JPH0225254B2 - - Google Patents
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- JPH0225254B2 JPH0225254B2 JP61216690A JP21669086A JPH0225254B2 JP H0225254 B2 JPH0225254 B2 JP H0225254B2 JP 61216690 A JP61216690 A JP 61216690A JP 21669086 A JP21669086 A JP 21669086A JP H0225254 B2 JPH0225254 B2 JP H0225254B2
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- silicon wafer
- suction disk
- orientation flat
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 54
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 54
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 58
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/136—Associated with semiconductor wafer handling including wafer orienting means
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
＜産業上の利用分野＞
シリコンウエハーを加工処理する工程等で使用
され、オリエンテーシヨンフラツト（以下オリフ
ラと略す）を基準にしてシリコンウエハーの位置
を揃えるように位置決めを行なうシリコンウエハ
ーの位置決め装置に関する。
され、オリエンテーシヨンフラツト（以下オリフ
ラと略す）を基準にしてシリコンウエハーの位置
を揃えるように位置決めを行なうシリコンウエハ
ーの位置決め装置に関する。
＜従来の技術＞
シリコンウエハーを加工処理或は測定する工程
などにおいて、加工処理装置等にシリコンウエハ
ーをロボツト等を使用して搬入する際、シリコン
ウエハーに設けられたフラツトな切欠部であるオ
リフラを基準にしてこのウエハーを位置決めする
必要がある。
などにおいて、加工処理装置等にシリコンウエハ
ーをロボツト等を使用して搬入する際、シリコン
ウエハーに設けられたフラツトな切欠部であるオ
リフラを基準にしてこのウエハーを位置決めする
必要がある。
このため、従来ではシリコンウエハーを回転可
能に支持し、そのウエハーの周縁部にゴムローラ
を押し当て、ゴムローラを回転駆動させることに
より、ウエハーを回わし、オリフラがゴムローラ
の箇所に達した位置でゴムローラとウエハーが離
れることを利用してこの位置でウエハーを停止さ
せ、シリコンウエハーの位置決めを行なつてい
た。
能に支持し、そのウエハーの周縁部にゴムローラ
を押し当て、ゴムローラを回転駆動させることに
より、ウエハーを回わし、オリフラがゴムローラ
の箇所に達した位置でゴムローラとウエハーが離
れることを利用してこの位置でウエハーを停止さ
せ、シリコンウエハーの位置決めを行なつてい
た。
＜発明が解決しようとする問題点＞
したがつて、シリコンウエハーが慣性で回転す
るなどしてオリフラを基準としたウエハーの位置
決めにばらつきが生じ、正確なウエハーの位置決
めができず、また、従来の位置決め装置では停止
位置が予め決められ、任意の位置でシリコンウエ
ハーを位置決めできない問題もあつた。
るなどしてオリフラを基準としたウエハーの位置
決めにばらつきが生じ、正確なウエハーの位置決
めができず、また、従来の位置決め装置では停止
位置が予め決められ、任意の位置でシリコンウエ
ハーを位置決めできない問題もあつた。
＜問題点を解決するための手段＞
本発明は、上記の問題点を解決するためになさ
れたもので、シリコンウエハーの位置を、任意の
位置に高速に且つ正確に位置決めすることができ
るシリコンウエハーの位置決め装置を提供するも
のであり、以下のように構成される。
れたもので、シリコンウエハーの位置を、任意の
位置に高速に且つ正確に位置決めすることができ
るシリコンウエハーの位置決め装置を提供するも
のであり、以下のように構成される。
すなわち、本発明のシリコンウエハーの位置決
め装置は、上板上に固定されシリコンウエハーの
両側部を支持する２つの支持台と、２つの支持台
の間に上下動可能で且つ回転可能に配設され上面
に吸着孔を設けシリコンウエハーを中心位置で支
持する吸着円盤と、支持台の一部に取付けられ、
シリコンウエハーのオリフラの端部を検出する光
電検出器と、光電検出器がシリコンウエハーのオ
リフラの端部を検出した際、吸着円盤をさらに一
定角度回転させ、そのオリフラを下記の可動押え
と対向した位置に停止させる吸着円盤回転駆動用
のステツプモータと、支持台の間で吸着円盤の周
囲において上下動可能に配設され、吸着円盤上の
シリコンウエハーを持ち上げて保持する保持部
と、を備え、保持部上にはシリコンウエハーの端
部に当接する端部押えと可動押えが設けられ、可
動押えは、保持部の上昇時、シリコンウエハーの
オリエンテーシヨンフラツトを端部押えの方向に
押して移動するように構成される。
め装置は、上板上に固定されシリコンウエハーの
両側部を支持する２つの支持台と、２つの支持台
の間に上下動可能で且つ回転可能に配設され上面
に吸着孔を設けシリコンウエハーを中心位置で支
持する吸着円盤と、支持台の一部に取付けられ、
シリコンウエハーのオリフラの端部を検出する光
電検出器と、光電検出器がシリコンウエハーのオ
リフラの端部を検出した際、吸着円盤をさらに一
定角度回転させ、そのオリフラを下記の可動押え
と対向した位置に停止させる吸着円盤回転駆動用
のステツプモータと、支持台の間で吸着円盤の周
囲において上下動可能に配設され、吸着円盤上の
シリコンウエハーを持ち上げて保持する保持部
と、を備え、保持部上にはシリコンウエハーの端
部に当接する端部押えと可動押えが設けられ、可
動押えは、保持部の上昇時、シリコンウエハーの
オリエンテーシヨンフラツトを端部押えの方向に
押して移動するように構成される。
したがつて、先ず、支持台上に載置されたシリ
コンウエハーを吸着円盤で吸着して少し持ち上
げ、吸着円盤を回転させながら、支持台上に設け
た光電検出器によりオリフラの端部を検出し、こ
のオリフラを検出した位置を基準としてさらに吸
着円盤を一定角度だけ回転させてシリコンウエハ
ーのオリフラ位置を所定位置に合わせることがで
き、任意の位置にオリフラが向くようにウエハー
を位置決めできる。また、保持部の可動押えによ
りシリコンウエハーの位置も一定位置に正確に合
わせることができる。
コンウエハーを吸着円盤で吸着して少し持ち上
げ、吸着円盤を回転させながら、支持台上に設け
た光電検出器によりオリフラの端部を検出し、こ
のオリフラを検出した位置を基準としてさらに吸
着円盤を一定角度だけ回転させてシリコンウエハ
ーのオリフラ位置を所定位置に合わせることがで
き、任意の位置にオリフラが向くようにウエハー
を位置決めできる。また、保持部の可動押えによ
りシリコンウエハーの位置も一定位置に正確に合
わせることができる。
＜実施例＞
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
第１図はシリコンウエハーの位置決め装置の平
面図を示し、第２図はカバーを外した状態の同正
面図を示している。底板１の上に２本の固定シヤ
フト３と２本の固定フレーム４，５を介して上板
２が水平に固定され、上板２の上には左右に同じ
形状の支持台６が固定される。支持台６上にはシ
リコンウエハー３０の側部を定位置に支持するよ
うに、弓形の凹部が形成され、右側の支持台６の
中央に光電検出器７が設けられる。この光電検出
器７は支持台６上に載置されたシリコンウエハー
３０のオリフラ３１の端部を検出するもので、例
えば投光素子と受光素子とからなり、支持台６上
にシリコンウエハー３０が載置されている場合、
そこからの反射光を受光素子が受光し、ウエハー
が回わりそのオリフラ３１のエツジが、光電検出
器７の位置に達したとき、その反射光が消えるこ
とによりオリフラ３１を検出する。
面図を示し、第２図はカバーを外した状態の同正
面図を示している。底板１の上に２本の固定シヤ
フト３と２本の固定フレーム４，５を介して上板
２が水平に固定され、上板２の上には左右に同じ
形状の支持台６が固定される。支持台６上にはシ
リコンウエハー３０の側部を定位置に支持するよ
うに、弓形の凹部が形成され、右側の支持台６の
中央に光電検出器７が設けられる。この光電検出
器７は支持台６上に載置されたシリコンウエハー
３０のオリフラ３１の端部を検出するもので、例
えば投光素子と受光素子とからなり、支持台６上
にシリコンウエハー３０が載置されている場合、
そこからの反射光を受光素子が受光し、ウエハー
が回わりそのオリフラ３１のエツジが、光電検出
器７の位置に達したとき、その反射光が消えるこ
とによりオリフラ３１を検出する。
さらに、上板２上には吸着円盤８が上板を貫通
して上方に突出した回転シヤフト９上に固定され
て配設され、吸着円盤８上面に吸着孔８ａが穿設
されこれらの吸着孔８ａは内部で図示しない吸気
通路と接続される。回転シヤフト９は上板２の下
側に位置する上下動ブロツク１０内に回転可能に
挿通され、上下動ブロツク１０と共に上下動す
る。上下動ブロツク１０に２本の固定シヤフト３
が貫通し、上下動ブロツク１０はこの２本の固定
シヤフト３をガイド軸として後述するカムの作動
により上下駆動される。また、上下動ブロツク１
０の側部に取付ブラケツトを介して吸着円盤回転
駆動用のステツプモータ１１が取付けられ、ステ
ツプモータ１１の回転軸はウオーム１２とウオー
ムホイールを介して回転シヤフト９に連結され
る。
して上方に突出した回転シヤフト９上に固定され
て配設され、吸着円盤８上面に吸着孔８ａが穿設
されこれらの吸着孔８ａは内部で図示しない吸気
通路と接続される。回転シヤフト９は上板２の下
側に位置する上下動ブロツク１０内に回転可能に
挿通され、上下動ブロツク１０と共に上下動す
る。上下動ブロツク１０に２本の固定シヤフト３
が貫通し、上下動ブロツク１０はこの２本の固定
シヤフト３をガイド軸として後述するカムの作動
により上下駆動される。また、上下動ブロツク１
０の側部に取付ブラケツトを介して吸着円盤回転
駆動用のステツプモータ１１が取付けられ、ステ
ツプモータ１１の回転軸はウオーム１２とウオー
ムホイールを介して回転シヤフト９に連結され
る。
上板２上における吸着円盤８の周囲で２つの支
持台６の間に保持部１３が上板２上に突出した２
本の摺動シヤフト１７の上に固定される。この保
持部１３は、水平板状の保持部本体１４と、保持
部本体１４の後部に固定された端部押え１５と、
保持部本体１４の前部に可動的に取付けられた可
動押え１６とからなり、吸着円盤８上のシリコン
ウエハー３０を持ち上げ、同時に端部押え１５と
可動押え１６との間にウエハーを挾むように保持
する構造である。保持部本体１４は上板２を貫通
し上方に突出した２本の摺動シヤフト１７上に固
定される。可動押え１６上には先端に２本のピン
１６ａがシリコンウエハー３０の端部を押すよう
に立設され、可動押え１６は、第５図に示すよう
に、保持部本体１４の下側に出入り可能に構成さ
れ、保持部本体１４の下側に軸受を介して水平摺
動可能に支持された２本のロツド１８の先端に可
動押え１６が固定され、ロツド１８の末端部にロ
ツドつまり可動押え１６を内側に付勢するコイル
ばね１９が外嵌される。さらに、可動押え１６の
下側には略三角形のカム板２０が縦に固定され、
上板２の端部にカムフオロワ２１が設けられ、摺
動シヤフト１７の上昇により保持部１３が上昇す
ると、可動押え１６はカム板２０の作用により上
昇しながら内側へ動く。
持台６の間に保持部１３が上板２上に突出した２
本の摺動シヤフト１７の上に固定される。この保
持部１３は、水平板状の保持部本体１４と、保持
部本体１４の後部に固定された端部押え１５と、
保持部本体１４の前部に可動的に取付けられた可
動押え１６とからなり、吸着円盤８上のシリコン
ウエハー３０を持ち上げ、同時に端部押え１５と
可動押え１６との間にウエハーを挾むように保持
する構造である。保持部本体１４は上板２を貫通
し上方に突出した２本の摺動シヤフト１７上に固
定される。可動押え１６上には先端に２本のピン
１６ａがシリコンウエハー３０の端部を押すよう
に立設され、可動押え１６は、第５図に示すよう
に、保持部本体１４の下側に出入り可能に構成さ
れ、保持部本体１４の下側に軸受を介して水平摺
動可能に支持された２本のロツド１８の先端に可
動押え１６が固定され、ロツド１８の末端部にロ
ツドつまり可動押え１６を内側に付勢するコイル
ばね１９が外嵌される。さらに、可動押え１６の
下側には略三角形のカム板２０が縦に固定され、
上板２の端部にカムフオロワ２１が設けられ、摺
動シヤフト１７の上昇により保持部１３が上昇す
ると、可動押え１６はカム板２０の作用により上
昇しながら内側へ動く。
一方、固定フレーム４にはカム駆動用のステツ
プモータ２２が固定され、その下方の固定フレー
ム４と５の間にカム軸２３が軸支され、ステツプ
モータ２２の回転軸は小歯車２４と大歯車２５を
介してカム軸２３と連結される。カム軸２３の中
間部にはカム２６が軸着され、上記の上下動ブロ
ツク１０にアームを介して固定されたカムフオロ
ワ２７がこのカム２６上に当接する。さらに、カ
ム軸２３上には別のカム２８が軸着され、上記の
２本の摺動シヤフト１７の下端に固定された連結
板にブラケツトを介して軸支されたカムフオロワ
２９がカム２８上に当接する。これらのカム２６
と２８は、ステツプモータ２２により回転駆動さ
れ、先ず、カム２６により上下動ブロツク１０を
上昇させて吸着円盤８を持ち上げ、次に、カム２
８により２本の摺動シヤフト１７を上昇させて保
持部１３を持ち上げるように形成される。
プモータ２２が固定され、その下方の固定フレー
ム４と５の間にカム軸２３が軸支され、ステツプ
モータ２２の回転軸は小歯車２４と大歯車２５を
介してカム軸２３と連結される。カム軸２３の中
間部にはカム２６が軸着され、上記の上下動ブロ
ツク１０にアームを介して固定されたカムフオロ
ワ２７がこのカム２６上に当接する。さらに、カ
ム軸２３上には別のカム２８が軸着され、上記の
２本の摺動シヤフト１７の下端に固定された連結
板にブラケツトを介して軸支されたカムフオロワ
２９がカム２８上に当接する。これらのカム２６
と２８は、ステツプモータ２２により回転駆動さ
れ、先ず、カム２６により上下動ブロツク１０を
上昇させて吸着円盤８を持ち上げ、次に、カム２
８により２本の摺動シヤフト１７を上昇させて保
持部１３を持ち上げるように形成される。
次に、上記の位置決め装置の動作を説明する。
先ず、位置決め装置は、第１図〜第５図に示す
状態つまり吸着円盤８と保持部１３が最下位の位
置で静止している。
状態つまり吸着円盤８と保持部１３が最下位の位
置で静止している。
この状態でシリコンウエハー３０が各種の搬送
装置により支持台６の上に載置される。両側の支
持台６には適用されるシリコンウエハーの径に対
応した弓形凹部が設けられているため、シリコン
ウエハー３０は正確な位置に載置されるが、その
オリフラ３１の位置はランダムである。
装置により支持台６の上に載置される。両側の支
持台６には適用されるシリコンウエハーの径に対
応した弓形凹部が設けられているため、シリコン
ウエハー３０は正確な位置に載置されるが、その
オリフラ３１の位置はランダムである。
次に、カム用のステツプモータ２２が作動し、
カム軸２３を介してカム２６を回転させ、上下動
ブロツク１０を中間位置まで上昇させる。これに
より、吸着円盤８は第６図に示すように支持台６
上に載置されたシリコンウエハー３０を少し（例
えば２mm程度）持ち上げる。この時、吸着円盤８
の吸着孔８ａから吸気が行なわれ、シリコンウエ
ハー３０は吸着円盤８上に吸着される。
カム軸２３を介してカム２６を回転させ、上下動
ブロツク１０を中間位置まで上昇させる。これに
より、吸着円盤８は第６図に示すように支持台６
上に載置されたシリコンウエハー３０を少し（例
えば２mm程度）持ち上げる。この時、吸着円盤８
の吸着孔８ａから吸気が行なわれ、シリコンウエ
ハー３０は吸着円盤８上に吸着される。
次に、回転用のステツプモータ１１が作動し、
回転シヤフト９を介して吸着円盤８を一定の方向
（例えば第１図の反時計方向）に回転させる。こ
れによりシリコンウエハー３０が支持台６のわず
か上方で回転し、この時、光電検出器７から出力
された光電信号を入力する制御回路は、シリコン
ウエハー３０が光電検出器７の上方にあつてそこ
からの反射光を受光している状態から、オリフラ
３１が光電検出器７の真上にさしかかり反射光の
受光状態が消えた時点、つまり光電検出器７がオ
リフラ３１の端部を検出した時を検知する。そし
て、制御回路は、その時点からさらに吸着円盤８
を一定角度（例えば120度）回転させ、ステツプ
モータ１１を停止させる。
回転シヤフト９を介して吸着円盤８を一定の方向
（例えば第１図の反時計方向）に回転させる。こ
れによりシリコンウエハー３０が支持台６のわず
か上方で回転し、この時、光電検出器７から出力
された光電信号を入力する制御回路は、シリコン
ウエハー３０が光電検出器７の上方にあつてそこ
からの反射光を受光している状態から、オリフラ
３１が光電検出器７の真上にさしかかり反射光の
受光状態が消えた時点、つまり光電検出器７がオ
リフラ３１の端部を検出した時を検知する。そし
て、制御回路は、その時点からさらに吸着円盤８
を一定角度（例えば120度）回転させ、ステツプ
モータ１１を停止させる。
これにより、吸着円盤８上のシリコンウエハー
３０はそのオリフラ３１を一定角度位置（例えば
真後）に向けた状態になる。
３０はそのオリフラ３１を一定角度位置（例えば
真後）に向けた状態になる。
続いて、吸着円盤８の吸着作用が停止され、カ
ム用のステツプモータ２２が作動することによ
り、カム軸２３を介してカム２８が回転し、この
カム２８の作用により２本の摺動シヤフト１７を
介して保持部１３が吸着円盤よりわずかに上方位
置（第７図）まで持ち上げられる。この時、第５
図に示すように保持部１３の可動押え１６はカム
板２０とコイルばね１９の作用により上昇しなが
ら内側に移動し、これにより吸着円盤８上のシリ
コンウエハー３０は可動押え１６上のピン１６ａ
によつて端部押え１５の方向に押されながら保持
部本体１４により持ち上げられ、シリコンウエハ
ー３０の前後位置が正しく合せられる。
ム用のステツプモータ２２が作動することによ
り、カム軸２３を介してカム２８が回転し、この
カム２８の作用により２本の摺動シヤフト１７を
介して保持部１３が吸着円盤よりわずかに上方位
置（第７図）まで持ち上げられる。この時、第５
図に示すように保持部１３の可動押え１６はカム
板２０とコイルばね１９の作用により上昇しなが
ら内側に移動し、これにより吸着円盤８上のシリ
コンウエハー３０は可動押え１６上のピン１６ａ
によつて端部押え１５の方向に押されながら保持
部本体１４により持ち上げられ、シリコンウエハ
ー３０の前後位置が正しく合せられる。
そして、さらにカム用のステツプモータ２２が
連続して作動し、カム２６，２８が連続して回転
することにより、保持部１３が上昇端から下降を
始め、吸着円盤８も下降を行ない、第１図〜第５
図に示す最初の位置に各部材が戻つた時、ステツ
プモータ２２は停止する。これにより保持部１３
上に保持されていたシリコンウエハー３０は位置
合せされた状態で支持台６の上に降され、この回
のシリコンウエハー３０の位置決めが終了する。
連続して作動し、カム２６，２８が連続して回転
することにより、保持部１３が上昇端から下降を
始め、吸着円盤８も下降を行ない、第１図〜第５
図に示す最初の位置に各部材が戻つた時、ステツ
プモータ２２は停止する。これにより保持部１３
上に保持されていたシリコンウエハー３０は位置
合せされた状態で支持台６の上に降され、この回
のシリコンウエハー３０の位置決めが終了する。
そして、一定の角度位置例えば真後にオリフラ
３１を合わせた状態のシリコンウエハー３０は、
ロボツト等の搬送装置により、そのまま下降処理
装置或は測定装置などのステージに送られる。
３１を合わせた状態のシリコンウエハー３０は、
ロボツト等の搬送装置により、そのまま下降処理
装置或は測定装置などのステージに送られる。
＜発明の効果＞
以上説明したように、本発明のシリコンウエハ
ーの位置決め装置によれば、支持台上に載置され
たシリコンウエハーを吸着円盤で吸着して少し持
ち上げ、吸着円盤を回転させながら、支持台上に
設けた光電検出器によりオリフラの端部を検出
し、このオリフラを検出した位置を基準としてさ
らに吸着円盤を一定角度だけ回転させてシリコン
ウエハーのオリフラ位置を所定位置に合わせるよ
うに構成したから、任意の位置にオリフラが向く
ようにシリコンウエハーを位置決めすることがで
きる。また、オリフラの位置を位置決めした後、
吸着円盤上のシリコンウエハーをもう一度保持部
で持ち上げながら一方から押して位置決めを行な
い、支持台の上に降すため、シリコンウエハーの
位置も正しく調整することができる。
ーの位置決め装置によれば、支持台上に載置され
たシリコンウエハーを吸着円盤で吸着して少し持
ち上げ、吸着円盤を回転させながら、支持台上に
設けた光電検出器によりオリフラの端部を検出
し、このオリフラを検出した位置を基準としてさ
らに吸着円盤を一定角度だけ回転させてシリコン
ウエハーのオリフラ位置を所定位置に合わせるよ
うに構成したから、任意の位置にオリフラが向く
ようにシリコンウエハーを位置決めすることがで
きる。また、オリフラの位置を位置決めした後、
吸着円盤上のシリコンウエハーをもう一度保持部
で持ち上げながら一方から押して位置決めを行な
い、支持台の上に降すため、シリコンウエハーの
位置も正しく調整することができる。
図は本発明の実施例を示し、第１図は位置決め
装置の平面図、第２図はカバーを外した状態の同
正面図、第３図は同右側面図、第４図は第２図の
−断面図、第５図は第１図の−断面図、
第６図と第７図は作動状態を示す部分正面図であ
る。 ２……上板、６……支持台、７……光電検出
器、８……吸着円盤、８ａ……吸着孔、１３……
保持部、１６……可動押え、３０……シリコンウ
エハー、３１……オリフラ。
装置の平面図、第２図はカバーを外した状態の同
正面図、第３図は同右側面図、第４図は第２図の
−断面図、第５図は第１図の−断面図、
第６図と第７図は作動状態を示す部分正面図であ
る。 ２……上板、６……支持台、７……光電検出
器、８……吸着円盤、８ａ……吸着孔、１３……
保持部、１６……可動押え、３０……シリコンウ
エハー、３１……オリフラ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 上板上に固定されシリコンウエハーの両側部
を支持する２つの支持台と、 該支持台の間に上下動可能で且つ回転可能に配
設され、上面に吸着孔を設け、シリコンウエハー
を中心位置で支持する吸着円盤と、 該支持台の一部に取付けられ、シリコンウエハ
ーのオリエンテーシヨンフラツトの端部を検出す
る光電検出器と、 該光電検出器がシリコンウエハーのオリエンテ
ーシヨンフラツトの端部を検出した際、該吸着円
盤をさらに一定角度回転させ、該オリエンテーシ
ヨンフラツトを下記の可動押えと対向した位置に
停止させる吸着円盤回転駆動用のステツプモータ
と、 該支持台の間で該吸着円盤の周囲において上下
動可能に配設され、該吸着円盤上のシリコンウエ
ハーを持ち上げて保持する保持部と、 を備え、 該保持部上にはシリコンウエハーの端部に当接
する端部押えと可動押えが設けられ、該可動押え
は、該保持部の上昇時、シリコンウエハーのオリ
エンテーシヨンフラツトを該端部押えの方向に押
して移動するように構成されたことを特徴とする
シリコンウエハーの位置決め装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61216690A JPS6372138A (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | シリコンウエハ−の位置決め装置 |
| US07/071,958 US4770600A (en) | 1986-09-12 | 1987-07-10 | Apparatus for positioning silicon wafer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61216690A JPS6372138A (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | シリコンウエハ−の位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6372138A JPS6372138A (ja) | 1988-04-01 |
| JPH0225254B2 true JPH0225254B2 (ja) | 1990-06-01 |
Family
ID=16692395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61216690A Granted JPS6372138A (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | シリコンウエハ−の位置決め装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4770600A (ja) |
| JP (1) | JPS6372138A (ja) |
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1986
- 1986-09-12 JP JP61216690A patent/JPS6372138A/ja active Granted
-
1987
- 1987-07-10 US US07/071,958 patent/US4770600A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4770600A (en) | 1988-09-13 |
| JPS6372138A (ja) | 1988-04-01 |
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