JPS6445760U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6445760U JPS6445760U JP14077987U JP14077987U JPS6445760U JP S6445760 U JPS6445760 U JP S6445760U JP 14077987 U JP14077987 U JP 14077987U JP 14077987 U JP14077987 U JP 14077987U JP S6445760 U JPS6445760 U JP S6445760U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum deposition
- deposition device
- sputtering
- substrate support
- detached
- Prior art date
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- Pending
Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
第１図は本考案の実施例１のスパツタリング装
置の内部構造体の断面図、第２図は本考案の実施
例２の断面図である。 １……被着基板、２……被着基板支持体、３，
６……ステンレス薄板部材、４……スパツタリン
グ用Ａｌターゲツト、５……シールド板、７……
スパツタリング用ＳｉＯ２ターゲツト。
置の内部構造体の断面図、第２図は本考案の実施
例２の断面図である。 １……被着基板、２……被着基板支持体、３，
６……ステンレス薄板部材、４……スパツタリン
グ用Ａｌターゲツト、５……シールド板、７……
スパツタリング用ＳｉＯ２ターゲツト。
Claims (1)
- スパツタリング装置、プラズマＣＶＤ装置等の
真空被着装置において、装置内部に設けたシール
ド板或いは被着基板支持体に、容易に脱着可能な
２０〜５０μの金属薄板を複数枚重ねた部材を設
置したことを特徴とする真空被着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14077987U JPS6445760U (ja) | 1987-09-14 | 1987-09-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14077987U JPS6445760U (ja) | 1987-09-14 | 1987-09-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6445760U true JPS6445760U (ja) | 1989-03-20 |
Family
ID=31405263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14077987U Pending JPS6445760U (ja) | 1987-09-14 | 1987-09-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6445760U (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02141575A (ja) * | 1988-11-21 | 1990-05-30 | Anelva Corp | 薄膜堆積装置 |
| WO2004090928A1 (ja) * | 2003-04-04 | 2004-10-21 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| JP2004319474A (ja) * | 2003-04-04 | 2004-11-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
-
1987
- 1987-09-14 JP JP14077987U patent/JPS6445760U/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02141575A (ja) * | 1988-11-21 | 1990-05-30 | Anelva Corp | 薄膜堆積装置 |
| WO2004090928A1 (ja) * | 2003-04-04 | 2004-10-21 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| JP2004319474A (ja) * | 2003-04-04 | 2004-11-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| US7942971B2 (en) | 2003-04-04 | 2011-05-17 | Panasonic Corporation | Method of manufacturing plasma display panels |