JPH01167034U - - Google Patents
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- JPH01167034U JPH01167034U JP6302988U JP6302988U JPH01167034U JP H01167034 U JPH01167034 U JP H01167034U JP 6302988 U JP6302988 U JP 6302988U JP 6302988 U JP6302988 U JP 6302988U JP H01167034 U JPH01167034 U JP H01167034U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating film
- susceptor
- sic coating
- wafer holding
- holding surface
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
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- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 2
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- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
Description
第1図は本考案の一実施例に係るサセプタを示
す概略的な部分断面図である。第2図aは従来の
サセプタのウエハ保持面のコンピユータ解析図、
第2図bは実験例1における研磨処理前のサセプ
タのウエハ保持面のコンピユータ解析図、第2図
cは同研磨処理面のサセプタのウエハ保持面のコ
ンピユータ解析図である。 1……サセプタ、2……黒鉛基板、3……Si
Cコーテイング膜、4……ウエハ保持面。
す概略的な部分断面図である。第2図aは従来の
サセプタのウエハ保持面のコンピユータ解析図、
第2図bは実験例1における研磨処理前のサセプ
タのウエハ保持面のコンピユータ解析図、第2図
cは同研磨処理面のサセプタのウエハ保持面のコ
ンピユータ解析図である。 1……サセプタ、2……黒鉛基板、3……Si
Cコーテイング膜、4……ウエハ保持面。
Claims (1)
- 黒鉛基板の表面に、CVD法により形成された
SiCコーテイング膜を有するサセプタにおいて
、ウエハ保持面のSiCコーテイング膜の表面粗
さRaを5μm以下としたことを特徴とするサセ
プタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6302988U JPH01167034U (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6302988U JPH01167034U (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01167034U true JPH01167034U (ja) | 1989-11-22 |
Family
ID=31288563
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6302988U Pending JPH01167034U (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01167034U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07335572A (ja) * | 1994-06-08 | 1995-12-22 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 半導体ウエハの熱処理用サセプタ及びその製造方法 |
JP2002299260A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 気相成長装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5453962A (en) * | 1977-10-07 | 1979-04-27 | Toshiba Ceramics Co | Gas phase growing wafer fixing jig |
-
1988
- 1988-05-13 JP JP6302988U patent/JPH01167034U/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5453962A (en) * | 1977-10-07 | 1979-04-27 | Toshiba Ceramics Co | Gas phase growing wafer fixing jig |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07335572A (ja) * | 1994-06-08 | 1995-12-22 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 半導体ウエハの熱処理用サセプタ及びその製造方法 |
JP2002299260A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 気相成長装置 |
WO2002082516A1 (fr) * | 2001-03-30 | 2002-10-17 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Dispositif de croissance de phase gazeuse |
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