JPS6362363A - 光半導体装置 - Google Patents
光半導体装置Info
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- JPS6362363A JPS6362363A JP61207210A JP20721086A JPS6362363A JP S6362363 A JPS6362363 A JP S6362363A JP 61207210 A JP61207210 A JP 61207210A JP 20721086 A JP20721086 A JP 20721086A JP S6362363 A JPS6362363 A JP S6362363A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0203—Containers; Encapsulations, e.g. encapsulation of photodiodes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、発光ダイオード、フォトダイオード等の光
半導体素子を樹脂封止してなる光半導体装置に関するも
のである。
半導体素子を樹脂封止してなる光半導体装置に関するも
のである。
一般に、光半導体装置は、発光ダイオード、フォトダイ
オード等の光半導体素子を酸無水物硬化剤を含有するエ
ポキシ樹脂組成物によって樹脂封止することにより構成
されている。しかしながら、封止樹脂と素子、リード、
リードフレームとの線膨張係数の相違により、樹脂封止
に際して、上記封止用エポキシ樹脂組成物が硬化温度か
ら室温に冷却される過程で収縮に基づくかなりの内部応
力が発生し、これにより封止樹脂や配線の損傷が生じ、
光半導体装置の信頼性の低下現象が生じている。この内
部応力の低減のためにエポキシ樹脂をゴム変性すること
が考えられる。しかしながら、このようにゴム変性する
と、封止樹脂が黄色に着色するため、光半導体装置の発
光、受光特性が著しく阻害されるようになる。したがっ
て、実用化は不可能である。
オード等の光半導体素子を酸無水物硬化剤を含有するエ
ポキシ樹脂組成物によって樹脂封止することにより構成
されている。しかしながら、封止樹脂と素子、リード、
リードフレームとの線膨張係数の相違により、樹脂封止
に際して、上記封止用エポキシ樹脂組成物が硬化温度か
ら室温に冷却される過程で収縮に基づくかなりの内部応
力が発生し、これにより封止樹脂や配線の損傷が生じ、
光半導体装置の信頼性の低下現象が生じている。この内
部応力の低減のためにエポキシ樹脂をゴム変性すること
が考えられる。しかしながら、このようにゴム変性する
と、封止樹脂が黄色に着色するため、光半導体装置の発
光、受光特性が著しく阻害されるようになる。したがっ
て、実用化は不可能である。
上記のように、エポキシ樹脂をゴム変性することは実用
上不可能であるが、それに変えてシリコーン樹脂を用い
てエポキシ樹脂を変性し、内部応力を低下させることも
検討されている。しかしながら、シリコーン樹脂はエポ
キシ樹脂との相溶性が悪いため、その変性のためには、
エポキシ基と反応する反応基をもったシリコーン樹脂と
エポキシ樹脂とを高温で長時間反応させ、エポキシ樹脂
をシリコーン変性する必要がある。しかしながら、この
ようにすると、変性時の高温のため生成変性物が著しく
着色し全体が黄色ないし赤色を帯びるようになるため、
無色透明性を要求される光半導体素子の封止樹脂に利用
するには難点がある。
上不可能であるが、それに変えてシリコーン樹脂を用い
てエポキシ樹脂を変性し、内部応力を低下させることも
検討されている。しかしながら、シリコーン樹脂はエポ
キシ樹脂との相溶性が悪いため、その変性のためには、
エポキシ基と反応する反応基をもったシリコーン樹脂と
エポキシ樹脂とを高温で長時間反応させ、エポキシ樹脂
をシリコーン変性する必要がある。しかしながら、この
ようにすると、変性時の高温のため生成変性物が著しく
着色し全体が黄色ないし赤色を帯びるようになるため、
無色透明性を要求される光半導体素子の封止樹脂に利用
するには難点がある。
この発明は、このような事情に鑑みなされたもので、信
頼性が高く、しかも発光、受光特性に優れた光半導体装
置の提供をその目的とする。
頼性が高く、しかも発光、受光特性に優れた光半導体装
置の提供をその目的とする。
上記の目的を達成するため、この発明の光半導体装置は
、下記の(A)および(B)成分を含有するエポキシ樹
脂組成物を用いて半導体素子を封止するという構成をと
る。
、下記の(A)および(B)成分を含有するエポキシ樹
脂組成物を用いて半導体素子を封止するという構成をと
る。
(A)エポキシ樹脂。
(B)アルコール性水酸基含有オルガノポリシロキサン
によって部分的に開環エステル化された酸無水物からな
る酸無水物系硬化剤。
によって部分的に開環エステル化された酸無水物からな
る酸無水物系硬化剤。
すなわち、本発明者らは、内部応力が小さく、しかも無
色透明性に優れた封止樹脂を形成しうるエポキシ樹脂組
成物の開発のために一連の研究を重ねた結果、アルコー
ル性水酸基含有オルガノポリシロキサンと酸無水物とが
容易に反応して無色透明な部分エステル化酸無水物を形
成し、これをエポキシ樹脂の硬化剤として使用すると内
部応力が小さく、しかも無色透明性に優れたエポキシ樹
脂硬化物が得られることを見いだしこの発明に到達した
。
色透明性に優れた封止樹脂を形成しうるエポキシ樹脂組
成物の開発のために一連の研究を重ねた結果、アルコー
ル性水酸基含有オルガノポリシロキサンと酸無水物とが
容易に反応して無色透明な部分エステル化酸無水物を形
成し、これをエポキシ樹脂の硬化剤として使用すると内
部応力が小さく、しかも無色透明性に優れたエポキシ樹
脂硬化物が得られることを見いだしこの発明に到達した
。
この発明の光半導体装置は、上記の(A)および(B)
成分を含有するエポキシ樹脂組成物を用いることによっ
て得られる。
成分を含有するエポキシ樹脂組成物を用いることによっ
て得られる。
上記(A)成分となるエポキシ樹脂は、1分子中に少な
くとも1個のエポキシ基を有する従来公知のものであっ
て無色ないし極く淡色の透明なものが好ましい。例えば
、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF
型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、タレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、含複素環エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA
型エポキシ樹脂、芳香族・脂肪族もしくは脂環式カルボ
ン酸のグリシジルエステル型エポキシ樹脂、スピロ環含
有エポキシ樹脂等があげられる。
くとも1個のエポキシ基を有する従来公知のものであっ
て無色ないし極く淡色の透明なものが好ましい。例えば
、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF
型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、タレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、含複素環エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA
型エポキシ樹脂、芳香族・脂肪族もしくは脂環式カルボ
ン酸のグリシジルエステル型エポキシ樹脂、スピロ環含
有エポキシ樹脂等があげられる。
上記(B)成分の酸無水物系硬化剤に使用されるアルコ
ール性水酸基含有オルガノポリシロキサンは、アルコー
ル性水酸基含有シリコーン樹脂であり、例えば、下記の
示性式(I)で表される上記R1およびR2についてよ
り詳しく説明すると、R1としては、メチル、エチル、
プロピル、2−エチルヘキシル、シクロヘキシル等のア
ルキル基、ビニル、アリル、シクロペンテニル等のアル
ケニル基、フェニル、ナフチル、トリル等のアリール基
およびこれらの1価炭化水素をハロゲン等で置換したも
のを例示することができる。好ましいのはアルキル基、
ビニル基およびフェニル基である。上記R2としては、
上記R1の1価炭化水素に水酸基を導入したものでよく
、メチロール基、3−ヒドロキシプロピル基等を例示す
ることができる。上記の基以外に、−CH!5CH1C
H2OH。
ール性水酸基含有オルガノポリシロキサンは、アルコー
ル性水酸基含有シリコーン樹脂であり、例えば、下記の
示性式(I)で表される上記R1およびR2についてよ
り詳しく説明すると、R1としては、メチル、エチル、
プロピル、2−エチルヘキシル、シクロヘキシル等のア
ルキル基、ビニル、アリル、シクロペンテニル等のアル
ケニル基、フェニル、ナフチル、トリル等のアリール基
およびこれらの1価炭化水素をハロゲン等で置換したも
のを例示することができる。好ましいのはアルキル基、
ビニル基およびフェニル基である。上記R2としては、
上記R1の1価炭化水素に水酸基を導入したものでよく
、メチロール基、3−ヒドロキシプロピル基等を例示す
ることができる。上記の基以外に、−CH!5CH1C
H2OH。
(CHz)ssclhcHzOH、(CHz)C←OH
、−cutsC)IzCHJ(CHtCHzOH)g
基等のようなイオウ、窒素を含むものであってもよい
、そして、上記式(I)において、繰返し数aは1〜2
であることが必要である。すなわち、aが1より小さい
と生成エポキシ樹脂硬化物が脆くなり、逆に上記aが2
より大きくなると生成エポキシ樹脂硬化物が白濁するよ
うになるからである。また、繰返し数すはO01〜2.
0であり、上記すが0.1よりも小さくなると相溶性が
低下して生成エポキシ樹脂硬化物が白濁するようになり
、逆に繰返し数すが1より大きくなると生成エポキシ樹
脂硬化物が脆くなるからである。
、−cutsC)IzCHJ(CHtCHzOH)g
基等のようなイオウ、窒素を含むものであってもよい
、そして、上記式(I)において、繰返し数aは1〜2
であることが必要である。すなわち、aが1より小さい
と生成エポキシ樹脂硬化物が脆くなり、逆に上記aが2
より大きくなると生成エポキシ樹脂硬化物が白濁するよ
うになるからである。また、繰返し数すはO01〜2.
0であり、上記すが0.1よりも小さくなると相溶性が
低下して生成エポキシ樹脂硬化物が白濁するようになり
、逆に繰返し数すが1より大きくなると生成エポキシ樹
脂硬化物が脆くなるからである。
上記アルコール性水酸基含有オルガノポリシロキサンと
しては、入手の容易性から、通常、下記の式(n)で表
されるものが使用される。
しては、入手の容易性から、通常、下記の式(n)で表
されるものが使用される。
上記R’、R”およびnについてより詳しく説明すると
、Rとしては、 CHzCHz 、−CHzcHzc
H2−等が例示され、R’ 、R″としては、メチル基
、フェニル基等が例示される。そして、繰返し数nは0
〜20の整数であることが必要であり、上記nが20よ
り大きくなると生成エポキシ樹脂硬化物が白濁するよう
になる。上記のようにアルコール性水酸基含有オルガノ
ポリシロキサンと反応させる酸無水物としては、無水フ
タル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水
フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルへ
キサヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ
無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水
フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、ピロメリッ
ト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、無水トリメリット酸ならびにトリメリット酸無水物
のエチレングリコールエステル等の無色ないし淡黄色の
ものを例示することができる。
、Rとしては、 CHzCHz 、−CHzcHzc
H2−等が例示され、R’ 、R″としては、メチル基
、フェニル基等が例示される。そして、繰返し数nは0
〜20の整数であることが必要であり、上記nが20よ
り大きくなると生成エポキシ樹脂硬化物が白濁するよう
になる。上記のようにアルコール性水酸基含有オルガノ
ポリシロキサンと反応させる酸無水物としては、無水フ
タル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水
フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルへ
キサヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ
無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水
フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、ピロメリッ
ト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、無水トリメリット酸ならびにトリメリット酸無水物
のエチレングリコールエステル等の無色ないし淡黄色の
ものを例示することができる。
上記酸無水物とアルコール性水酸基含有オルガノポリシ
ロキサンとの反応に際しては、上記再化合物を水酸基/
酸無水物基=0.2〜1.0(モル比)の範囲内におい
て、60〜120℃、0.5〜3時間加熱混合すること
が行われ、このようにすることにより、この発明で使用
する部分エステル化酸無水物が好適に製造される。この
ようにして得られた部分エステル化酸無水物は、無色透
明もしくは微温状である。上記の反応に際して、水酸基
の量が少なすぎると、生成部分エステル化酸無水物が白
濁するようになり、逆に多くなりすぎるとエポキシ樹脂
硬化物が柔らかくなりすぎてゴム状になるので好ましく
ない。
ロキサンとの反応に際しては、上記再化合物を水酸基/
酸無水物基=0.2〜1.0(モル比)の範囲内におい
て、60〜120℃、0.5〜3時間加熱混合すること
が行われ、このようにすることにより、この発明で使用
する部分エステル化酸無水物が好適に製造される。この
ようにして得られた部分エステル化酸無水物は、無色透
明もしくは微温状である。上記の反応に際して、水酸基
の量が少なすぎると、生成部分エステル化酸無水物が白
濁するようになり、逆に多くなりすぎるとエポキシ樹脂
硬化物が柔らかくなりすぎてゴム状になるので好ましく
ない。
エポキシ樹脂と上記のようにして得られた部分エステル
化酸無水物との配合比は、(酸無水物のカルボン酸)/
(エポキシ基)=0.8〜1.2(モル比)の範囲内に
設定することが好適である。上記の範囲を外れると、生
成エポキシ樹脂硬化物のガラス転移温度が急激に低下し
、また場合によっては生成エポキシ樹脂硬化物が着色す
ることもあるため好ましくない。
化酸無水物との配合比は、(酸無水物のカルボン酸)/
(エポキシ基)=0.8〜1.2(モル比)の範囲内に
設定することが好適である。上記の範囲を外れると、生
成エポキシ樹脂硬化物のガラス転移温度が急激に低下し
、また場合によっては生成エポキシ樹脂硬化物が着色す
ることもあるため好ましくない。
この発明で用いるエポキシ樹脂組成物は、上記のような
エポキシ樹脂(液状)および部分エステル化酸無水物(
液状)とを混合し、必要に応じてそれ以外の配合剤を混
合することによって得られる。そして、光半導体素子の
封止はポツテング等によって行うことができ、それによ
って目的とする光半導体装置が得られるようになる。
エポキシ樹脂(液状)および部分エステル化酸無水物(
液状)とを混合し、必要に応じてそれ以外の配合剤を混
合することによって得られる。そして、光半導体素子の
封止はポツテング等によって行うことができ、それによ
って目的とする光半導体装置が得られるようになる。
以上のように、この発明の光半導体装置は、アルコール
性水酸基含有オルガノポリシロキサンによって部分的に
開環エステル化された部分エステル化酸無水物を硬化剤
として含有するエポキシ樹脂組成物によって封止されて
いるため、内部応力に起因する半導体素子特性の低下が
生じていす極めて信韻性が高い。そのうえ、封止樹脂の
透明性が高いため発光、受光特性にも優れている。
性水酸基含有オルガノポリシロキサンによって部分的に
開環エステル化された部分エステル化酸無水物を硬化剤
として含有するエポキシ樹脂組成物によって封止されて
いるため、内部応力に起因する半導体素子特性の低下が
生じていす極めて信韻性が高い。そのうえ、封止樹脂の
透明性が高いため発光、受光特性にも優れている。
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
〔実施例1〕
メチルへキサヒドロ無水フタル酸100重量部(以下「
部」と略す)と下記の式 で示されるアルコール性水酸基含有オルガノポリシロキ
サン50部とを室温で混合した。この混合によって溶液
が白濁した。つぎに、これを100℃で1時間加熱混合
した結果、透明な液状物となった。つぎに、この透明な
液状物150部と脂環式エポキシ樹脂(エポキシ当11
33.20℃における粘度4ポイズ)100部とを混合
したところ、透明均一な状態となった。これを用いポツ
テングによりGaAs発光ダイオード(LED)を封止
し、120℃で16時間放置して硬化させた、この結果
、封止樹脂は無色透明となっていた。
部」と略す)と下記の式 で示されるアルコール性水酸基含有オルガノポリシロキ
サン50部とを室温で混合した。この混合によって溶液
が白濁した。つぎに、これを100℃で1時間加熱混合
した結果、透明な液状物となった。つぎに、この透明な
液状物150部と脂環式エポキシ樹脂(エポキシ当11
33.20℃における粘度4ポイズ)100部とを混合
したところ、透明均一な状態となった。これを用いポツ
テングによりGaAs発光ダイオード(LED)を封止
し、120℃で16時間放置して硬化させた、この結果
、封止樹脂は無色透明となっていた。
このようにして得られた半導体装置について、通電輝度
劣化(Ip=25mA、20℃、150時間)を測定し
たところ、輝度の低下はみられなかった。
劣化(Ip=25mA、20℃、150時間)を測定し
たところ、輝度の低下はみられなかった。
〔実施例2〕
メチルへキサヒドロ無水フタル酸100部と、実施例1
で用いたと同様のアルコール性水酸基含有ジメチルポリ
シロキサン100部とを混合した、その結果、混合物は
白濁した。つぎに、これを100℃で0.5時間加熱混
合したところ、熱時透明、室温でも透明な液体が得られ
た。つぎに、この透明な液体200部と、実施例1で用
いたと同様の脂環式エポキシ樹脂100部とを混合した
。
で用いたと同様のアルコール性水酸基含有ジメチルポリ
シロキサン100部とを混合した、その結果、混合物は
白濁した。つぎに、これを100℃で0.5時間加熱混
合したところ、熱時透明、室温でも透明な液体が得られ
た。つぎに、この透明な液体200部と、実施例1で用
いたと同様の脂環式エポキシ樹脂100部とを混合した
。
その結果、均一な透明液が得られた。これ以降は実施例
1と同様にして半導体装置を製造した。得られた半導体
装置は封止樹脂が無色透明となっていた。そして、これ
について実施例1と同様にして輝度の劣化を調べたとこ
ろ輝度の低下はみられなかった。
1と同様にして半導体装置を製造した。得られた半導体
装置は封止樹脂が無色透明となっていた。そして、これ
について実施例1と同様にして輝度の劣化を調べたとこ
ろ輝度の低下はみられなかった。
〔実施例3〕
無水フタル酸100部と、実施例1で用いたと同様のア
ルコール性水酸基含有ジメチルポリシロキサン60部と
を混合し、これを120℃に温めながら撹拌を2時間継
続した。その結果、無色透明の液体が得られた。つぎに
、これを160部と、ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(エポキシ当量188.20℃における粘度220ボイ
ズ)100部とを混合したところ、微濁液が得られた。
ルコール性水酸基含有ジメチルポリシロキサン60部と
を混合し、これを120℃に温めながら撹拌を2時間継
続した。その結果、無色透明の液体が得られた。つぎに
、これを160部と、ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(エポキシ当量188.20℃における粘度220ボイ
ズ)100部とを混合したところ、微濁液が得られた。
この微濁液を用い、実施例1と同様にして半導体装置を
製造した。その結果、封止樹脂は無色透明になった。そ
して、得られた半導体装置を実施例1と同様にして輝度
劣化を調べた結果、輝度の低下はみられなかった。
製造した。その結果、封止樹脂は無色透明になった。そ
して、得られた半導体装置を実施例1と同様にして輝度
劣化を調べた結果、輝度の低下はみられなかった。
〔実施例4〕
メチルへキサヒドロ無水フタル酸100部と下記の式
%式%
で示されるアルコール性水酸基含有ジメチルジシロキサ
ン20部とを混合した。その結果、透明液が得られた。
ン20部とを混合した。その結果、透明液が得られた。
つぎに、これを100℃で1時間加熱混合したのち冷却
し、実施例3で用いたと同様のビスフェノールA型エポ
キシ樹脂100部と混合した。その結果、透明な混合液
が得られた。ついで、この透明な混合液を用い、実施例
1と同様にして半導体装置を製造した。得られた半導体
装置の封止樹脂は無色透明となっていた。そして、これ
について実施例1と同様にして輝度劣化を調べたところ
輝度の低下はみられなかった。
し、実施例3で用いたと同様のビスフェノールA型エポ
キシ樹脂100部と混合した。その結果、透明な混合液
が得られた。ついで、この透明な混合液を用い、実施例
1と同様にして半導体装置を製造した。得られた半導体
装置の封止樹脂は無色透明となっていた。そして、これ
について実施例1と同様にして輝度劣化を調べたところ
輝度の低下はみられなかった。
〔比較例1〕
実施例3で用いたと同様のビスフェノールA型エポキシ
樹脂100部とメチルへキサヒドロ無水フタル酸100
部および2−エチル−4−メチルイミダゾール0.4部
とを混合し、この混合液を用い実施例1と同様にして半
導体装置を製造した。
樹脂100部とメチルへキサヒドロ無水フタル酸100
部および2−エチル−4−メチルイミダゾール0.4部
とを混合し、この混合液を用い実施例1と同様にして半
導体装置を製造した。
得られた半導体装置について実施例1と同様にして輝度
劣化を調べた結果、輝度が初期の半分以下に低下した。
劣化を調べた結果、輝度が初期の半分以下に低下した。
〔比較例2〕
実施例1で用いたと同様の脂環式エポキシ樹脂100部
と実施例1で用いたと同様のアルコール性水酸基含有ジ
メチルポリシロキサン40部とを混合した。その結果、
白濁液が得られた。この白濁液を120℃で3時間加熱
したが透明にはならなかった。そして、この白濁液14
0部にメチルへキサヒドロ無水フタル酸100部を加え
混合したが、依然として白濁したままであった。つぎに
、この白濁液を用い実施例1と同様にして半導体装置を
製造した。得られた半導体装置の封止樹脂は白濁してい
た。
と実施例1で用いたと同様のアルコール性水酸基含有ジ
メチルポリシロキサン40部とを混合した。その結果、
白濁液が得られた。この白濁液を120℃で3時間加熱
したが透明にはならなかった。そして、この白濁液14
0部にメチルへキサヒドロ無水フタル酸100部を加え
混合したが、依然として白濁したままであった。つぎに
、この白濁液を用い実施例1と同様にして半導体装置を
製造した。得られた半導体装置の封止樹脂は白濁してい
た。
以上の実施例および比較例において、エポキシ樹脂およ
びそれの変性に用いる水酸基含有ポリシロキサンをA群
に、部分エステル化酸無水物の製造に用いる原料をB群
にし、これを下記の表にまとめて示した。そして、両原
料から得られた硬化物の透明性等の特性を同表に併せて
示した。
びそれの変性に用いる水酸基含有ポリシロキサンをA群
に、部分エステル化酸無水物の製造に用いる原料をB群
にし、これを下記の表にまとめて示した。そして、両原
料から得られた硬化物の透明性等の特性を同表に併せて
示した。
(以下余白)
本スチールリング法、25℃の(IF、単位kg/cd
上記の表から明らかなように、実施測高によれば内部応
力が小さく、輝度劣化の生じない優れた光半導体装置が
得られることがわかる。
上記の表から明らかなように、実施測高によれば内部応
力が小さく、輝度劣化の生じない優れた光半導体装置が
得られることがわかる。
Claims (3)
- (1)下記の(A)および(B)成分を含有するエポキ
シ樹脂組成物を用いて半導体素子を封止してなる光半導
体装置。 (A)エポキシ樹脂。 (B)アルコール性水酸基含有オルガノポリシロキサン
によつて部分的に開環エステル化された酸無水物からな
る酸無水物系硬化剤。 - (2)酸無水物系硬化剤が、下記の示性式( I )で表
されるアルコール性水酸基含有オルガノポリシロキサン
と酸無水物とを、水酸基/酸無水物基=0.2〜1.0
(モル比)の範囲内で反応させて得られたものである特
許請求の範囲第1項記載の光半導体装置。 R^1aR^2bSiO{4−a−b}/2・・・・・
・( I )〔式( I )において、R^1はR^2を除く
置換もしくは非置換の1価の炭化水素基、R^2は水酸
基を有する2価の炭化水素基、aは1〜2の正数、bは
0.1〜2.0の正数である。〕 - (3)アルコール性水酸基含有オルガノポリシロキサン
が、下記の構造式(II)で表されるものである特許請求
の範囲第1項または第2項記載の光半導体装置。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(II) 〔式(II)において、Rは2価の炭化水素基、R^1、
R^2は1価の炭化水素基、nは0〜20の整数である
。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61207210A JPS6362363A (ja) | 1986-09-03 | 1986-09-03 | 光半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61207210A JPS6362363A (ja) | 1986-09-03 | 1986-09-03 | 光半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6362363A true JPS6362363A (ja) | 1988-03-18 |
JPH0580929B2 JPH0580929B2 (ja) | 1993-11-10 |
Family
ID=16536061
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61207210A Granted JPS6362363A (ja) | 1986-09-03 | 1986-09-03 | 光半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6362363A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5107327A (en) * | 1990-07-16 | 1992-04-21 | Nitto Denko Corporation | Photosemiconductor device and epoxy resin composition for use in molding photosemiconductor |
WO2010071168A1 (ja) * | 2008-12-19 | 2010-06-24 | 日本化薬株式会社 | カルボン酸化合物及びそれを含有するエポキシ樹脂組成物 |
WO2011043400A1 (ja) * | 2009-10-06 | 2011-04-14 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸組成物およびその製造方法、ならびに該多価カルボン酸組成物を含有してなる硬化性樹脂組成物 |
JP2012001570A (ja) * | 2010-06-14 | 2012-01-05 | Nippon Steel Chem Co Ltd | エポキシシリコーン樹脂含有硬化性樹脂組成物 |
WO2012124390A1 (ja) * | 2011-03-17 | 2012-09-20 | 日産化学工業株式会社 | シリカ含有エポキシ硬化剤の製造方法 |
WO2012137837A1 (ja) * | 2011-04-07 | 2012-10-11 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸樹脂およびその組成物 |
WO2013180148A1 (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸組成物、多価カルボン酸組成物の製造方法、エポキシ樹脂用硬化剤組成物、エポキシ樹脂組成物および硬化物 |
WO2014136693A1 (ja) * | 2013-03-05 | 2014-09-12 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸組成物、エポキシ樹脂用硬化剤組成物、エポキシ樹脂組成物およびその硬化物 |
JP2017088797A (ja) * | 2015-11-16 | 2017-05-25 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸樹脂およびそれを含有する多価カルボン酸樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物、それらの硬化物並びに半導体装置 |
-
1986
- 1986-09-03 JP JP61207210A patent/JPS6362363A/ja active Granted
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0734074A1 (en) * | 1990-07-16 | 1996-09-25 | Nitto Denko Corporation | Photosemiconductor device |
US5107327A (en) * | 1990-07-16 | 1992-04-21 | Nitto Denko Corporation | Photosemiconductor device and epoxy resin composition for use in molding photosemiconductor |
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JP5580212B2 (ja) * | 2008-12-19 | 2014-08-27 | 日本化薬株式会社 | カルボン酸化合物及びそれを含有するエポキシ樹脂組成物 |
WO2011043400A1 (ja) * | 2009-10-06 | 2011-04-14 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸組成物およびその製造方法、ならびに該多価カルボン酸組成物を含有してなる硬化性樹脂組成物 |
CN102648244A (zh) * | 2009-10-06 | 2012-08-22 | 日本化药株式会社 | 多元羧酸组合物及其制造方法以及含有该多元羧酸组合物的可固化树脂组合物 |
JP5574447B2 (ja) * | 2009-10-06 | 2014-08-20 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸組成物およびその製造方法、ならびに該多価カルボン酸組成物を含有してなる硬化性樹脂組成物 |
JP2012001570A (ja) * | 2010-06-14 | 2012-01-05 | Nippon Steel Chem Co Ltd | エポキシシリコーン樹脂含有硬化性樹脂組成物 |
WO2012124390A1 (ja) * | 2011-03-17 | 2012-09-20 | 日産化学工業株式会社 | シリカ含有エポキシ硬化剤の製造方法 |
JP5948317B2 (ja) * | 2011-04-07 | 2016-07-06 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸樹脂およびその組成物 |
WO2012137837A1 (ja) * | 2011-04-07 | 2012-10-11 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸樹脂およびその組成物 |
CN103476826A (zh) * | 2011-04-07 | 2013-12-25 | 日本化药株式会社 | 多元羧酸树脂及其组合物 |
WO2013180148A1 (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸組成物、多価カルボン酸組成物の製造方法、エポキシ樹脂用硬化剤組成物、エポキシ樹脂組成物および硬化物 |
JPWO2013180148A1 (ja) * | 2012-05-31 | 2016-01-21 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸組成物、多価カルボン酸組成物の製造方法、エポキシ樹脂用硬化剤組成物、エポキシ樹脂組成物および硬化物 |
WO2014136693A1 (ja) * | 2013-03-05 | 2014-09-12 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸組成物、エポキシ樹脂用硬化剤組成物、エポキシ樹脂組成物およびその硬化物 |
JPWO2014136693A1 (ja) * | 2013-03-05 | 2017-02-09 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸組成物、エポキシ樹脂用硬化剤組成物、エポキシ樹脂組成物およびその硬化物 |
JP2017088797A (ja) * | 2015-11-16 | 2017-05-25 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸樹脂およびそれを含有する多価カルボン酸樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物、それらの硬化物並びに半導体装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0580929B2 (ja) | 1993-11-10 |
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