JPS6375003A - 砂目立てされた支持体を有する感光性平版印刷版の感光性組成物高分子化合物の製造方法 - Google Patents

砂目立てされた支持体を有する感光性平版印刷版の感光性組成物高分子化合物の製造方法

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JPS6375003A
JPS6375003A JP22034586A JP22034586A JPS6375003A JP S6375003 A JPS6375003 A JP S6375003A JP 22034586 A JP22034586 A JP 22034586A JP 22034586 A JP22034586 A JP 22034586A JP S6375003 A JPS6375003 A JP S6375003A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は感光性組成物、特に感光性印刷版の感光性組成
物に用いる高分子化合物の製造方法に関する。更に詳し
くは、感光性印刷版の感光性組成物に用いることにより
、感光性印刷版の保存性いわゆるシェルフライフを改良
する高分子化合物の製造方法に関する。
[発明の背景] 従来感光性印刷版の感光性組成物に用いる高分子化合物
の製造法としては、例えば、ラジカル重合およびラジカ
ル共重合のラジカル重合、アニオン重合およびカチオン
重合のイオン重合、重縮合、付加縮合、カルボニル化合
物の重合および開環重合または脱am合と重付加反応に
より合成し、塊状重合による場合を除き目的の高分子化
合物を、反応液のまま、或いは反応液を多缶の非溶媒(
水、アルコール等)中に攪拌上投入し、分離精製して得
る方法が知られている。
前者の例としては、特公昭52−7364号公報に記載
されているような、ジアゾ化合物と共に用いる水酸基を
有するアクリル系高分子化合物をメチルセロソルブ等の
溶媒にてラジカル重合で合成し、そのまま感光液ベース
として用いる方法がある。
後者の例としては、特公昭56−30849号公報に記
載されているような、ポジ型画像に用いるアクリル系高
分子化合物を、ラジカル重合で合成侵、反応溶液を多蛍
のイソプロピルアルコール又は水に投入し、沈殿精製し
て得る方法、また、特公昭55−34929号公報、又
は特公昭57−43890号公報に記載されているよう
な、ジアゾ化合物と共に用いる水MWを有するアクリル
系高分子化合物を、重合反応終了後、多缶の水中に投入
し、沈殿生成によって分離精製して得る方法がある。
しかしながら、これら従来技術により製造された高分子
化合物を感光性組成物に用いた場合、特に感光性印刷版
の感光性組成物に用いた場合に、高分子化合物中に重合
開始剤、未反応モノマー、触媒、連鎖移動剤等によるも
のと考えられる活性物質が残存するため、保存による現
像不良やかぶりの発生など、種々の問題が発生していた
本発明者等は、鋭意研究の結果、感光性組成物に用いる
高分子化合物の製造において、重合反応終了後に反応液
を熱処理することにより、上記欠点を改良できることを
見い出し本発明に至ったものである。
[発明の目的] 即ち本発明の目的は、感光性組成物特に感光性印刷版の
感光性組成物に用いた場合に、保存による現像性の低下
がない、すなわち保存性の優れた感光性印刷版を得るこ
とのできる高分子化合物の製造方法を提供することにあ
る。
本発明の他の目的は、感光性組成物に用いた場合に、か
ぶりの少ない(ステップタブレットで足の切れのよい)
すなわち地汚れのない感光性組成物を提供することにあ
る。
[発明の構成] 本発明の目的は、高分子化合物の合成工程を有する感光
性組成物用高分子化合物の製造方法において、前記合成
工程は重合反応、および重合反応終了後に行なわれる反
応液の熱処理とからなる感光性組成物用高分子化合物の
製造方法により達成された。
[発明の具体的構成] 以下本発明の詳細な説明する。
本発明は、種々の高分子合成法、例えば、ラジカル重合
、アニオン重合およびカチオン重合等のイオン重合、重
縮合、付加縮合、カルボニル化合物の重合および開環重
合、脱離重合と重付加反応による反応液に適用されるが
、好ましくはうジヵル重合による反応液である。特に溶
媒を用いる溶液重合による反応液に有効である。
ラジカル重合用モノマーとしては、下記の不飽結合を有
する化合物が用いられる。
(1)水?[を有するモノマー類:2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、4−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート等の
(メタ)アクリレートモノマー類、N−メチロール(メ
タ)アクリルアミド、N−とドロキシエチル(メタ)ア
クリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)−(メタ)
アクリルアミド、N−(ヒドロキシナフチル)−(メタ
)アクリルアミド等の(メタ)アクリルミアトモノマー
類、O+、l−又はp−ヒドロキシスチレンモノマー類
等 <2><1)以外の(メタ)アクリル酸エステル又はア
ミドモノマー類:メチル(メタ)アクリレート、エチル
(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート
等のアルキル(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリ
ルアミド等(3)側鎖にシアノ基を有するモノマー類:
(メタ)アクリロニトリル、2−ペンテニルトリル、2
−メチル−3−ブテンニトリル、2−シアノエチルアク
リレート、o +、Of−又はp−シアノスチレン等 (4)側鎖にカルボン酸を有するモノマー類:(メタ)
アクリル酸、イタコン酸及びその無水物、マレイン酸及
びその無水物、クロトン酸等(5)ビニルエーテル類:
プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オク
チルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等 (6)スチレン類:α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等 (7)ごニルケトン類:メチルビニルケトン、エチルビ
ニルケトン、プロピルビニルケトン等(8)1)〜7)
以外のモノマー類:エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、ブタジェン、塩化ビニル等のオレフィン類、N−ビ
ニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニル
ピリジン等が挙げられるが、その他これらモノマー類と
ラジカル重合をおこしうるモノマーであればよい。
(1)〜(8)に挙げたモノマーはラジカル重合以外の
重合反応による高分子製造法についても同様に適用され
、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、
キシレン樹脂、トルエン樹脂、グアナミン樹脂のような
付加縮合反応によって製造される樹脂、ナイロン樹脂、
ポリエステル樹脂のような重縮合反応によって製造され
る樹脂、カチオン重合、アニオン重合等にて製造される
イオン重合樹脂、アルデヒド等のカルボニル化合物の重
合による樹脂、環状エーテル、ラクトン等の開環重合樹
脂に適用される。
これらのうち、感光性組成物に好ましく用いられる樹脂
としては、ラジカル重合の場合は(1)〜(8)に挙げ
たモノマーを含む重合体であり、付加縮合の場合はフェ
ノール類、クレゾール類とホルマリンとの縮合樹脂であ
るノボラック樹脂、レゾール樹脂、又重縮合樹脂の場合
はポリエステル樹脂等である。さらに好ましくは、ラジ
カル重合の場合であり(1)〜(8)に挙げたモノマー
を含む重合体であり、最も好ましくは、(1)〜(4)
に挙げたモノマーからなる共重合体である。
本発明に用いる高分子化合物の製造法についてさらに具
体的に述べる。
本発明においては溶媒を用いて重合反応を行なわせるの
が好ましいが、重合溶媒としては、比較的低沸点の溶媒
が好ましく用いられ、具体例としては、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類、ベンゼン、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、トリクロロエタン、ジクロル
メタン等の置換又は無置換の炭化水素類、メタノール、
エタノール、n−プロパツール、1so−プロパツール
、t−ブタノール、5eC−ブタノール等のアルコール
類、エチルイソブチルエーテル、エチルプロピルエーテ
ル、プロピルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、エチレ
ングリコールジメチルエーテル等のグリコール類等、そ
して水が挙げられる。
必要に応じてこれらの溶媒を組み合わせて用いることも
できる。
又、これらの比較的低沸点の溶媒と沸点が100℃を越
える比較的高沸点の溶媒とを組み合わせて用いることも
できる。沸点が100℃を越える溶媒としては、シフ0
ヘキサノン、3−ヘプタノン等のケトン類、トルエン、
キシレン、オクタン等の炭化水素類、n−7タノール、
ペンタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類、
酢酸ブチル、酢酸ペンチル、酢酸プロピル等の酢酸エス
テル類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコール
モノエチルエーテルアセテート等のグリコール類が好ま
しく用いられる。
溶媒と仕込みのモノマーのモル比は、溶媒やモノマーの
化学的性質、物理的性質、また生成する高分子化合物の
物性、特に粘度等によって変るが、モノマー濃度として
0.1 mol/ 1〜50 mol/ 1、好ましく
は1  mol/ffi 〜20 mof/ffiテア
8゜本発明においては種々の開始剤が用いられる。
ラジカル重合ではアゾビスイソブチロニトリル、過酸化
ベンゾイル、過硫酸カリウム、℃−ブチルヒトOパーオ
キサイド、過酸化ジ℃−ブチル、アゾビスシクロヘキサ
ンカルボニトリル等が用いられ、全モノマー量に対して
0.01m01%〜10m01%、好ましくは0.11
1101%〜5m01%添加される。
付加縮合では、ノボラック樹脂の場合、塩酸、しゆう酸
、リン酸、硫酸、オキシ塩化リン、酢酸等が用いられ、
全モノマー量に対して0.01 mo1%〜10io1
%添加される。
イオン重合では、硫酸、四酸化スズ、三フッ化ホウ素、
グリニヤール試薬等が用いられる。又重縮合樹脂では開
始剤を用いないでも加熱等により容易に目的とする高分
子化合物を得られる。
重合反応が進行した高分子化合物またはその溶液には、
重合反応を停止するために適当な化合物が添加すること
が好ましい。例えばラジカル重合ではハイドロキノン、
メトキノン、カテコール、レゾルシン、水等の重合禁止
剤を、また酸触謀による付加縮合にはアルカリ剤、例え
ば炭酸ンーダ、炭酸カリウム、トリエチルアミン等を重
合禁止剤として用いることが有効である。
高分子化合物またはその溶液は、感光性印刷版に用いる
際に、塗布溶媒に溶解して又は重合溶媒を塗布溶媒で置
換して用いることもできる。溶解又は置換用溶媒として
は、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノプロビルエーテル、エチレングリコールモノブチルエ
ーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エ
チレングリコールジエチルエーテル等のエチレングリコ
ールアルキルエーテル類およびエチレングリコールアリ
ールエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルア
セテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセ
テート類およびエチレングリコールアリールエーテルア
セテート類、ジエチレングリコールジメチルエーテル等
のジエチレングリコールアルキルエーテル類、ブOピレ
ングリコールモノメチルエーテル等のプロピレングリコ
ールアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアル
キルエーテルアセテート類、シクロヘキサノン、メチル
ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、3−ヘプタノ
ン等のケトン類、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、
酢酸イソペンチル等の酢酸エステル類、n−ブタノール
、n−ペンタノール、シクロヘキサノール、ベンジルア
ルコール等のアルコール類、ジメチルホルムアミド等の
含窒素化合物、ジメチルスルホキシドなどの沸点が10
0℃を越える比較的高沸点の溶媒を用いることができる
。又これらの比較的高沸点の溶媒を2種以上混合して用
いることもできる。
重合反応が終了した高分子化合物溶液または塗布溶媒で
置換された高分子化合物溶液に、本発明の特徴である熱
処理を施す。熱処理の温度および時間は残存している活
性物質の安定性によっても異なるが、概ね40℃〜15
0℃で5分〜30日間、好ましくは45℃〜130℃で
10分〜3日、さらに好ましくは50’C〜100℃で
20分〜24時間である。熱処理に用いる容器としては
還流冷却器および攪拌装置を取り付けた3つロフラスコ
等が好ましく用いられる。また、酸化され易い高分子化
合物の場合には窒素気流中で処理をおこなうことが好ま
しい。
熱処理を施した高分子化合物溶液はその用途に応じて、
下記に示す感光性組成物および添加剤等を添加し、また
必要に応じて前記した塗布溶媒を添加して、感光性印刷
版の感光液として提供される。
感光性組成物は必須成分として感光性物質を含んでおり
、感光性物質としては、露光又はその後の現像処理によ
り、その物質的、化学的性質が変化するもので、例えば
露光により、現像液に対する溶解性に差が生じるもの、
露光の前後で分子間の接着力に差が生じるもの、露光又
はその後の現像処理により、水及び油に対する!Ill
性に差が生じるもの、更に電子写真方式による画像部を
形成できるもの等が使用できる。
その代表的なものとしては例えば感光性ジアゾ化合物、
感光性アジド化合物、エチレン性不飽和二重結合を有す
る化合物、酸触媒で重合を起すエポキシ化合物、酸で分
解するC−0−C−基を有する化合物等が挙げられる。
感光性ジアゾ化合物としては、露光によりアルカリ可溶
性に変化するポジ型のものとして0−ナフトキノンジア
ジド化合物、露光により溶解性が減少するネガ型のもの
として、芳香族ジアゾニウム塩等が挙げられる。
芳香族ジアゾニウム塩としては、芳香族ジアゾニウム塩
とホルムアルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂
も用いられる。特に好ましくは、p−ジアゾシフIニル
アミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドとの縮
合物の塩、例えばヘキサフルオロ燐酸塩、テトラフルオ
ロホウ酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩等のジアゾ
樹脂無機塩や、米国特許第3.300.309号明il
!!:に記載ざれているような、前記縮合物とスルフォ
ン酸類例えばバラトルエンスルフォン酸もしくはその酸
塩、ホスフィン酸類、例えばベンゼンホスフィン酸もし
くはその塩、フェノール性ヒドロキシル基含有化合物、
例えば2.4−ジヒドロキジルベンゾフェノンとの反応
生成物であるジアゾ樹脂有機塩等が挙げられる。
感光性アジド化合物としては、アジド基が直接又はカル
ボニル基又はスルホニル基を介して芳香環に結合してい
る芳香族アジド化合物が好ましく使用される。例えば、
米国特許第3,096,311号明号明EIに記載され
ているようなポリアジドスチレン、ポリビニル−〇−ア
ジドベンゾアート、ポリビニル−p−アジドベンザール
、特公昭45−9613号公報に記載のアジドアリール
スルフォニルクロリドと不飽和炭化水素系ポリマーとの
反応生成物、又特公昭43−21017号、同44−2
29号、同44−22954号、同45−24915号
の各公報に記載されているような、スルホニルアジドや
カルボニルアジドを持つポリマー等が挙げられる。
これらの芳香族ジアゾニウム塩化合物、芳香族アジド化
合物の含有量は感光性レジスト形成組成物の全固形分に
対して2〜60重量%が好ましく、特に好ましくは4〜
40重坦%である。
またエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては
光二量化反応を起すもの、及び光重合反応を起すものが
挙げられる。
前者の例としては、重合体主鎖又は側鎖に感光基として
一〇H−CH−C−を含むポリエステル類、ポリアミド
類、ポリカーボネート類のような感光性重合体を主成分
とするものも適している。
例えば、特開昭55−40415号公報に記載されてい
るような、フェニレンジエチルアクリレートと水素添加
したビスフェノールA及びトリエチレングリコールとの
縮合で得られる感光性ポリエステル、米国特許第2.9
56.878号明細書に記載されているような、シンナ
ミリデンマロン酸等のく2−プロペリデン)マロン酸化
合物及び二官能性グリコール頂から誘導される感光性ポ
リエステル類等が挙られる。
後者の例としてはアクリル酸またはメタクリル酸エステ
ル誘導体例えば特公昭35−5093号、同35−14
719号各公報に記載されるポリオールのアクリル酸ま
たはメタクリル酸エステル例えばジエチレングリコール
(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール(メタ
)アクリレート等が挙げられる。
これらのエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の含
有量は感光性レジスト形成組成物の全固形分に対し5〜
100重量パーセントである。
O−キノンジアジド化合物は、少なくとも1つの0−キ
ノンジアジド基好ましくは0−ベンゾキノンジアジド基
または0−ナフトキノンジアジド化合物で、公知の種々
の構造の化合物例えば、J、KO3ar著 r  L 
 ight−5ensitive  systemeJ
(John Wiley  & 5ons、 Inc、
 1965年発行)第339頁〜第353頁に詳細に記
されている化合物を含有する。特に種々のヒドロキシル
化合物またはアミノ化合物と0−ナフトキノンジアジド
スルフォン酸とのエステルまたはアミドが好適である。
゛好ましいヒドロキシル化合物としては、フェノール類
とカルボニル基含有化合物との縮合樹脂、特に酸性触媒
存在下での縮合により得られる樹脂が挙げられる。該フ
ェノール類としてはフェノール、レゾルシン、クレゾー
ル、ピロガロール等が挙げられ、該カルボニル基含有化
合物としては、ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒドの
如きアルデヒド類、アセトンの如きケトン類が挙げられ
る。
特にフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・
ホルムアルデヒド樹脂、ピロガロール・アセトン樹脂、
レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂が好ましい。
0−キノンジアジド化合物の代表的な具体例としては、
ベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸または
ナフトキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸とフェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂またはクレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂とのエステル、米国特許第3.635
.709号明1[111に記載されているナフトキノン
−(1,2)−ジアジドスルホン酸、とピロガロール・
アセトン樹脂のスルホン酸エステル、特開昭56−10
44号公報に記載されているナフトキノン−(1,2)
−ジアジド−(2)−5−スルホン酸とレゾルシン・ベ
ンズアルデヒド樹脂との縮合物、特開昭55−7634
6号公報に記載されているナフトキノン−(1,2)−
ジアジドー(2)−5−スルホン酸とレゾルシン・ピロ
ガロール・アセトン共重合縮合物とのエステル化合物、
その他有用な0−キノンジアジド化合物としては、特開
昭50−117503号公報に記載されている、末端に
ヒト0キシル基を有するポリエステルと0−ナフトキノ
ンジアジドスルボン酸とのエステル、特開昭50−11
3305号公報に記載されているような、p−ヒドロキ
シスチレンのホモポリマーまたはこれと他の共重合し得
るモノマーとの共重合体と0−ナフトキノンジアジドス
ルボン酸とのエステル等が挙げられる。
これらの0−キノンジアジド化合物の含有量は感光性レ
ジスト形成組成物の全固形分に対し5〜60重量%が好
ましく、特に好ましくは10〜50重量%である。
感光性組成物には、以上説明した各素材の他、必要に応
じて他の添加剤も含むことができる。
可塑剤として各種低分子化合物類、例えばフタル類エス
テル類、トリフェニルホスフェート類、マレイン酸エス
テル類、ジアゾニウム塩の保存安定剤としての酸類、例
えばシュウ酸、燐酸等、塗布性向上剤として界面活性剤
、例えばフッ素系界面活性剤、エチルセルロースポリア
ルキレンエーテル等に代表されるノニオン活性剤等、ポ
ジ型感光性組成物の増感剤として酸無水物等、更に、露
光により可視画像を形成されるためのプリントアウト材
料等が挙げられる。プリントアウト材料は露光により酸
もしくは遊1111を生成する化合物と、これと相互作
用することによってその色調を変える有機染料より成る
もので、露光により酸もしくは遊離基を生成する化合物
としては、例えば特開昭50−35209号公報に記載
のO−ナフトキノンジアジド−4−スルフォン酸ハロゲ
ニド、特開昭53−36223号公報に記載のトリハロ
メチル−2−ピロンやトリハロメチル−トリアジン、特
R111i55−6244号公報に記載の0−ナフトキ
ノンジアジド−4−スルフォン酸り0ライドと電子吸引
性置換基を有するフェノール類、またはアニリン類との
エステル化合物、特開昭55−77742号公報に記載
のハロメチル−ビニル−オキサジアゾール化合物及びジ
アゾニウム塩類等が挙げられる。
又前記の有機染料としては、例えばビクトリアピュアブ
ルーBOH[保土谷化学]、オイルブルー#603[オ
リエント化学工業−]、パテントピュアブルー[住友三
国化学製]、クリスタルバイオレット、ブリリアントグ
リーン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メ
チルグリーン、エリスロシンB1ベイシックフタシン、
マラカイトグリーン、オイルレッド、−一クレゾールパ
ープル、ローダミンB、オーラミン、4−D−ジエチル
アミノフェニルイミノナフトキノン、シアノ−D−ジエ
チルアミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリ
フェニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系
、オキサテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系
またはアントラキノン系の色素が挙げられる。
このようにして製造された感光液は、適当な支持体上に
塗設されることにより、感光性平版印刷版として適用さ
れる。支持体の例としては、アルミニウム板、亜鉛板、
鉄板、プラスチック板、又はそれらの複合材料、例えば
アルミメッキした鉄板、クロムメッキした鉄板、アルミ
ラミネートしたプラスチックシート等が挙げられ、好ま
しくはアルミニウム板である。また該支持体の表面は一
般に砂目立てされた形状であることが好ましい。
砂目形状を形成させる方法としては、例えば曙械的方法
、電解によりエツチングする方法が挙げられる。機械的
方法としては例えばボール研磨法、ブラシ研磨法、液体
ホーニングによる研磨法、パフ研磨法等が挙げられる。
感光液を支持体に塗設するには、あらかじめ感光液を適
当な濾材例えばN o、 2 ’tU紙で濾過し、ゴミ
、異吻等を除去してから、ワイヤーバーコーター、ホエ
ラーコーター、ダブルローラーコータ−等のローラーコ
ーター、押し出し型コーター等のビードコーターなどが
用いられるが、好ましくはダブルローラーコーター等の
ローラーコーター、押し出し型コーター等のビードコー
ター用いられる。塗布後の乾燥条件としては、30℃〜
100℃程度で約1分〜60分が適切であり、好ましく
は60℃〜90℃で約2分から30分である。
このようにして製造された感光性印刷版は水銀灯、メタ
ルハライドランプ等で露光し、適当な現像液で現像処理
することにより印刷版として供される。
[発明の効果] 本発明の方法により得られた高分子化合物を含有する感
光性組成物はカブリが少ない(ステップタブレットで足
の切れが良い)、すなわち地汚れのない優れたものであ
る。特に前記高分子化合物を含有する感光性組成物を有
する感光性印刷版は保存中に現像性が劣化しないという
著しく優れた保存性を発揮する。
[実施例] 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明の実施態様がこれにより限定されるものでない。
[合成例11 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド17
.9(1、アクリロニトリル16.1g、エチルアクリ
レート74.40 、メタクリルl!t 8.7g(そ
れぞれのモル比8:24:60:8)を蒸留アセトン1
80i12.蒸留メタノール180112に溶解させ(
トータル七ツマー濃度:3.5モル/2)、アゾビスイ
ソブチロニトリル6.2(1(3モル%)を添加し、窒
素気流中、還流状態で8時間重合反応を行なった。反応
終了後ハイドロキノン0.05g、メチルセロソルブ2
0011I2、酸化防止剤(ヨシソックス2246G1
吉富製薬(株)製)  0.3(lを投入した後、アス
ピレータ−で減圧上重合溶媒の留去を行なった。
10分間留去をし、留去温度が約40℃になった時点で
留去を止め、室温まで冷却した。
冷却後常圧に戻してから昇温し、攪拌下95℃±5℃に
て2時間熱処理を行なった。続いて常温まで下げて以下
の条件で固形分を測定した。固形分は36重量%であっ
た。
温度:100℃(減圧: I X 1 (12ma+H
g)時間:1時間 次にメチルセロソルブを固形分冊が20fflffi%
になるように投入し、高分子溶液−1とした。収量は2
0重量%溶液として510gであった。
次にGPC測定を行ない、下記の結果を得た。
重量平均分子蛍(MW ) :  3.90 x10今
分散比        :  1.98GPC測定条件 GPC装置:日立製作所製635型GPC装置カラム 
 : 5hodex A 802xA 803xA 8
04流ffi    : THF  1.51ffi/
分検出器  :示差屈折率計 分子量換算:標準ポリスチレンによる換算 ・(東洋ソ
ーダ(株)製造)  i [合成例2] 2−とドロキシエチルメタクリルアミド56.7CI 
アクリロニトリル9.91o、エチルアクリレート54
.9Q 、メタクリル酸6.54g(それぞれのモル比
35:15:44:6)を蒸留アセトン120iR1蒸
留エタノール1201j2に溶解しくトータルモノマー
a度:  5.25モル/愛)、アゾビスイソブチロト
リル4.1o(2モル%)を添加し、窒素気流中、還流
状態で8時間重合反応を行なった。反応終了後ハイドロ
キノン0.05g、メチルセロソルブ1501β、酸化
防止剤(ヨシノックス2246G、古冨製薬(株)製)
  0.31Jを投入した後、アスピレータ−で減圧下
、重合溶媒の留去を行なった。約1時間留去をし、留去
温度が約40℃になった時点で常圧に戻し、常圧で80
℃に昇温してから、6時間熱処理を行なった。次に実施
例1と同様にして固形分を測定した。固形分は33重量
%であった。メチルセロソルブとメタノールの溶液(混
合比5:1)にて固形分が20重泊%になるように希釈
し、高分子溶液−2とした。収量は20重世%溶液で5
12gであった。
Mw  :  5.50x10’ 分散比:  1.71 [合成3] N−(4−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド22.
19.2−ヒドロキシエチルメタクリレート5G、7Q
 、アクリロニトリル6、630、エチルアクリレート
49.8Q 、メタクリル酸5.330(それぞれのモ
ル比10:35:10:40:5)を蒸留アセトン12
0d、蒸留メタノール120−に溶解させ(トータルモ
ノマー濃度:  5.25モル/i)、アゾビスインブ
チロニトリル4.09(1(2モル%)を添加した後、
合成1と同様にして合成を行ない、高分子溶液−3を得
た。
収量および分子量を以下に示す。
収ffi:613g(20ffili%l液トL、T)
My :  6.70 XIO” 分散比:  1.91 [合成例4] p−ヒドロキシスチレン12.1g、アクリロニトリル
18.51;l 、エチルメタクリレート78.IQ、
メタクリル酸9.6!II  <それぞれのモル比8:
28:55 : 9)を蒸留メチルエチルケトン125
.fi、蒸留メタノール125tj2に溶解させ(トー
タルモノマー濃度:5モル/l)、アゾビスイソブチロ
ニトリル2.04o (1モル%)を添加し、以後合成
例1と同様にして合成を行なった。尚、希釈溶液はメチ
ルセロソルブ/ブチルセロソルブ−271の混合溶液を
用い固形分が20重置火になるようにした。高分子溶液
−4とした。収量および分子量を以下に示す。
収flt : 515g(20重量%溶液として)Mw
 :  7.80 x 1Q4 分散比:  1.52 [合成例5.6.7.8.9.10.11.12] 重合反応終了後の熱処理条件を表1に示すようにした他
は、合成例1と同様の操作を行なった。
++、N=’、−0 尚、高分子溶液−11,12については、高温のためと
思われるかつ色の着色が見られた。
[合成例13] l−クレゾール60g、D−クレゾール40g、37%
ホルムアルデヒド水溶液84111に触媒として35%
濃塩酸0.1−を加え、加熱下運流して付加縮合反応を
約1.5時間行なった。反応終了後、炭酸カリウム5%
液をpHが5〜6になるまで滴下し、さらに水20g、
エチルセロソルブ100gを加え、減圧下、95℃にて
、水およびエチルセロソルブの留去を2.5時間かけて
おこなった。次にエチルセロソルブを追加して20重厘
%液とし、高分子溶液−13を得た。
収ffi : 108(1(20重量%溶液として)M
W :  1.05 X 10” 分散比:  2.13 [比較合成例1〕 合成例1の処方にて、重合溶媒留去後熱処理をしない他
は合成例−1と同様の操作を行ない、メチルメロソルブ
で20重量%の溶液として、比較高分子溶液−1を得た
収量: 51Gg(20重量%溶液として)MW : 
 3.90 X i Q4 分散比:  1.98 実施例1 厚さ0.24■諺のアルミニウム板を3%水酸化ナトリ
ウム水溶液中に浸漬して脱脂し、水洗後1%mWIEI
U 1 %*’7酸水溶液中25℃r3A/df、5分
間電解エツチングし、水洗した。次に0.9%水酸化ナ
トリウム水溶液に浸漬し、水洗後40%硫酸水溶液中3
0℃で1.5A/ dt’、 2分間陽極酸化し水洗し
た。更に、90℃でメタケイ酸ソーダ1%液にて30秒
間処理し、その後、水洗、乾燥を行い、砂目室てされた
アルミニウム板を作成した。
次に、該アルミニウム板に次の組成の感光液をロールコ
ータ−で塗布した。更に90℃で4分間乾燥を行ない感
光性平版中欄を得た。
[感光液−1] 高分子溶液−13ka p−ジアゾジフェニルアミン とパラホルムアルデヒド(モル比 1 :  0.9)との縮合樹脂のへキサフルオロリン
酸塩        48(IIジュリマーAC−1O
L (日本純薬(株)製)      369ビクトリアプ
ユアブルーBOH (保止ケ谷化学(株)l)      90メチルセO
ソルブ         3.12乾燥後の塗布量は1
.60/v”であった。
次に、該感光性平版印刷版を以下に示す条件で露光、現
像し、さらに現像インキ5PO−1(小西六写真工業(
株)製)にてインキ盛りをし、クリヤー感度及び現像汚
れのチェックを行なった。
次に下記印刷条件にて印刷を行なった。
く露光条件〉 露光材:メタルハライドランプアイドフイン2000”
(右端電気(株)製造) 距離:11 時W:30秒 フィルム原1i:コダックのステップタブレットNO1
2を貼り込んだ150線の網 点原稿 く現像条件〉 現像液−1 フェニルセロソルブ        480gジェタノ
ールアミン(80%)    15hバイオニンA 4
413 (打水油脂(株)製)       180Q水   
                        1
22現像液−2 現像液−1を未露光のネガPS版” S W N ”(
小西六写真工業(株)製)をくり返し現像して疲労させ
たもの。(母液iIl当り15w”yAa処理したもの
。) 現像機:サクラPS版自現機“PSP−860””(小
西六写真工業(株)製) ガム液:5GW−2 現像温度:25℃ 現像時間:30秒 く印刷条件〉 印刷11:ハイデルGTO 紙  :セミコート紙 インキ:東洋ブライト紅(東洋インキ(株)製)湿し水
:5ELJ−1(小西六写真工業(株)製)の50倍希
釈液) 印刷スピード: 5ooo枚/時 また、該感光性平版印刷版を次の条件で保存して強制劣
化(ドライサーモ(DT))した優、同様にしてクリヤ
ー感度、現像性、印刷汚れを調べた。結果を表2に示す
く保存条件〉 温度:55℃ 湿度=2〜5% 時間: 5 days 〜7 days実施例2〜12 感光液−1の高分子溶液−1の代りに、高分子溶液−2
〜12(実施例−2〜12に対応)を用いた他は実施例
1と同様にして試験を行なった。
結果を表2に示す。
比較例1 感光液−1の高分子溶液−1の代りに、比較高分子溶液
−1を用いた他は実施例1と同様にして試験を行なった
。結果を表2に示す。
くクリヤー感度〉 フィルム原稿のステップタブレット(コダックNo、1
2)により、クリヤ一段数を求め、いわゆる足の切れを
評価した。
く現像性〉 フィルム原稿の網点(150線)により、以下の3段階
で現像性(現像汚れ)を評価した。
O印:非画像部の感光層が完全に溶解除去されている。
Δ印:非画像部の感光層がほぼ溶解除去されている。
×印:非画像部の感光層がかなり残在している。(特に
色素観) く印刷での汚れ〉 印刷での網点の再現性を評価した。
○印:シャド一部が再現されている。
×印:シャド一部にからみが生じ汚れている。
以12、白 M6ノ 表−2から明らかな様に、熱処理していない高分子化合
物を用いた比較例−1では、クリヤ一段数が多く、いわ
ゆる足の切れが不足している。また強制劣化5日ですで
に、現像後の印刷版に汚れが見られることより、現像性
が劣化していることがわかり、また印刷に供すると汚れ
が発生し実用上問題がある。
これに対し、本発明の実施例−1〜12は足の切れが優
れ、強制劣化7日でも、疲労現像液(現像液−2)を用
いた現像において現像性がほとんど劣化せず、印刷に供
しても汚れが発生しない。
また、感光性平版印刷版を実際に空温下で1.5年保存
し、実施例1と同様に製版、印刷を行なった結果、比較
例1は印刷に供した場合に綱部のシャド一部がからんで
汚れとなったが、本発明の実施例1〜12の試料は特に
問題は生じなかった。
以上より、本発明の熱処理をした高分子化合物を感光性
平版印刷版の感光性組成物に用いると、いわゆるシェル
フライフが優れ、また足の切れが良く印刷に供しても汚
れにくいという効果を発揮する。
実施例13 厚さ0.3On+mのアルミニウム板を3%水酸化ナト
リウム水溶液中に浸漬して脱脂し、水洗後2%硝酸水溶
液中で3A/dt”、4分間電解エツチングし、水洗し
た。次に0.9%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、水
洗模40%硫酸水溶液中30℃で1.5A/ df、 
2分間陽極酸化し、水洗した。
更に、80℃の温水にて30秒間封孔処理をし水洗、乾
燥後、砂目立てされたアルミニウム板を作成した。
次に、アルミニウム板に次のような組成を有する感光液
をロールコータ−で塗布した。更に90℃で4分間乾燥
を行ない感光性平版印刷版を得た。
[感光液−2] 高分子溶液−133,5kg o−ナフトキノンジアジド−5− スルホニルクロライドとピロガロール アセトン樹脂の縮合物(特願昭 58−249849号記載の化合物)   90g0−
ナフトキノンジアジド−5− スルホニルクロライドとp−オフ チルフェノールホルマリンノボラック 樹脂の縮合物           992−トリクロ
ルメチル−4−p− ブトキシスチリル−1,3,4− オキサジアゾール         6gオイルブルー
#603         2Gメチルセロソルブ  
        1.5klJ乾燥後の塗布量は2.0
1j/l”であった。次に実施例1の条件で現像液−1
をさくらPS版用現像液5DR−1(小西六写真工業〈
株)製)の6倍希釈液に、疲労用PS版をSWNからS
LP (小西六写真工業(株)製)にそして疲労液は5
1!/2にて、ガム液を5GW−2から5GW−1に変
えて実施例1と同様に試験を行なった。その結果、サー
モ保存5〜7日にても、現像汚れ、印刷汚れも起きず良
好な結果であった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 高分子化合物の合成工程を有する感光性組成物用高分子
    化合物の製造方法において、前記合成工程は重合反応、
    および重合反応終了後に行なわれる反応液の熱処理から
    なることを特徴とする感光性組成物用高分子化合物の製
    造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013023589A (ja) * 2011-07-21 2013-02-04 Mitsubishi Rayon Co Ltd 電子材料用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法

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JP2013023589A (ja) * 2011-07-21 2013-02-04 Mitsubishi Rayon Co Ltd 電子材料用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法

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