JPS6372138A - シリコンウエハ−の位置決め装置 - Google Patents

シリコンウエハ−の位置決め装置

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JPS6372138A
JPS6372138A JP61216690A JP21669086A JPS6372138A JP S6372138 A JPS6372138 A JP S6372138A JP 61216690 A JP61216690 A JP 61216690A JP 21669086 A JP21669086 A JP 21669086A JP S6372138 A JPS6372138 A JP S6372138A
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silicon wafer
attracting
disc
suction disk
orientation flat
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    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 シリコンウェハーを加工処理する工程等で使用され、オ
リエンテーションフラット(以下オリフラと略す)を基
準にしてシリコンウェハーの位置を揃えるように位置決
めを行なうシリコンウェハーの位置決め装置に関する。
〈従来の技術〉 シリコンウェハーを加工処理或は測定する工程などにお
いて、加工処理装置等にシリコンウェハーをロボット等
を使用して搬入する際、シリコンウェハーに設けられた
フラットな切欠部であるオリフラを基準にしてこのウェ
ハーを位置決めする必要がある。
このため、従来ではシリコンウェハーを回転可能に支持
し、そのウェハーの周縁部にゴムローラを押し当て、ゴ
ムローラを回転駆動させることにより、ウェハーを回わ
し、オリフラがゴムローラの箇所に達した位置でゴムロ
ーラとウェハーが離れることを利用してこの位置でウェ
ハーを停止させ、シリコンウェハーの位置決めを行なっ
ていた〈発明が解決しようとする問題点〉 したがって、シリコンウェハーが慣性で回転するなどし
てオリフラを基準としたウェハーの位置決めにばらつき
が生じ、正確なウェハーの位置決めができず、また、従
来の位置決め装置では停止位置が予め決められ、任意の
位置でシリコンウェハーを位置決めできない問題もあっ
た。
く問題点を解決するための手段〉 本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもの
で、シリコンウェハーの位置を、任意の位置に高速に且
つ正確に位置決めすることができるシリコンウェハーの
位置決め装置を提供するものであり、以下のように構成
される。
すなわち、本発明のシリコンウェハーの位置決め装置は
、上板上に固定されシリコンウェハーの両側部を支持す
る2つの支持台と、2つの支持台の間に上下動可能で且
つ回転可能に配設され上面に吸着孔を設はシリコンウェ
ハーを中心位置で支持する吸着円盤と、2つの支持台の
間で吸着円盤の周囲に上下動可能に配設され、吸着円盤
上の支持されたシリコンウェハーを持ち上げて上昇する
際、シリコンウェハーの端部を押して内側に移動する可
動押えを設けた保持部と、支持台の一部に取付けられシ
リコンウェハーのオリフラの端部を検出する光電検出器
と、を備えて構成される。
したがって、先ず、支持台上に載置されたシリコンウェ
ハーを吸着円盤で吸着して少し持ち上げ、吸着円盤を回
転させながら、支持台上に設けた光電検出器によりオリ
フラの端部を検出し、このオリフラを検出した位置を基
準としてさらに吸着円盤を一定角度だけ回転させてシリ
コンウェハーのオリフラ位置を所定位置に合わせること
ができ、任意の位置にオリフラが向くようにウェハーを
位ヒ快めできる。また、保持部の可動押えによりシリコ
ンウェハーの位置も一定位置に正確に合わせることがで
きる。
〈実施例〉 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図はシリコンウェハーの位置決め装置の平面図を示
し、第2図はカバーを外した状態の同正面図を示してい
る。底板1の上に2木の固定シャフト3と2木の固定フ
レーム4.5を介して上板2が水平に固定され、上板2
の上には左右に同じ形状の支持台6が固定される。支持
台6上にはシリコンウェハー30の側部を定位置に支持
するように、弓形の凹部が形成され、右側の支持台6の
中央に光電検出器7が設けられる。この光電検出器7は
支持台6上に載置されたシリコンウェハー30のオリフ
ラ31の端部を検出するもので、例えば投光素子と受光
素子とからなり、支持台6上にシリコンウェハ−30が
載置されている場合。
そこからの反射光を受光素子が受光し、ウェハーが回わ
りそのオリフラ31のエツジが、光電検出器7の位置に
達したとき、その反射光が消えることによりオリフラ3
1を検出する。
さらに、上板2上には吸着円盤8が上板を貫通して上方
に突出した回転シャフト9上に固定されて配設され、吸
着円盤8上面に吸着孔8aが穿設されこれらの吸着孔8
&は内部で図示しない吸気通路と接続される0回転シャ
フト9は上板2の下側に位置する上下動ブロック10内
に回転可能に挿通され、上下動ブロックlOと共に上下
動する、上下動ブロック10に2木の固定シャフト3が
貫通し、上下動ブロック10はこの2本の固定シャフト
3をガイド軸として後述するカムの作動により上下駆動
される。また、上下動ブロックlOの側部に取付ブラケ
ットを介して吸着円盤回転駆動用のステップモータ11
が取付けられ、ステップモータ11の回転軸はウオーム
12とウオームホイールを介して回転シャフト9に連結
される。
上板2上における吸着円盤8の周囲で2つの支持台6の
間に保持部13が上板2上に突出した2本の摺動シャフ
ト17の上に固定される。この保持部13は、水平板状
の保持部本体14と、保持部本体14の後部に固定され
た端部押え15と。
保持部本体14の前部に可動的に取付けられた可動押え
16とからなり、吸着円盤8上のシリコンウェハー30
を持ち上げ、同時に端部押え15と可動押え16との間
にウェハーを挾むように保持する構造である。保持部本
体14は上板2を貫通し上方に突出した2本の摺動シャ
ツ)17上に固定される。可動押え16上には先端に2
本のピン16aがシリコンウェハー30の端部を押すよ
うに立設され、可動押え16は、第5図に示すように、
保持部本体14の下側に出入り可能に構成され、保持部
本体14の下側に軸受を介して水平摺動可能に支持され
た2本のロッド18の先端に可動押え16が固定され、
ロッド18の末端部にロッドつまり可動押え16を内側
に付勢するコイルばね19が外嵌される。さらに、可動
押え16の下側には略三角形のカム板20が縦に固定さ
れ。
上板2の端部にカムフォロワ21が設けられ、摺動シャ
フト17の上昇により保持部13が上昇すると、可動押
え16はカム板20の作用により上昇しながら内側へ動
く。
一方、固定フレーム4にはカム駆動用のステップモータ
22が固定され、その下方の固定フレーム4と5の間に
カム軸23が軸支され、ステップモータ22の回転軸は
小歯車24と大歯車25を介してカム軸23と連結され
る。カム軸23の中間部にはカム26が軸着され、上記
の上下動ブロック10にアームを介して固定されたカム
フォロワ27がこのカム26上に当接する。さらに、カ
ム軸23上には別のカム28が軸着され、と記の2木の
摺動シャフト17の下端に固定された連結板にブラケッ
トを介して軸支されたカムフォロワ29がカム28上に
当接する。これらのカム26と28は、ステップモータ
22により回転駆動され、先ず、カム26により上下動
ブロック1oを上昇させて吸着円盤8を持ち上げ、次に
、カム28により2木の摺動シャフト17を上昇させて
保持部13を持ち上げるように形成される。
次に、上記の位置決め装置の動作を説明する。
先ず、位置決め装置は、第1図〜第5図に示す状態つま
り吸着円盤8と保持部13が最下位の位置で静止してい
る。
この状態でシリコンウェハー30が各種の搬送装置によ
り支持台6の上に載置される0両側の支持台6には適用
されるシリコンウェハーの径に対応した弓形凹部が設け
られているため、シリコンウェハー30は正確な位置に
載置されるが、そのオリフラ31の位置はランダムであ
る。
次に、カム用のステップモータ22が作動し、カム軸2
3を介してカム26を回転させ、上下動ブロック10を
中間位置まで上昇させる。これにより、吸着円盤8は第
6図に示すように支持台6上に載置されたシリコンウェ
ハー30を少しく例えば2■程度)持ち上げる。この時
、吸着円盤8の吸着孔8aから吸気が行なわれ、シリコ
ンウェハー30は吸着円盤8上に吸着される。
次に、回転用のステップモータ11が作動し、回転シャ
フト9を介して吸着円盤8を一定の方向(例えば第1図
の反時計方向)に回転させる。これによりシリコンウェ
ハー30が支持台6のわずか上方で回転し、この時、光
電検出器7から出力された光電信号を入力する制御回路
は、シリコンウェハー30が光電検出器7の上方にあっ
てそこからの反射光を受光している状態から、オリフラ
31が光電検出器7の真上にさしかかり反射光の受光状
IEが消えた時点、つまり光電検出器7がオリフラ31
の端部を検出した時を検知する。そして、制御回路は、
その時点からさらに吸着円盤8を一定角度(例えば12
0度)回転させ、ステップモータ11を停止させる。
これにより、吸着円盤8上のシリコンウェハー30はそ
のオリフラ31を一定角度位置(例えば真後)に向けた
状態になる。
続いて、吸着円盤8の吸着作用が停止され、カム用のス
テップモータ22が作動することにより、カム軸23を
介してカム28が回転し、このカム28の作用により2
本の摺動シャツ)17を介して保持部13が吸着円盤よ
りわずかに上方位置(第7図)まで持ち上げられる。こ
の時、第5図に示すように保持部13の可動押え16は
カム板20とコイルばね19の作用により上昇しながら
内側に移動し、これにより吸着円盤8上のシリコンウェ
ハー30は可動押え16上のピン16aによって端部押
え15の方向に押されながら保持部本体14により持ち
上げられ、シリコンウェハー30の前後位置が正しく合
せられる。
そして、さらにカム用のステップモータ22が連続して
作動し、カム26.28が連続して回転することにより
、保持部13が上昇端から下降を始め、吸着円盤8も下
降を行ない、第1図〜第5図に示す最初の位置に各部材
が戻った時、ステップモータ22は停止する。これによ
り保持部13上に保持されていたシリコンウェハー30
は位置合せされた状態で支持台6の上に降され、この回
のシリコンウェハー30の位置決めが終了する。
そして、一定の角度位置例えば真後にオリフラ31を合
わせた状態のシリコンウェハー30は、ロボット等の搬
送装置により、そのまま下降処理装置或は測定装置など
のステージに送られる。
〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明のシリコンウェハーの位置
決め装置によれば、支持台上に載置されたシリコンウェ
ハーを吸着円盤で吸着して少し持ち上げ、吸着円盤を回
転させながら、支持台上に設けた光電検出器によりオリ
フラの端部を検出し、このオリフラを検出した位置を基
準としてさらに吸着円盤を一定角度だけ回転させてシリ
コンウェハーのオリフラ位置を所定位置に合わせるよう
に構成したから、任意の位置にオリフラが向くようにシ
リコンウェハーを位置決めすることができる。また、オ
リフラの位置を位置決めした後、吸着円盤上のシリコン
ウェハーをもう一度保持部で持ち上げながら一方から押
して位置決めを行ない、支持台の上に降すため、シリコ
ンウェハーの位置も正しく調整することができる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の実施例を示し、第1図は位置決め装置の平
面図、第2図はカバーを外した状態の回正面図、第3図
は同右側面図、第4図は第2図のIV−mV断面図、第
5図は第1図のv−■断面図。 第6図と第7図は作動状態を示す部分正面図である。 2・・・上板、 6・・・支持台、 7・・・光電検出器。 8・・・吸着円盤。 8a・・・吸着孔、 13・・・保持部、 16・・・可動押え、 30・・・シリコンウェハー、 31・・・オリフラ。 特  許  出  願  人 株式会社メツクス 第1図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 上板上に固定されシリコンウェハーの両側部を支持する
    2つの支持台と、該支持台の間に上下動可能で且つ回転
    可能に配設され、上面に吸着孔を設け、シリコンウェハ
    ーを中心位置で支持する吸着円盤と、該支持台の間で該
    吸着円盤の周囲に上下動可能に配設され、該吸着円盤上
    の支持されたシリコンウェハーを持ち上げて上昇する際
    、シリコンウェハーの端部を押して内側に移動する可動
    押えを設けた保持部と、前記支持台の一部に取付けられ
    シリコンウェハーのオリエンテーションフラットの端部
    を検出する光電検出器と、を備えたことを特徴とするシ
    リコンウェハーの位置決め装置。
JP61216690A 1986-09-12 1986-09-12 シリコンウエハ−の位置決め装置 Granted JPS6372138A (ja)

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