて製造することができる化合物である。
尚、一般式（２）で表されるヒドラジン化合物中の２−メトキシメチルフェニルヒドラジンは新規化合物である。
工程１での一般式（３）で表される置換インドール化合物製造上における、一般式（２）で表されるヒドラジン化合物と一般式（１）で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物のモル比は、如何なるモル比でも反応が進行するが、一般式（２）で表されるヒドラジン化合物１モルに対して一般式（１）で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物が通常０．５〜３モル、好ましくは１〜２モルの範囲を例示できる。
一般式（３）で表される置換インドール化合物を製造する工程１は酸を用いて行う。用いうる酸としては、例えば、塩酸、硫酸等の鉱酸類；酢酸、トリフルオロ酢酸等の酢酸類；塩化亜鉛、三フッ化ホウ素等のルイス酸；ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類；ポリ燐酸等の燐酸類；三塩化燐等のハロゲン化燐類；アンバーリスト等の酸性イオン交換樹脂類等を例示することができるが、好ましくは塩化亜鉛、三フッ化ホウ素等のルイス酸を用いて行うのがよい。本工程における酸の使用量は、生成する一般式（３）で表される置換インドール化合物を分解しない量であればよいが、一般式（２）で表されるヒドラジン化合物１モルに対して０．００１〜１０モル、好ましくは０．１〜２モルの範囲であればよい。
一般式（３）で表される置換インドール化合物を製造する工程１は、無溶媒でも充分行うことができるが、溶媒を用いて行うこともできる。本反応に用いうる溶媒としては、反応を阻害しないしないものであれば良く、例えば、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホリックトリアミド（ＨＭＰＡ）等の非プロトン性極性溶媒類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒類；ペンタン、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素類等が挙げられるが、好ましくはトルエン等の芳香族炭化水素類がよい。溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。溶媒量としては、反応系の攪拌が充分にできる量であればよいが、一般式（５）で表されるヒドラジン化合物１モルに対して通常０．５〜２０ｌ、好ましくは１〜１０ｌの範囲であればよい。
一般式（３）で表される置換インドール化合物を製造する工程１の反応温度は０℃〜使用する溶媒の還流温度の範囲を例示できるが、好ましくは０℃〜１２０℃の範囲がよい。
上記の様にして製造できる一般式（３）で表される置換インドール化合物を製造する工程１の反応時間は、特に制限されないが、好ましくは０．５時間〜１２時間がよい。
工程１で製造できる一般式（３）で表される置換インドール化合物は新規化合物であり、これは除草剤として高活性で有用であることが知られているスルホンアニリド誘導体の中間原料として有用な化合物である。
本発明方法では、上記のようにして得られた一般式（３）で表される置換インドール化合物のインドール環を酸化により開環を行い、一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物を製造する工程（工程２）と、続いて一般式（４）で表されるアセトアニリド化合物に対し還元、及び、脱アセチル化をすることにより最終化合物である一般式（６）で表される置換アニリン化合物を製造する工程から構成されるが、還元、及び、脱アセチル化はいずれを先行させてもよいので、上記工程２、及び、一般式（４）で表されるアセトアニリド化合物と好ましくは水素化ホウ素ナトリウムと反応させることにより前記一般式（５）で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物を製造する工程（工程３）と、工程３で得られる一般式（５）で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物のアミド部位を脱アセチルすることによって最終化合物である一般式（６）で表される置換アニリン化合物を製造する工程（工程４）を順に説明する。
工程２は、工程１で得られる一般式（３）で表される置換インドール化合物を酸化的にインドール環を開環する事によって、一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物を製造する工程である。尚、一般式（３）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ及びＹは前記と同じ意味を示している。
この工程２において用いられる酸化剤としては、例えばオゾン；過酸化水素等の無機過酸化物；過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸等の有機過酸類；過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウム、タングステン酸ナトリウム、モリブデン酸アンモニウム等の金属酸化物、空気等が例示できるが、好ましくはオゾンがよい。これら酸化剤は単独でも充分反応は進行するが、任意の混合割合で用いることもできる。本酸化工程における酸化剤の使用量は生成する一般式（４）の置換アセトアニリド化合物を分解しない範囲であればよいが、一般式（３）で表される置換インドール化合物１モルに対して、通常、０．１〜２０モル、好ましくは１〜１０モルがよい。
工程２では通常、溶媒を用いて反応を行う。用いうる溶媒としては反応を阻害しないものであれば良く、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類；ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒類；アセトニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム等のエーテル系溶媒類；メタノール、エタノール等のアルコール類；酢酸等のカルボン酸類；アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；水等が挙げられる。溶媒は単独で、又は任意の割合の混合溶媒として用いることができる。溶媒量としては、反応系の攪拌が充分にできる量であればよいが、一般式（３）で表される置換インドール化合物１モルに対して通常０．５〜２０ｌ、好ましくは１〜１０ｌの範囲であればよい。
工程２の反応温度は、−２０℃〜使用する溶媒の還流温度の範囲を例示できるが、好ましくは−１０℃〜６０℃の範囲がよい。
工程２の反応時間は特に制限されないが、好ましくは０．５時間〜１２時間がよい。
工程２で得られる一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物は新規化合物であり、これら置換アセトアニリド化合物は除草剤として有用であることが知られているスルホンアニリド誘導体の中間原料として有用な化合物である。
この様にして一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物が製造できる。
一般式（４）で表されるアセトニリド化合物としては、具体的に例えば、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アセトアニリド、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メチルアセトアニリド、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−エチルアセトアニリド、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メトキシメチルアセトアニリド、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−４−メチルアセトアニリド、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−４−エチルアセトアニリド、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−４−メトキシメチルアセトアニリド、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−４−クロロアセトアニリド、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−クロロアセトアニリド、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−４−フルオロアセトアニリド、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−フルオロアセトアニリド等を挙げることができる。
更に、この様にして工程２で得られた一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物は、単離精製しなくても引き続き工程３に使用することができる。すなわち一般式（３）で表される置換インドール化合物を例えばオゾン等で工程２の酸化開環工程を行い、続いて後記工程３の好ましくは水素化ホウ素ナトリウムによる還元を同一容器内で行うことにより、一般式（５）で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物を簡便に得ることができ、使用した酸化剤の後処理も容易となる。従って、工業的には、このような酸化開環工程と還元工程を連続的に同一容器内で行う方法を採用することが操作の簡便性等の観点から好ましい。
次に工程３について説明する。
工程３は、一般式（４）で表されるアセトアニリド化合物を、好ましくは水素化ホウ素ナトリウムで還元することにより、一般式（５）で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物を製造する工程である。尚、一般式（４）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ及びＹは前記と同じ意味を示している。
工程３における一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物と水素化ホウ素ナトリウムのモル比は如何なるモル比でもよいが、置換アセトアニリド化合物１モルに対して０．５〜２０モル、好ましくは１〜１０モルでよい。
工程３の反応は通常、溶媒を用いて行われる。工程３に用いられる溶媒としては、本反応を阻害しないものであれば良く、例えば、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類；メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール等のアルコール類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒類；ペンタン、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）−４００等のポリエチレングリコール類や水等が挙げられる。溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。溶媒量としては、反応系の攪拌が充分にできる量であればよいが、一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物１モルに対して通常、０．５〜２０ｌ、好ましくは１〜１０ｌの範囲であればよい。
工程３の反応温度は、−１５℃〜使用する溶媒の還流温度の範囲を例示できるが、好ましくは−５℃〜６０℃の範囲がよい。
工程３の反応時間は、特に制限されないが、好ましくは０．５時間〜２４時間がよい。
尚、工程３では、試薬の安定性と、工程２における置換インドール化合物の酸化的開環に用いた酸化剤の後処理を兼ねるという意味で、水素化ホウ素ナトリウムを用いることが好ましいが、工程３における還元は水素化ホウ素ナトリウムに限定されず、接触水素添加による還元（触媒としては、パラジウム炭素［Ｐｄ／Ｃ］、白金炭素［Ｐｔ／Ｃ］やラネーニッケル等のラネー触媒等、通常用いられる金属系の接触還元触媒を用いることができる。）、水素化リチウムアルミニウムによる還元やジボランによる還元等を採用することもできる。
又、工程３で得られる一般式（５）で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物は、これを単離せずに次の工程４に進んでも良い。
次に工程４について説明する。
工程４では、工程３で得られた一般式（５）で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物のアミド部位を脱アセチルする事により、一般式（６）で表される最終目的化合物である置換アニリン化合物を製造する。尚、一般式（５）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ及びＹは前記と同じ意味を示している。
この脱アセチルは、目的物の安定性の観点からは塩基を用いて行うのが好ましい。
工程４の反応に用いられる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類；水酸化バリウム等のアルカリ土類金属水酸化物類；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸塩類；１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン等の有機アミン類等が挙げられるが、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類がよい。
工程４における塩基の使用量としては、生成する一般式（６）で表される置換アニリン化合物を分解しない量であればよいが、一般式（５）で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物１モルに対して、通常、０．１〜３０モル、好ましくは０．５〜１０モルの範囲であればよい。
工程４の反応は溶媒を用いて行ってもよい。工程４に用いうる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に制限されないが、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール等のアルコール類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒類；ペンタン、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）−４００等のポリエチレングリコール類；水等が挙げられる。溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。溶媒量としては、反応系の攪拌が充分にできる量であればよいが、一般式（２）で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物１モルに対して通常、０．５〜２０ｌ、好ましくは１〜１０ｌの範囲であればよい。
工程４の反応温度は、−１５℃〜使用する溶媒の還流温度の範囲を例示できるが、好ましくは−５℃〜１００℃の範囲がよい。
工程４の反応時間は、特に制限されないが、好ましくは０．５時間〜２４時間がよい。
又、すでに説明したように、一般式（４）で表されるアセトアニリド化合物に対する還元、及び、脱アセチル化はいずれを先行させてもよいので、続いて一般式（４）で表されるアセトアニリド化合物を脱アセチルして一般式（７）で表されるアミノ化合物を製造する工程（工程５）と、得られた一般式（７）で表されるアミノ化合物を還元して最終化合物である一般式（６）で表される置換アニリン化合物を製造する工程（工程６）を順に説明する。
工程５は、前記工程２で得られた一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物を酸を用いて加溶媒分解することによって、一般式（７）で表されるアミノ化合物を製造する工程である。
工程５の反応に用いられる酸としては、例えば、塩酸、硫酸等の鉱酸類；三フッ化ホウ素等のルイス酸類；酢酸、トリフルオロ酢酸等の酢酸類；ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類；アンバーリスト等の酸性イオン交換樹脂類等を例示できるが、好ましくは、塩酸、硫酸を用いるのがよい。
工程５における酸の使用量としては、生成する一般式（５）で表されるアミノ化合物を分解しない量であればよいが、一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物１モルに対して、通常、０．１〜１０モル、好ましくは０．５〜５モルの範囲であればよい。
工程５の反応は溶媒存在下で実施するが、この溶媒としては、水；エタノール、メタノール等の直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ６アルコール類を例示できる。この溶媒の量は、一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物１モルに対し１モル以上あれば良く、通常０．１〜１０ｌ、好ましくは０．５〜１０ｌの範囲を例示できるが、工程５で用いる酸の種類や使用量にもよるが、ｐＨが概ね４以下、好ましくはｐＨ２以下、さらに好ましくはｐＨ１以下になるようにすればよい。
工程５の反応は上記溶媒のみでも充分行うことができるが、さらに他の溶媒を混合して行うこともできる。
工程５に混合して用いうる溶媒としては、工程５の加溶媒分解反応を阻害しないものであれば良く、例えば、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒類；ペンタン、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類；ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）−４００等のポリエチレングリコール類等が挙げられる。これらの溶媒は１種又は２種以上を混合して用いることができる。
工程５の反応を、溶媒としてアルコール類を用いて行うと、用いたアルコール類と目的物のカルボニル基が反応してアセタール化合物が生成することがあるが、その様なときには、酸存在下のまま水を加えて、或いは反応混合物を水にあけて、数分から４８時間攪拌することにより容易に脱アセタールし、目的物とすることができる。
溶媒量としては、反応系の攪拌が充分にできる量であればよいが、一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物１モルに対して通常、０．５〜５ｌ、好ましくは１〜３ｌの範囲であればよい。
工程５の反応温度は、０℃〜使用する溶媒の還流温度の範囲を例示できるが、好ましくは０℃〜１２０℃の範囲がよい。
工程５の反応時間は、特に制限されないが、好ましくは０．５時間〜２４時間がよい。
又、工程６は上記のようにして得られた一般式（７）で表されるアミノ化合物を、好ましくは水素化ホウ素ナトリウムにより還元して、最終化合物である一般式（６）で表される置換アニリン化合物を製造する工程であるが、この工程の反応の内容や条件は、工程３におけるそれらとほぼ同様である。
このようにして製造された最終化合物である、一般式（６）で表される置換アニリン化合物は、農医薬品の製造において有用な中間体となる化合物である。
一方、本発明は同時に多くの新規化合物を提供する。
すでに説朋をしたように、一般式（２）で表されるヒドラジン化合物中の２−メトキシメチルフェニルヒドラジンは新規化合物であり、この化合物は対応するアニリンを原料としてジャーナル　オブ　オーガニック　ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、第２８４９頁（１９７２年）記載の方法などに準じて製造することができる。
又、一般式（１）で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物中の１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノンは新規化合物であり、この化合物は２−フェニルスルホニル−４，６−ジメトキシピリミジン等を原料としてケミカル　アンド　ファーマシューティカル　ブルティン（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　＆　Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ　Ｂｕｌｌｅｔｉｎ）、第１５２頁（１９８２年）記載の方法などに準じて製造することができる。尚、この化合物には互変異性体が存在するが、本発明は何れの互変異性体も包含する。
更に、一般式（３）で表される置換インドール化合物も新規化合物であり、この化合物は上記工程１により製造することができる。尚、一般式（３）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示している。
以下の表１に一般式（３）で表される置換インドール化合物を例示するが、本発明化合物はこれに限定されるものではなく、一般式（３）で表されるすべての化合物を包含する。
尚、表１中の略号は以下の意味を表す（以下の表で同様である）。
Ｍｅ：メチル基
Ｅｔ：エチル基
ＭＯＭ：メトキシメチル基
ＭｅＯ：メトキシ基
ＥｔＯ：エトキシ基
ｉ−Ｐｒ：イソプロピル基
ＣＯＯＭｅ：メトキシカルボニル基
ＮＯ２：ニトロ基
ＣＦ３：トリフルオロメチル基
ＮＨＡｃ：アセタミド基
Figure 2002032882
更に、一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物も新規化合物であり、この化合物は上記工程２により製造することができる。尚、一般式（３）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙ、Ａｃは前記と同じ意味を示している。
以下の表２に一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物を例示するが、本発明化合物はこれに限定されるものではなく、一般式（４）で表されるすべての化合物を包含する。
Figure 2002032882
更に又、一般式（５）で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物も新規化合物であり、この化合物は上記工程３により（或いは一般式（３）で表される置換インドール化合物から一般式（４）で表される置換アセトアニリド化合物を経由せずに直接に）製造することができる。尚、一般式（５）中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙ、Ａｃは前記と同じ意味を示している。
以下の表３に一般式（５）で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物を例示するが、本発明化合物はこれに限定されるものではなく、一般式（５）で表されるすべての化合物を包含する。
Figure 2002032882
一般式（１）で表される化合物から、各一般式を経て得られる一般式（６）で表される置換アニリン化合物を利用して、除草剤となりうるスルホンアニリド化合物までの反応スキームの１例を以下に示す。
Figure 2002032882
上記スキームに示されるように、本発明方法及び本発明化合物は、除草剤の有効成分として有用なスルホンアニリド化合物の製造において極めて有用である。
次に、実施例を挙げて本発明化合物の製造方法を具体的に説明する。実施例中に表記されている、屈折率：ｎ２０ Ｄとは、２０℃においてナトリウムＤ線にて測定された屈折率を示す。ガスクロマトグラフィー分析は、カラムとしてＧ−２５０（４０ｍ）（（財）化学物質評価研究機構（旧：化学品検査協会）製）を用いて行った。また、高速液体クロマトグラフィーによる分析は、カラムとしてＹＭＣ−Ａ３１２（（株）ワイエムシー製）を用いて、アセトニトリル／０．０５％リン酸水溶液を溶出溶媒として行った。
実施例１
２−メトキシメチルフェニルヒドラジンの製造
２−メトキシメチルアニリン６．８６ｇ（５０ｍｍｏｌ）を濃塩酸５０ｍｌに溶解して−１０℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム（４．１４ｇ、６０ｍｍｏｌ）の水（５０ｍｌ）溶液を−１０〜０℃の温度を維持しながら滴下した。次いで、塩化第一錫４４．６ｇ（２３５ｍｍｏｌ）の濃塩酸（５０ｍｌ）溶液を上記温度にて１時間を所要して滴下した。滴下終了後徐々に約２０℃に昇温しながら攪拌したのち１０％水酸化ナトリウム溶液を滴下してｐＨを１４にした後、トルエンで抽出した。トルエン層を水洗してロータリーエバポレーターで減圧濃縮して液体状の２−メトキシメチルフェニルヒドラジン５．４０ｇ（３５．５ｍｍｏｌ）を得た。収率７１％
ＭＳ　ｍ／ｅ：１５２（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：３．８（ｓ，３Ｈ）、４．４６（ｓ，２Ｈ）、７．１〜７．４（ｍ，７Ｈ）
ＩＲ（ＮａＣｌ板、ｃｍ−１）：３３５０（ＮＨ）
実施例２
１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノンの製造
反応容器に６０％水素化ナトリウム１６．０ｇ（０．４ｍｏｌ）、ＴＨＦ４００ｍｌ、４，６−ジメトキシ−２−メタンスルホニルピリミジン４３．６ｇ（０．２ｍｏｌ）を入れ、３０℃に昇温した。そこにアセトン３９．４ｇ（０．６８ｍｏｌ）を滴下し、２時間反応させた。反応終了後、水３５０ｍｌを加え、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層は濃縮後、減圧蒸留し１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノン８．８ｇ（４４．９ｍｍｏｌ）を得た。屈折率：ｎ２０ Ｄ＝１．５１８１
ＭＳ　ｍ／ｅ：１９６（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．０３（ｓ）、２．２６（ｓ）、３．８６（ｓ）、３．９１（ｓ，６Ｈ）、５．４０（ｓ）、５，７３（ｓ）、５．９１（ｓ，１Ｈ）
実施例３（工程１）
３−（４，６−ジメトキピリミジン−２−イル）−２−メチル−７−エチルインドールの製造
反応容器に１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノン２．４ｇ（１２．２ｍｍｏｌ）、２−エチルフェニルヒドラジン塩酸塩１．７ｇ（９．９８ｍｍｏｌ）、塩化亜鉛１．４ｇ（１０．２ｍｍｏｌ）、トルエン１０ｍｌを仕込み２時間加熱還流させた。反応終了後、室温まで冷却し、水、酢酸エチルを加え分液した。酢酸エチル層は濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー分離（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）を行い３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチル−７−エチルインドール２．３８ｇ（８．０１ｍｍｏｌ）を得た。収率８０．３％。融点９０．３〜９４．８℃
ＭＳ　ｍ／ｅ：２９７（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：１．３８（ｔ，３Ｈ）、２．８７（ｑ，２Ｈ）、２．９６（ｓ，３Ｈ）、４．０８（ｓ，６Ｈ）、５．８５（ｓ，１Ｈ）、７．０３（ｄ，１Ｈ）、７．１８（ｔ，１Ｈ）、８．１８（ｂｓ，１Ｈ）、８．５７（ｄ，１Ｈ）
実施例４（工程２）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−エチルアセトアニリドの製造
反応容器に３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチル−７−エチルインドール０．７ｇ（２．４ｍｍｏｌ）、酢酸エチル１０ｍｌを入れた。次いで、０℃から１０℃でオゾンを２時間吹き込んだ。反応終了後、室温まで昇温し濃縮したところ、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−エチルアセトアニリドが０．７５ｇ（２．３ｍｍｏｌ）生成していた。収率９５％。
融点：１３９．３〜１４２．３℃
ＭＳ　ｍ／ｅ：３２９（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：１．２５（ｔ，３Ｈ）、２．１７（ｓ，３Ｈ）、２．６９（ｑ，２Ｈ）、３．９５（ｓ，６Ｈ）、６．１６（ｓ，１Ｈ）、７．２〜７．３（ｍ，１Ｈ）、７．４〜７．６（ｍ，２Ｈ）、８．９５（ｂｓ，１Ｈ）
実施例５（工程３）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−エチルアセトアニリドの製造
反応容器に２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−エチルアセトアニリド１．０ｇ（３．０３ｍｍｏｌ）、エタノール２０ｍｌを入れ５℃以下に冷却した。次いで、水素化ホウ素ナトリウム０．１３ｇ（３．６５ｍｍｏｌ）を入れ、同温で１時間撹拌した。その後、室温まで昇温した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮し、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−エチルアセトアニリド０．８２ｇ（２．４８ｍｍｏｌ）を得た。収率８２％。融点１４３〜１４７℃。
ＭＳ　ｍ／ｅ：３３１（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：１．２４（ｔ，３Ｈ）、２．２２（ｓ，３Ｈ）、２．６４（ｑ，２Ｈ）、３．９７（ｓ，６Ｈ）、４．８８（ｄ，１Ｈ）、５．８９（ｄ，１Ｈ）、５．９５（ｓ，１Ｈ）、７．２〜７．５（ｍ，３Ｈ）、９，２５（ｂｓ，１Ｈ）
実施例６（工程４）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−エチルアニリンの製造
反応容器に２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−エチルアセトアニリド０．１ｇ（０．３０ｍｍｏｌ）、メタノール２ｍｌ、水２ｍｌを入れた。次いで、水酸化カリウム６０ｍｇ（１．１ｍｍｏｌ）を加え７０℃で６時間撹拌した。反応終了後、高速液体クロマトグラフィー分析を行ったところ、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−エチルアニリンが６５％生成していた。
実施例７（工程１）
３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチル−７−メトキシメチルインドールの製造
反応容器に１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノン６．２ｇ（３１．６ｍｍｏｌ）、２−メトキシメチルフェニルヒドラジン４．８ｇ（３１．５ｍｍｏｌ）、塩化亜鉛４．７６ｇ（３４．９ｍｍｏｌ）、トルエン６０ｍｌを仕込み２時間加熱還流させた。反応終了後、室温まで冷却し、水、酢酸エチルを加え分液した。酢酸エチル層は濃縮し、析出した結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄し３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチル−７−メトキシメチルインドール４．５７ｇ（１４．６ｍｍｏｌ）を得た。収率４６％
ＭＳ　ｍ／ｅ：３１３（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．９５（ｓ，３Ｈ）、３．３４（ｓ，３Ｈ）、４．０６（ｓ，６Ｈ）、４．７４（ｓ，２Ｈ）、５．８１（ｓ，１Ｈ）、７．０〜７．１（ｍ，３Ｈ）、８．６５（ｄ，１Ｈ）
得られた３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチル−７−メトキシメチルインドールは実施例４に準じて、工程２の反応に使用することができた。
実施例８（工程２）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メトキシメチルアセトアニリドの製造
反応容器に３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチル−７−メトキシメチルインドール１．０ｇ（３１．９ｍｍｏｌ）、酢酸エチル４０ｍｌを入れた。そこに０℃から１０℃でオゾンを４時間吹き込んだ。反応終了後、室温まで昇温し濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー分離（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）したところ、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メトキシメチルアセトアニリドを０．４０ｇ（１１．６ｍｍｏｌ）得た。融点１４７〜１５０℃（収率３６．４％）
ＭＳ　ｍ／ｅ：３４５（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．１３（ｓ，３Ｈ）、３．３９（ｓ，３Ｈ）、３．９４（ｓ，６Ｈ）、４．４７（ｓ，２Ｈ）、６．１５（ｓ，１Ｈ）、７．２６（ｔ，１Ｈ）、７．６０（ｄ，２Ｈ）、７．６３（ｄ，１Ｈ）、９．２９（ｂ，１Ｈ）
得られた２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メトキシメチルアセトアニリドは、実施例５に準じて工程３の反応に使用することができた。
実施例９（工程３、工程４の同一反応器内での連続実施）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアニリンの製造
反応容器に２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メトキシメチルアセトアニリド１．０ｇ（２．９ｍｍｏｌ）、エタノール２０ｍｌを入れ５℃以下に冷却した。そこに水素化ホウ素ナトリウム０．５ｇ（１３．５ｍｍｏｌ）を入れ、同温度で１時間撹拌した。その後、室温まで昇温した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮した。残査に水２０ｍｌ、水酸化カリウム０．４ｇ（７．１ｍｍｏｌ）を入れ７０℃で２時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却し、酢酸エチル５０ｍｌ、水５０ｍｌを入れ抽出した。有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー分離を行い（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアニリン０．３５ｇ（１．４８ｍｍｏｌ）を得た。収率５１．０％。
実施例１０（工程１）
３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチルインドールの製造
１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノン１．６１ｇ（８．２ｍｍｏｌ）及びフェニルヒドラジン１．０８ｇ（１０ｍｍｏｌ）をトルエン１０ｍｌに溶解し、これに塩化亜鉛１．３６ｇ（１０ｍｍｏｌ）を加え１時間還流した。放冷後、酢酸エチル及び水を加えて反応混合物全量を溶解し、油層を水洗後、分液したのち芒硝で乾燥した。これをロータリーエバポレーターで減圧濃縮して得られた橙色固体をメタノールから再結晶して３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチルインドール１．３７ｇ（５．１ｍｍｏｌ）を得た。収率６２％。融点１８２〜１８４℃。
ＭＳ　ｍ／ｅ：２６９（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．９４（ｓ，３Ｈ）、４．０６（ｓ，６Ｈ）、５．８１（ｓ，１Ｈ）、７．１（ｍ，２Ｈ）、７．３（ｍ，１Ｈ）、８．７（ｍ，１Ｈ）
ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３４９０（ＮＨ）、１５７０
得られた３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチルインドールは実施例４又は実施例８に準じて、工程２の反応に使用することができた。
実施例１１（工程２）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アセトアニリドの製造
反応容器に、３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチルインドール０．８ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、アセトン３０ｍｌ、水８ｍｌを入れ、次いで過マンガン酸カリウム１．５ｇ（９．９ｍｍｏｌ）、過ヨウ素酸ナトリウム２．２９ｇ（１０．７ｍｍｏｌ）を加え室温で１２時間反応させた。反応終了後、ろ過し、ろ液は酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を濃縮し、残査はイソプロピルエーテルで洗浄を行い、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アセトアニリド０．５７ｇ（１．９ｍｍｏｌ）を得た。収率６３％。
ＭＳ　ｍ／ｅ：３０１（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．２８（ｓ，３Ｈ）、３．９６（ｓ，６Ｈ）、６．１６（ｓ，１Ｈ）、７．０６（ｔ，１Ｈ）、７．２７（ｂ，１Ｈ）、７．５９（ｄ，１Ｈ）、８．７８（ｄ，１Ｈ）
ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３２７０（ＮＨ）、１７００、１６６０（Ｃ＝Ｏ）
得られた２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アセトアニリドは、実施例５又は実施例９に準じて、工程３の反応に使用することができた。
実施例１２（工程１）
３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２，７−ジメチルインドールの製造
１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノン０．７７ｇ（３．９ｍｍｏｌ）及び２−メチルフェニルヒドラジン塩酸塩０．６９ｇ（４．３ｍｍｏｌ）をトルエン２０ｍｌに溶解し、これに塩化亜鉛０．６４ｇ（４．７ｍｍｏｌ）を加え２時間還流した。放冷後、酢酸エチル及び水を加えて反応混合物全量を溶解し、油層を水洗後分液したのち芒硝で乾燥した。これをロータリーエバポレーターで減圧濃縮して得られた橙色固体を酢酸エチル／ｎ−ヘキサンで処理して３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２，７−ジメチルインドール０．３８ｇ（１．３４ｍｍｏｌ）を得た。収率３４％。融点１４５〜１４７℃。
ＭＳ　ｍ／ｅ：２８３（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．４７（ｓ，３Ｈ）、２．９０（ｓ，３Ｈ）、４．０５（ｓ，６Ｈ）、５．８３（ｓ，１Ｈ）、６．９８（ｄ，１Ｈ）、７．１３（ｔ，１Ｈ）、８．１５（ｄ，１Ｈ）、８．５０（ｄ，１Ｈ）
ＩＲ（ｃｍ−１）：３３５０（ＮＨ）
得られた３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２，７−ジメチルインドールは実施例４又は実施例８又は実施例１２に準じて、工程２の反応に使用することができた。
実施例１３（工程２）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アセトアニリドの製造
反応容器に３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチルインドール１．０ｇ（３．７ｍｍｏｌ）、アセトン３０ｍｌ、水１５ｍｌを入れ、そこに過マンガン酸カリウム３．０ｇ（１９ｍｍｏｌ）を加え室温で１２時間反応させた。反応終了後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アセトアニリドが全面積比で７４％生成していた。
実施例１４（工程２）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メチルアセトアニリドの製造
反応容器に３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２，７−ジメチルインドール２８３ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、アセトン１５ｍｌを入れ、これに過マンガン酸カリウム７９０ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）、過ヨウ素酸ナトリウム２１４ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を加え１２時間反応させた。反応終了後、ろ過し、ろ液は酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を濃縮し、残査をイソプロピルエーテルで洗浄し２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メチルアセトアニリド８０ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を得た。収率２５％。融点１５１〜１５３℃
ＭＳ　ｍ／ｅ：３１５（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．４７（ｓ，３Ｈ）、２．９０（ｓ，３Ｈ）、４．０５（ｓ，６Ｈ）、５．８３（ｓ，１Ｈ）、６．９８（ｄ，１Ｈ）、７．１３（ｔ，１Ｈ）、８．１５（ｂ，１Ｈ）、８．５０（ｄ，１Ｈ）
得られた、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メチルアセトアニリドは実施例５又は実施例９に準じて、工程３の反応に使用することができた。
実施例１５（工程２）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アセトアニリドの製造
反応容器に３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチルインドール０．２７ｇ（１０ｍｍｏｌ）、酢酸エチル１０ｍｌを入れた。次いで、０℃〜１０℃でオゾンを３時間吹き込んだ。反応終了後、室温まで昇温し濃縮した。残査をガスクロマトグラフィーで分析したところ、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アセトアニリドが全面積比で８８％生成していた。
実施例１６（工程２）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メチルアセトアニリドの製造
反応容器に３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２，７−ジメチルインドール、酢酸エチルを入れた。そこに０℃から１０℃でオゾンを２時間吹き込んだ。反応終了後、室温まで昇温し濃縮した。残査をガスクロマトグラフィーで分析したところ、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メチルアセトアニリドが全面積比で６３％生成していた。
実施例１７（工程２）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−エチルアセトアニリドの製造
反応容器に３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチル−７−エチルインドール０．５ｇ（１．７ｍｍｏｌ）、アセトン１０ｍｌ、水５ｍｌを入れた。そこに過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウムを入れ室温で撹拌した。反応液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−エチルアセトアニリドが全面積比で４７％生成していた。
実施例１８（工程３）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアセトアニリドの製造
反応容器に２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メトキシメチルアセトアニリド１．７ｇ（４．９ｍｍｏｌ）、エタノール２０ｍｌを入れ５℃以下に冷却した。そこに水素化ホウ素ナトリウム０．４ｇ（１０．８ｍｍｏｌ）を入れ、同温で１時間撹拌した。その後、室温まで昇温した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮し、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアセトアニリド１．３２ｇ（３．８ｍｍｏｌ）を得た。収率７８％。融点７９〜８２℃
ＭＳ　ｍ／ｅ：３４７（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．２４（ｓ，３Ｈ）、３．３８（ｓ，３Ｈ）、３．９７（ｓ，６Ｈ）、４．４５（ｑ，２Ｈ）、４．８７（ｄ，１Ｈ）、５．９０（ｄ，１Ｈ）、７．２〜７．３（ｍ，１Ｈ）、７．４６（ｄ，２Ｈ）、９．４１（ｂｓ，１Ｈ）
得られた２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアセトアニリドは、実施例６に準じて工程４の反応に使用することができた。
実施例１９（工程２、工程３の同一反応器内での連続実施）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−エチルアセトアニリドの製造
反応容器に３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチル−７−エチルインドール１．０ｇ（３．３７ｍｍｏｌ）、酢酸エチル２０ｍｌを入れ、５℃以下に冷却した。次いで０℃〜１０℃でオゾンを２時間吹き込んだ。反応終了後、エタノール２０ｍｌを加え、更に水素化ホウ素ナトリウム０．２５ｇ（６．７６ｍｍｏｌ）を加え１時間撹拌した。反応終了後、室温まで昇温し、塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加え抽出した。有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー分離を行い（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−エチルアセトアニリド０．２６ｇ（０．７９ｍｍｏｌ）を得た。収率２７．４％。
得られた２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−エチルアセトアニリドは、実施例６に準じて工程４の反応に使用することができた。
実施例２０（工程３、工程４の同一反応器内での連続実施）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアニリンの製造
反応容器に実施例８に準じて製造した２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メトキシメチルアセトアニリド１．０ｇ（２．９ｍｍｏｌ）、エタノール２０ｍｌを入れ５℃以下に冷却した。そこに水素化ホウ素ナトリウム０．５ｇ（１３．５ｍｍｏｌ）を入れ、同温で１時間撹拌した。その後、室温まで昇温した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮した後、残査にメタノール２０ｍｌ、水酸化カリウム１．５ｇ（２６．８ｍｍｏｌ）を入れ７０℃で２時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却し、酢酸エチル５０ｍｌ、水５０ｍｌを入れ抽出した。有機層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー分離を行い（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアニリン０．２４ｇ（０．７９ｍｍｏｌ）を得た。収率２７．１％。
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：３．３１（ｓ，３Ｈ）、３．９４（ｓ，６Ｈ）、４．５１（ｄｄ，２Ｈ）、４．６６（ｂｓ，１Ｈ）、５．１５（ｂｓ，２Ｈ）、５．８４（ｓ，１Ｈ）、５．９３（ｓ，１Ｈ）、６．７１（ｔ，１Ｈ）、６．７〜６．８（ｍ，１Ｈ）、６．９〜７．１（ｍ，１Ｈ）、７．２〜７．３（ｍ，１Ｈ）
実施例２１（工程２、工程３の同一反応器内での連続実施）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアセトアニリドの製造
反応容器に３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチル−７−メトキシメチルインドール１．０ｇ（３．１９ｍｍｏｌ）、酢酸エチル２０ｍｌを入れ、５℃以下に冷却した。次いで０℃〜１０℃でオゾンを３時間吹き込んだ。反応終了後、エタノール２０ｍｌを加え、更に水素化ホウ素ナトリウム０．５ｇ（１３．５ｍｍｏｌ）を加え１時間撹拌した。反応終了後、室温まで昇温し、塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加え抽出した。有機層を濃縮後、カラムクロマトグラフィー分離を行い２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアセトアニリド０．１８ｇ（０．５２ｍｍｏｌ）を得た。収率１６．３％。
得られた２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアセトアニリドは、実施例６に準じて工程４の反応に使用することができた。
実施例２２（工程５）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アニリンの製造
反応容器に２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アセトアニリド０．５７ｇ（１．９ｍｍｏｌ）、メタノール１０ｍｌ、６Ｎ−塩酸５ｍｌを入れ、１時間、加熱還流した。反応終了後、水酸化ナトリウムでアルカリ性とし、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を濃縮後、残査をガスクロマトグラフィーで分析したところ、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アニリンが生成していた。転化率１００％（ガスクロマトグラフィー全面積比）。
実施例２３（工程５）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メトキシメチルアニリンの製造
反応容器に、メタノール５０ｍｌ、濃硫酸１０ｍｌを混合し、ここに２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メトキシメチルアセトアニリド１．０ｇ（２．９ｍｍｏｌ）を加え、４時間、６５℃で還流した。その後、室温まで放冷し、水５０ｍｌを加え、約２０℃で１夜攪拌した。反応終了後、反応混合物を水にあけ、酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を濃縮し残査をカラムクロマトグラフィー分離したところ、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−６−メトキシメチルアニリンを０．３０ｇ（１ｍｍｏｌ）得た。収率３４％。
実施例２４（工程２、工程５の同一反応器内での連続実施）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アニリンの製造
反応容器に、３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチルインドール０．６０ｇ（２２ｍｍｏｌ）、酢酸エチル２０ｍｌを入れた。そこに０℃〜１０℃でオゾンを４時間吹き込んだ。薄層クロマトグラフィーにより３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチルインドールの消失を確認し、反応終了とした。反応終了後、室温まで昇温し、濃縮した。それに、メタノール２０ｍｌ、６Ｎ−塩酸５ｍｌを入れ、１時間、加熱還流した。反応終了後、室温まで冷却し、水１００ｍｌを入れた。それを水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮後、カラムクロマトグラフィー分離を行い、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アニリン０．２６ｇ（１０ｍｍｏｌ）得た。収率４６％。
ＭＳ　ｍ／ｅ：２５９（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：３．９９（ｓ，６Ｈ）、６．１８（ｓ，１Ｈ）、６．４２（ｂ，２Ｈ）、６．５−６．６（ｍ，１Ｈ）、６．７０（ｄ，１Ｈ）、７．２−７．３（ｍ，１Ｈ）、７．４０（ｄ，１Ｈ）、
実施例２５（工程１）
５−クロロ−３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチルインドールの製造
１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノン８．０ｇ（４０ｍｍｏｌ）及び４−クロロフェニルヒドラジン塩酸塩７．９ｇ（４４ｍｍｏｌ）をトルエン８０ｍｌに添加し、これに塩化亜鉛６．５４ｇ（４８ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流した。放冷後酢酸エチル及び水を加えて反応混合物全量を溶解し、油層を水洗後分液したのち、芒硝で乾燥した。これをロータリーエバポレーターで減圧濃縮して得られた橙色固体をイソプロピルエーテルで洗浄して、５−クロロ−３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチルインドール１０．２ｇ（３３．７ｍｍｏｌ）を得た。収率８４％。融点１７９〜１８１℃。
ＭＳ　ｍ／ｅ：３０３（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．９１（ｓ，３Ｈ）、４．０４（ｓ、６Ｈ）、５．８２（ｓ，１Ｈ）、７．１（ｍ，１Ｈ）、７．３（ｍ，１Ｈ）、８．７（ｍ，１Ｈ）
ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３５１０（ＮＨ）、１５８０
実施例２６（工程２）
４−クロロ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アセトアニリドの製造
反応容器に、５−クロロ−３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−メチルインドール６．１ｇ（２０ｍｍｏｌ）、アセトン２００ｍｌ、水１００ｍｌを入れ、そこに過マンガン酸カリウム１９．０ｇ（１２０ｍｍｏｌ）、過ヨウ素酸ナトリウム８．６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１６時間反応させた。反応終了後、ろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し４−クロロ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アセトアニリド１．８ｇ（５．４ｍｍｏｌ）を得た。収率２７％。融点１４２〜１４４℃。
ＭＳ　ｍ／ｅ：３３５（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．２７（ｓ，３Ｈ）、３．９８（ｓ，６Ｈ）、６．２０（ｓ，１Ｈ）、７．５６（ｑ，１Ｈ）、７．６９（Ｍ，１Ｈ）、８．７６（ｄ，１Ｈ）
ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３３２０（ＮＨ）、１７００、１６６０（Ｃ＝Ｏ）
実施例２７（工程３）
４−クロロ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリドの製造
反応容器に４−クロロ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）アセトアニリド１．００ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、エタノール２０ｍｌを入れ５℃以下に冷却した。そこに水素化ホウ素ナトリウム０．２５ｇ（６．６ｍｍｏｌ）を入れ、同温で１時間撹拌した。その後、室温まで昇温した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製して４−クロロ−２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアセトアニリド０．６９ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を得た。収率６８％。
融点１２１℃〜１２３℃
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．２２（ｓ，３Ｈ）、３．９８（ｓ，６Ｈ）、４．８９（ｄ，１Ｈ）、５．８１（ｄ，１Ｈ）、５．８９（ｓ，１Ｈ）、７．２（ｍ，１Ｈ）、７．５（ｍ，１Ｈ）、７．８（ｄ，１Ｈ）、９．７２（ｂ，１Ｈ）
ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３４３０（ＮＨ）、３３００（ＯＨ）、１７００、１６００（Ｃ＝Ｏ）
実施例２８（工程１）
３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−５−メトキシ−２−メチルインドールの製造
１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノン８．０ｇ（４０ｍｍｏｌ）及び４−メトキシフェニルヒドラジン塩酸塩７．７ｇ（４４ｍｍｏｌ）をトルエン８０ｍｌに添加し、これに塩化亜鉛６．０ｇ（４４ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流した。放冷後酢酸エチル及び水を加えて反応混合物全量を溶解し、油層を水洗後分液したのち、芒硝で乾燥した。これをロータリーエバポレーターで減圧濃縮して橙色固体、３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−５−メトキシ−２−メチルインドール８．０ｇ（２６．７ｍｍｏｌ）を得た。収率６７％。トルエンから再結晶した。
融点１８２〜１８４℃。
ＭＳ　ｍ／ｅ：２９９（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．８７（ｓ，３Ｈ）、３．８９（ｓ，３Ｈ）、４．０７（ｓ，６Ｈ）、５．８４（ｓ，１Ｈ）、６．９（ｍ，１Ｈ）、７．２（ｍ，１Ｈ）、８．２（ｂ，１Ｈ）、８．７（ｓ，１Ｈ）
ＩＲ（ｃｍ−１）：３３４０（ＮＨ）、１５７０
実施例２９（工程２）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−４−メトキシアセトアニリドの製造
反応容器に、３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−５−メトキシ−２−メチルインドール６．０ｇ（２０ｍｍｏｌ）、アセトン２００ｍｌ、水１００ｍｌを入れ、そこに過マンガン酸カリウム１９．０ｇ（１２０ｍｍｏｌ）、過ヨウ素酸ナトリウム８．６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１６時間反応させた。反応終了後、ろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を濃縮し、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−４−メトキシアセトアニリド０．９ｇ（２．７ｍｍｏｌ）を得た。収率１４％。
ＭＳ　ｍ／ｅ：３３１（Ｍ＋）
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．２５（ｓ，３Ｈ）、３．７４（ｓ，３Ｈ）、３．９６（ｓ，６Ｈ）、６．１７（ｓ，１Ｈ）、７．１−７．２（ｍ，２Ｈ）、８．７（ｄ，１Ｈ）
ＩＲ（ｃｍ−１）：３２５０（ＮＨ）、１６９０、１６５０（Ｃ＝Ｏ）
実施例３０（工程３）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−４−メトキシアセトアニリドの製造
反応容器に２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルカルボニル）−４−メトキシアセトアニリド０．６６ｇ（２．０ｍｍｏｌ）、エタノール１０ｍｌを入れ５℃以下に冷却した。そこに水素化ホウ素ナトリウム０．１７ｇ（４．４ｍｍｏｌ）を入れ、同温で１時間撹拌した。その後、室温まで昇温した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮し、ジリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／３）で精製して２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−４−メトキシアセトアニリド０．５５ｇ（１．６ｍｍｏｌ）を得た。収率８２％。
融点１２２℃〜１２５℃
１Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ）、δ（ｐｐｍ）：２．２１（ｓ，３Ｈ）、３．８０（ｓ，３Ｈ）、３．９７（ｓ，６Ｈ）、４．８７（ｄ，１Ｈ）、５．８４（ｄ，１Ｈ）、５．９６（ｓ，１Ｈ）、６．８（ｍ，１Ｈ）、７．０７（ｄ，１Ｈ）、７．６９（ｑ，１Ｈ）、９．４９（ｂ，１Ｈ）
ＩＲ（ｃｍ−１）：３４７０（ＮＨ）、３２５０（ＯＨ）、１６７０、１６００（Ｃ＝Ｏ）
実施例３１（工程６）
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアニリンの製造
反応容器に、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２イル）カルボニル−６−メトキシメチルアニリン１．０ｇ（０．００３３ｍｏｌ）、エタノール５０ｍｌを入れた。そこに、氷冷下（１０℃以下）で、水素化ホウ素ナトリウム０．１２５ｇ（０．００３３ｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応終了後の反応液に、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酸性とした後、酢酸エチルを加えて抽出した。得られた有機層を順次、水洗、飽和食塩水洗した。次いで、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮することにより、２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアニリンを０．９１ｇ（０．００３０ｍｏｌ）得た。収率９０％。得られた２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）−６−メトキシメチルアニリンの機器分析データは、実施例で得られた化合物のものと一致した。
産業上の利用可能性
本発明により、優れた除草効果を示すスルホンアニリド化合物の重要な中間体である２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物と、それを中間体として用いる置換アニリン化合物の工業的な製造方法が提供される。

Claims (22)

  1. 一般式（３）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより、一般式（４）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
    で表されるアセトアニリド化合物を製造し、この化合物に対し還元、及び、脱アセチル化をすることを特徴とする、一般式（６）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
    で表される置換アニリン化合物の製造方法。
  2. 一般式（３）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより、一般式（４）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
    で表されるアセトアニリド化合物を製造し、この化合物を還元し、一般式（５）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙ、Ａｃは前記と同じ意味を示す。）
    で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物を製造し、続いて脱アセチルすることを特徴とする、一般式（６）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
    で表される置換アニリン化合物の製造方法。
  3. 一般式（３）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより得られる一般式（４）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
    で表されるアセトアニリド化合物を単離することなく還元し、一般式（５）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙ、Ａｃは前記と同じ意味を示す。）
    で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物を製造し、続いて脱アセチルすることを特徴とする、一般式（６）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
    で表される置換アニリン化合物の製造方法。
  4. 一般式（３）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより、一般式（４）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
    で表されるアセトアニリド化合物を製造し、この化合物を脱アセチルして、一般式（７）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
    で表されるアミノ化合物を製造し、続いて還元することを特徴とする、一般式（６）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
    で表される置換アニリン化合物の製造方法。
  5. 還元を水素化ホウ素ナトリウムにより行う請求項１乃至４の何れかに記載の置換アニリン化合物の製造方法。
  6. 一般式（３）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表される置換インドール化合物を、一般式（１）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前記と同じ意味を示す。）
    で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物と、一般式（２）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｘ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
    で表されるヒドラジン化合物を酸の存在下反応させて製造する、１乃至４のいずれかに記載の置換アニリン化合物の製造方法。
  7. 一般式（３）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより、一般式（４）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
    で表されるアセトアニリド化合物を製造し、この化合物を脱アセチルすることを特徴とする、一般式（７）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは、前記と同じ意味を示す。）
    で表されるアミノ化合物の製造方法。
  8. 一般式（３）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより、一般式（４）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
    で表されるアセトアニリド化合物を製造し、この化合物を還元することを特徴とする、一般式（５）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙ、Ａｃは、前記と同じ意味を示す。）
    で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物の製造方法。
  9. 一般式（３）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことにより得られる一般式（４）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
    で表されるアセトアニリド化合物を単離することなく還元することを特徴とする、一般式（５）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙ、Ａｃは前記と同じ意味を示す。）
    で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物の製造方法。
  10. 還元を水素化ホウ素ナトリウムにより行う請求項８又は９に記載の置換アニリン化合物の製造方法。
  11. 一般式（１）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示す。）
    で表される（ピリミジン−２−イル）−２−プロパノン化合物と、一般式（２）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表されるヒドラジン化合物を酸の存在下反応させることを特徴とする、一般式（３）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味をを示す。）
    で表される置換インドール化合物の製造方法。
  12. 一般式（３）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表される置換インドール化合物を酸化してインドール環の開環を行うことを特徴とする、一般式（４）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示し、Ａｃはアセチル基を示す。）
    で表されるアセトアニリド化合物の製造方法。
  13. 一般式（４）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表されるアセトアニリド化合物を脱アセチルすることを特徴とする、一般式（７）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
    で表されるアミノ化合物の製造方法。
  14. 一般式（７）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表されるアミノ化合物を還元することを特徴とする、一般式（６）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは前記と同じ意味を示す。）
    で表される置換アニリン化合物の製造方法。
  15. 一般式（４）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を、Ａｃはアセチル基を示す。）
    で表されるアセトアニリド化合物を還元することを特徴とする、一般式（５）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙ、Ａｃは前記と同じ意味を示す。）
    で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物の製造方法。
  16. 還元を水素化ホウ素ナトリウムにより行う請求項１４又は１５に記載の置換アニリン化合物の製造方法。
  17. 一般式（５）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を、Ａｃはアセチル基を示す。）
    で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物を脱アセチルすることを特徴とする、一般式（６）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＸ、Ｙは、前記と同じ意味を示す。）
    で表される置換アニリン化合物の製造方法。
  18. 式
    Figure 2002032882
    で表されることを特徴とする２−メトキシメチルフェニルヒドラジン。
  19. 式
    Figure 2002032882
    で表されることを特徴とする１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−２−プロパノン。
  20. 一般式（３）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を示す。）
    で表される置換インドール化合物。
  21. 一般式（４）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を、Ａｃはアセチル基を示す。）
    で表される置換アセトアニリド化合物。
  22. 一般式（５）
    Figure 2002032882
    （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立にアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキサミド基、ニトロ基、アリール基、アリールアルキル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘ、Ｙは、各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を、Ａｃはアセチル基を示す。）
    で表される２−（ピリミジン−２−イルヒドロキシメチル）アセトアニリド化合物。
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