JPS6240847B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6240847B2
JPS6240847B2 JP58229911A JP22991183A JPS6240847B2 JP S6240847 B2 JPS6240847 B2 JP S6240847B2 JP 58229911 A JP58229911 A JP 58229911A JP 22991183 A JP22991183 A JP 22991183A JP S6240847 B2 JPS6240847 B2 JP S6240847B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
stage
rollers
orientation flat
roller
Prior art date
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Expired
Application number
JP58229911A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59139626A (ja
Inventor
Atsushi Fujisawa
Kyoshi Yoshida
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP58229911A priority Critical patent/JPS59139626A/ja
Publication of JPS59139626A publication Critical patent/JPS59139626A/ja
Publication of JPS6240847B2 publication Critical patent/JPS6240847B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3435Target holders (includes backing plates and endblocks)

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はウエーハの自動アライメント方法に関
する。
半導体装置の製造においては薄い半導体板(ウ
エーハ)が使用されている。このウエーハは円形
の周縁の一部が直線的に切断された位置合せ用の
オリエンテーシヨンフラツト(オリフラ面)を有
している。
ところで、前記ウエーハに半導体素子領域や配
線等のパターンを形成する際、すでにウエーハ上
に形成されたパターンの位置と新たに形成するパ
ターンの位置との関係を保つため、ウエーハとマ
スクとを正確に位置合せ(アライメント)する必
要がある。従来、自動アライメント装置(自動ア
ライナ)にあつては、マスクとウエーハの位置合
せを行なう場合、固定されたマスクに対し、ウエ
ーハの位置を自動的に検出してアライメントして
いるが自動的にアライメントできるウエーハの稼
動範囲は限定されるため、あらかじめ、ウエーハ
の予備位置合せ(プリアライメント)を行なつて
いる。
この予備位置合せ機構の1つとしてつぎのよう
なものが知られている。すなわち、ウエーハを自
動アライメント装置の水平状態に保たれたステー
ジ上に載置した後、ステージを傾けてウエーハの
自重で一方へ片寄せる。ウエーハが自重で片寄つ
たステージ周縁にはほぼ直線的に近接して並んだ
3個の回転するローラと、これら3つのローラが
配設されたステージ周縁部から離れた位置のステ
ージ周縁に設けられる1つのローラとが配設され
ている。前記3個のローラはほぼ一直線上に並ん
でいるが、中央のローラのステージ周縁に近い外
周端が両端のローラのステージ周縁側に近い共通
接線よりもステージ周縁からわずかに遠く位置す
るように配設されている。そして、両端のローラ
はそれぞれ異なる方向に同一速度で回転するとと
もに、中央のローラは上記両端のローラのうちど
ちらか一方と同一方向に回転するようになつてい
る。ウエーハのオリエンテーシヨンフラツト部以
外の部分、すなわち円弧状の周面が前記3個のロ
ーラに接触すると、ウエーハは中央のローラとそ
れと同一方向に回転する両端のローラのうちどち
らか一方のローラとの二つのローラによつてウエ
ーハは二つのローラの回転方向と反対の方向に回
転する。そして、オリフラ面がこれら3個のロー
ラに達すると、中央のローラは両端のローラより
も引つ込んでいることからオリフラ面には接触せ
ず、オリフラ面には両端のローラが接する。しか
し、これらのローラは互いに異なる方向に回転し
ていてしかも等速であることから、ウエーハ周面
に加わる回転力は両者ともに打ち消し合うために
ウエーハは回転しない。また、この状態のとき
に、他のこれら3つのローラとは独立して配設さ
れている他のローラ面にウエーハのオリフラ面以
外の周縁がウエーハの自重によつてのみ接触する
ことにより、ウエーハのマスクに対する位置合せ
方向と位置が決定される。そこで、ステージに内
蔵されている真空吸着機構からなる保持機構が動
作してウエーハをステージ面に吸着し、この状態
でステージは水平にもどるようになつている。そ
のあと、真空吸着を停止し、他の吸着工具例えば
ベルヌイチヤツクを自動的に操作させてステージ
上のウエーハを吸着し、自動アライナ装置の試料
台上に搬送する。
しかし、このような機構を有するアライナでは
ウエーハのオリフラ面の検出は充分であつても、
ウエーハのマスクに対する位置精度はまだ充分と
はいえない。すなわち、ウエーハを載置するステ
ージの傾斜角度のばらつきやグループ化した3個
のローラの回転による振動等によつて、ウエーハ
がステージに吸着固定されたとき、マスクに対す
るウエーハの位置がばらつくためにステージを水
平にもどして前記ベルヌイチヤツクによりウエー
ハを吸着し、試料台上に搬送、載置したときの位
置精度は低くなるという欠点がある。
したがつて、本発明の目的は、試料台上にウエ
ーハを供給したときのマスクとウエーハの位置合
せ精度を高めた自動アライメント方法を提供する
ことにある。
本発明に従うと、ウエーハは、上述のような回
転によつてそのオリフラ面がほぼ所定の位置に合
せられる。次いで、ウエーハは、オリフラ面の2
箇所に接する第1、第2突出部とオリフラ面から
離れた位置の周縁部に接する第3突出部に、プツ
シヤー機構によつて押しつけられる。これによつ
て、ウエーハは、第1乃至第3突出部によつて規
定された位置に正確に位置決めされる。
なお、特公昭49−12791号公報には、オリフラ
面が基準治具とほぼ対応するようにウエーハを置
き、その後V字面を持つような摺動可能にされか
つ横振動が与えられる治具によつてウエーハを押
し、これによつてウエーハのオリフラ面を基準治
具面に合せる技術が示されている。この技術の場
合、ウエーハの横方向位置は、摺動可能な上記治
具によつて決定されること、及びかかる治具に横
振動を加えるようにすることに応じてかかる治具
の位置精度を向上させることが困難となつてくる
ことから、高い精度をもつて決定することが困難
となつてくる。本発明に従う場合、上記第1、第
2突出部によつてオリフラ面が規定されかつ第3
突出部によつて周縁部位置が規定されるので、ウ
エーハの位置を著しく良好に規定することができ
る。
以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
第1図〜第4図は本発明によるウエーハの自動
アライメント方法の一実施例を示す。
第1図は装置の要部平面図である。同図に示す
ように、2は一部が直線的に切り欠かれたオリエ
ンテーシヨンフラツト(オリフラ面)1を有する
円板上のウエーハである。3はウエーハ2を載置
するステージであつてウエーハ2よりも大きな円
板状のものである。このステージ3は第2図およ
び第3図で示すように、その下面にこれと一体的
に形成された支持ブロツク4に軸受5を介して取
り付けた支持ピン6を中心に揺動し、傾斜可能と
なつている。支持ピン6は取付台33に固定され
ている。傾斜動作は、ステージ3の下面側に配設
された移動子7の上下動と、常にこの移動子7に
ステージ3の下面が接触するように作用する圧縮
コイルばね8とによつて起きる。すなわち、前記
移動子7はエアーシリンダ機構9内に形成されエ
アーの注入によつて上昇しステージ3を押し上げ
てステージ3を水平にするとともに、エアーシリ
ンダ機構9のエアーの排気による圧縮コイルばね
8の復元力によつて傾斜する。なお、ステージ3
の圧縮コイルばね8取付部の近傍にはストツパ1
0が配設され、前記移動子7の上昇によるステー
ジ3の上昇時、ステージ3の下面がこのストツパ
10に当たり、ステージ3は水平を保持するよう
になつている。
また、前記ステージ3の周縁部には切欠部11
が形成されている。そしてこの切欠部11にはス
テージ3が傾斜した際、自重によりステージ3上
をすべりおちてくるウエーハ2の周縁を支えるよ
うに3個の回転するローラ12,13,14が配
設されている。これらローラ12,13,14は
ウエーハ2周縁の曲率よりも大きな曲率の曲線上
に配設されるとともに、両端側のローラ12,1
4間の距離はウエーハ2のオリフラ面1の長さよ
りも短かくなるように配設されている。また、中
央のローラ13は両側のローラ12,14の共通
接線よりもステージ3の外方にxだけ引つ込んで
いる。また、これら3個のローラ12,13,1
4とは別の位置にローラ15がステージ3上に一
体的に配設されている。ウエーハ2のオリフラ面
1が両端のローラ12,14に接触し、ウエーハ
2のオリフラ面以外の周縁がローラ15に接触す
ることによつてウエーハ2のマスクに対する位置
合せ方向および位置決めが行なわれる。また、ウ
エーハ2のオリフラ面の1部分が3個のローラ1
2,13,14から外れた位置にある場合は、ウ
エーハ2の周縁はローラ12,13,14,15
に接触、あるいはローラ15と中央のローラ13
とに接触するようになつている。
一方、前記ローラ12,13,14のうちロー
ラ13,14は一本のベルト16で同一方向、す
なわち、右回転されるようになつており、これに
よつてウエーハを左回転させるようになつてい
る。また、ローラ12は前記ベルト16の外周面
に接触するように配設されている。したがつて前
記2つのローラ13,14とは逆の方向、すなわ
ち左回転するようになつている。また、ベルト1
6はプーリ17に巻き付けられ、このプーリ17
は駆動ベルト18を介してモータ19の回転軸2
0に固定された駆動プーリ21によつて回転され
るようになつている。
他方、ステージ3が水平状態になつた際、ウエ
ーハ2の位置を規定するためのベアリングからな
るストツパ22が取付板31に下向きに2個配設
されている。すなわち、第1図に示すように、前
記切欠部11に臨むローラ12,14のほぼ真上
に1個ずつ、それぞれ設けられている。また、前
記独立ローラ15もストツパとして用いる。また
これらのストツパ22にウエーハ2の周縁を接触
させるように、これらストツパ22が設けられる
位置の反対側ステージ周縁にはプツシヤ機構23
が配設されている。このプツシヤ機構23は第4
図で詳細を示すように、ステージ3に下面に設け
られたエアシリンダ機構24のロツド25の先端
でピン26で支持されるブロツク27を揺回動す
るようになつている。また、ブロツク27の上端
には回転可能なローラ28が取り付けられ、ステ
ージ3が水平になつた状態のときでかつウエーハ
の位置決めの時だけロツド25に押されてステー
ジに向かい、ウエーハ2の周面に臨むようになつ
ている。つまりプツシヤ機構23、シリンダ機構
24ともステージ3の下面に配設されており、捩
りコイルばね29により、ローラ28がステージ
中心から遠去かつている場合にはローラ28の上
端はステージ3の上面より下方になる。
さらに、前記ステージ3上面にはウエーハ2を
真空吸着するための吸着孔30が設けられてい
る。
つぎに、ウエーハの位置決め動作について第2
図をもとに説明する。まず、ウエーハ2をステー
ジ3上に載置させ、ステージ3を傾斜させるとと
もにモータ19を駆動させる。するとベルト16
を介してローラ12,13,14は回転する。こ
の際、3個のローラ部分にウエーハ2のオリフラ
面1が臨んでいない場合には、ウエーハ2のオリ
フラ面以外の周縁はローラ12,13,14,1
5の全てに接触するか、あるいは独立のローラ1
5と中央のローラ13とに接触する。そして、単
に中央のローラ13に接触している場合は勿論で
あるが、3個のローラ12,13,14に接して
いる場合にも2つのローラ12,14は回転方向
が逆でかつ等速であるからウエーハに与える力は
互いに打ち消し合うため、ウエーハは中央のロー
ラ13から受ける回転力で左回転する。そして、
オリフラ面が切欠部11に配設されたローラ1
2,13,14に臨むと、ローラ13は両端のロ
ーラ12,14よりもxだけ引つ込んでいること
から、ウエーハのオリフラ面には接触しない。そ
こでウエーハは回転を停止する。このとき、ウエ
ーハはそのオリフラ面が2つのローラ12,14
によつて支持され、他の周縁がローラ15により
支持されることから、ウエーハのマスクに対する
位置合せと位置が決定される。
つぎに、ステージ3の真空吸着機構が作動して
吸着孔30を介してステージ3にウエーハ2を真
空吸着する。そのあと移動子7が上昇し、ステー
ジ3は水平に戻る。この際、ステージ3にウエー
ハ2を真空吸着していないと、ステージが水平に
移る段階でストツパ22の下面とローラ12,1
4の上面との隙間32(第3図)にウエーハのオ
リフラ面の一部がすべり込む。ウエーハのオリフ
ラ面の一部が隙間32にすべり込んだ状態でさら
にステージが上昇すると、位置決め用ストツパ2
2の下端に前記オリフラ面の一部が当たり、オリ
フラ面が破損することになる。したがつて、ウエ
ーハをステージに吸着しない状態でステージを水
平にもどす場合、前記のような破損を防止するた
めウエーハがずれても、ストツパの下方にオリフ
ラ面の一部がすべり込めないような機構を設けた
方が望ましい。
つぎに、ステージ3が水平に戻ると、真空吸着
保持が解除される。そのあと、エアシリンダ機構
24が作動して、ロツド25がプツシヤ機構23
を押すことにより、ピン26を中心にしてブロツ
ク27が回転し、ブロツク27に取り付けられた
ローラ28がウエーハ2の周縁を押す。これによ
りウエーハ2は水平を保つた状態で2個のストツ
パ22と独立ローラ15とにその周面が押し付け
られてウエーハのマスクに対する位置が決定さ
れ、プリアライメントが終了する。
その後、再度吸着孔30を介してステージにウ
エーハを吸着し、ウエーハをアライメントの試料
台に搬送する吸着工具がステージ上に達し、吸着
工具にウエーハが吸着されたあと、前記吸着孔の
真空が解除され、ウエーハは吸着工具により試料
台上に搬送される。
このような実施例によれば、ウエーハのマスク
に対する位置合せ方向が決定した後すなわちオリ
フラ面の検出がされたあとに、さらにウエーハが
水平にもどつたときウエーハのマスクに対する位
置修正を行なうため、ウエーハのプリアライメン
トが正確となり、アライメントに要する時間の短
縮が図れる。
また、この実施例によれば、ローラ機構によつ
てウエーハを回転させてオリフラを検出するた
め、オリフラがどのような方向でステージ上に載
置されたとしてもオリフラを検出することができ
る。また、ウエーハに回転を与え、かつオリフラ
を検出するローラ機構と、それとは異なる位置の
ローラとにウエーハを押圧しながら位置合せをす
るため、高精度の位置合せをすることができる。
なお、本発明は前記実施例に限定されない。
たとえば、前記実施例では駆動プーリ21から
駆動ベルト18、プーリ17を介してベルト16
を回転させる方式をとつているが、これはベルト
16を直接駆動プーリ21に接続してもよい。
以上のように、本発明のウエーハの位置合せ方
法によれば、ウエーハ供給時の位置精度を高める
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明一実施例によるウエーハの自動
アライメント装置の要部平面図で、同図はステー
ジと位置決め用ストツパおよびプツシヤ機構との
関係を示す。第2図は同じく本発明の一実施例に
よる自動アライメント装置の要部平面図、第3図
は同じく本発明の一実施例による自動アライメン
ト装置の要部断面図、第4図は本発明の一実施例
による自動アライメント装置のプツシヤ機構の構
造を示す要部断面図である。 1……オリエンテーシヨンフラツト、2……ウ
エーハ、3……ステージ、4……支持ブロツク、
5……軸受、6……支持ピン、7……移動子、8
……圧縮コイルばね、9……エアーシリンダ機
構、10……ストツパ、11……切欠部、12〜
14……ローラ、15……独立ローラ、16……
ベルト、17……プーリ、18……駆動ベルト、
19……モータ、20……回転軸、21……駆動
プーリ、22……ストツパ、23……プツシヤ機
構、24……エアシリンダ機構、25……ロツ
ド、26……ピン、27……ブロツク、28……
ローラ、29……捩りコイルばね、30……吸着
孔、31……取付板、32……隙間、33……取
付台。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 周縁の一部に直線部を有する円板状ウエーハ
    の位置合せをするにあたり、前記ウエーハを回転
    させることにより前記直線部をほぼ所定の位置に
    合せた後、上記直線部の第1部分に当接可能な位
    置の第1突出部と上記直線部の第2部分に当接可
    能な位置の第2突出部と前記ウエーハの前記直線
    部から離れた周縁部に当接可能な位置の第3突出
    部に、前記ウエーハの周縁を押圧するプツシヤ機
    構によつて前記ウエーハを押圧せしめ、これによ
    つて前記第1ないし第3突出部によつて規定され
    た位置に前記ウエーハを位置決めするようにして
    なることを特徴とするウエーハの自動アライメン
    ト方法。 2 前記第1ないし第3突出部がローラからな
    り、前記プツシヤ機構が前記ウエーハの周縁部に
    当接するローラを備えてなることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載のウエーハの自動アライ
    メント方法。
JP58229911A 1983-12-07 1983-12-07 ウエ−ハの自動アライメント方法 Granted JPS59139626A (ja)

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Publications (2)

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JPS59139626A JPS59139626A (ja) 1984-08-10
JPS6240847B2 true JPS6240847B2 (ja) 1987-08-31

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69827095T2 (de) 1997-09-12 2005-03-03 Honda Giken Kogyo K.K. Antriebsvorrichtung für Hybridfahrzeug

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4912791A (ja) * 1972-03-15 1974-02-04
JPS5081070A (ja) * 1973-11-15 1975-07-01

Patent Citations (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4912791A (ja) * 1972-03-15 1974-02-04
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