JPH01129260U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01129260U JPH01129260U JP2291288U JP2291288U JPH01129260U JP H01129260 U JPH01129260 U JP H01129260U JP 2291288 U JP2291288 U JP 2291288U JP 2291288 U JP2291288 U JP 2291288U JP H01129260 U JPH01129260 U JP H01129260U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- susceptor
- work coil
- cvd apparatus
- wafer
- gold
- Prior art date
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- Granted
Links
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
第1図は本考案装置の一実施例の主要部の構成
を示す断面図、第2図は本考案に係る従来のCV
D装置の一例を示す断面図である。 1……ワークコイル、2……サセプタ、3……
ウエーハ、6……ワークコイルカバー、7……金
コーテイング層。
を示す断面図、第2図は本考案に係る従来のCV
D装置の一例を示す断面図である。 1……ワークコイル、2……サセプタ、3……
ウエーハ、6……ワークコイルカバー、7……金
コーテイング層。
Claims (1)
- ワークコイル1に高周波電流を流すことにより
サセプタ2及びその上に載置されたウエーハ3を
加熱する高周波加熱方式のCVD装置において、
ワークコイル1の少なくともサセプタ2に対向す
る面が鏡面研磨され、その表面に金がコーテイン
グされている構成としたCVD装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988022912U JPH0616922Y2 (ja) | 1988-02-22 | 1988-02-22 | Cvd装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988022912U JPH0616922Y2 (ja) | 1988-02-22 | 1988-02-22 | Cvd装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01129260U true JPH01129260U (ja) | 1989-09-04 |
JPH0616922Y2 JPH0616922Y2 (ja) | 1994-05-02 |
Family
ID=31241450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1988022912U Expired - Lifetime JPH0616922Y2 (ja) | 1988-02-22 | 1988-02-22 | Cvd装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0616922Y2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013145859A (ja) * | 2011-12-16 | 2013-07-25 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体製造装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS636725A (ja) * | 1986-06-26 | 1988-01-12 | Toshiba Corp | ジヤイロトロン |
-
1988
- 1988-02-22 JP JP1988022912U patent/JPH0616922Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS636725A (ja) * | 1986-06-26 | 1988-01-12 | Toshiba Corp | ジヤイロトロン |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013145859A (ja) * | 2011-12-16 | 2013-07-25 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0616922Y2 (ja) | 1994-05-02 |