JPS6352676B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6352676B2 JPS6352676B2 JP16701880A JP16701880A JPS6352676B2 JP S6352676 B2 JPS6352676 B2 JP S6352676B2 JP 16701880 A JP16701880 A JP 16701880A JP 16701880 A JP16701880 A JP 16701880A JP S6352676 B2 JPS6352676 B2 JP S6352676B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoreceptors
- photoreceptor
- compound
- disazo compound
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- -1 disazo compound Chemical class 0.000 claims description 20
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 28
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000006193 diazotization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 3
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- OKVJWADVFPXWQD-UHFFFAOYSA-N difluoroborinic acid Chemical compound OB(F)F OKVJWADVFPXWQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JFGQHAHJWJBOPD-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-n-phenylnaphthalene-2-carboxamide Chemical compound OC1=CC2=CC=CC=C2C=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 JFGQHAHJWJBOPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006546 Horner-Wadsworth-Emmons reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 238000007239 Wittig reaction Methods 0.000 description 1
- SRKRSWKCLVMJRZ-UHFFFAOYSA-N [S-2].S.[SeH2].[Cd+2] Chemical compound [S-2].S.[SeH2].[Cd+2] SRKRSWKCLVMJRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920002102 polyvinyl toluene Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
本発明は新規なジスアゾ化合物に関する。
従来より電子写真法において、セレン、硫化カ
ドミウム、酸化亜鉛などの無機光導電性材料を用
いた無機感光体が広く用いられている。「電子写
真法」とは一般に光導電性の感光体をまず暗所に
てコロナ放電等により帯電せしめ、次いで像露光
を施し露光部の電荷を選択的に放電せしめ、非露
光部に静電潜像を残し、更にこの潜像をトナー等
を用いた現像手段で可視化して画像を形成する画
像形成法の一つである。このような電子写真法に
おいて用いられる感光体に要求される基本的な特
性としては(1)暗所で適当に帯電せしめられるこ
と、(2)暗所における電荷の保持性に優れ、電荷の
放電が少ないこと、(3)光感度が大で光照射によつ
て速やかに電荷が放電すること、更は機械的強
度、可撓性に優れていること等が挙げられる。 前記従来の無機感光体はいくつかの長所を持つ
ている反面様々な欠点をも又有している。例えば
現在広く用いられているセレン感光体は前記(1)〜
(3)の条件についてはかなりの程度まで満足するも
のの、機械的強度、可撓性については満足のいく
つものではない。特に最近の電子写真法において
は様々なプロセスが採られるようになつてきたこ
とから、それらのプロセスのいずれにも適合する
感光体が要求される様になつてきており、例えば
形状については可撓性のあるベルト状のものが要
求されるようになつてきているが、前記セレン感
光体は可撓性が低く、そうした形状のものとして
作成することが困難である。又セレン感光体以外
の他の無機感光体についても同様の欠点を挙げる
ことができる。 近年、これらの無機感光体の欠点を排除するた
めに種々の有機光導電性材料を用いた有機電子写
真用感光体が研究・開発され、実用に供されてい
る。例えば、支持体上にポリ―N―ビニルカルバ
ゾールと2,4,7―トリニトロフルオレン―9
―オンを含有する感光層を設けた感光体(米国特
許第3484237号公報参照)ピリリウム塩系色素で
増感したポリ―N―ビニルカルバゾール含有の感
光層を設けた感光体(特公昭48―25658号公報参
照)、有機顔料を主成分とする感光層を設けた感
光体(特開昭47―37543号公報参照)、染料と樹脂
とからなる共晶錯体を主成分とする感光層を設け
た感光体(特開昭47―10735号公報参照)などが
挙げられる。これらの有機感光体は、前記無機感
光体の機械的特性及び可撓性をある程度までは改
善したものの概して光感度が低く電子写真用感光
体としての要求を充分に満足するものではない。 一般に電子写真感光体の特性は用いる材料、製
造方法等により大いに左右されるが、とりわけ光
導電性材料に負うところが大である。その為、従
来より光導電性材料の研究は盛んに行なわれてお
り、本発明もこれに係るものである。 本発明の目的は、前記従来の感光体の光導電性
材料のもつ欠点を解決した、特に光導電性材料と
して有用な新規なジスアゾ化合物を提供すること
である。 本発明は、一般式 〔但し、Aは
ドミウム、酸化亜鉛などの無機光導電性材料を用
いた無機感光体が広く用いられている。「電子写
真法」とは一般に光導電性の感光体をまず暗所に
てコロナ放電等により帯電せしめ、次いで像露光
を施し露光部の電荷を選択的に放電せしめ、非露
光部に静電潜像を残し、更にこの潜像をトナー等
を用いた現像手段で可視化して画像を形成する画
像形成法の一つである。このような電子写真法に
おいて用いられる感光体に要求される基本的な特
性としては(1)暗所で適当に帯電せしめられるこ
と、(2)暗所における電荷の保持性に優れ、電荷の
放電が少ないこと、(3)光感度が大で光照射によつ
て速やかに電荷が放電すること、更は機械的強
度、可撓性に優れていること等が挙げられる。 前記従来の無機感光体はいくつかの長所を持つ
ている反面様々な欠点をも又有している。例えば
現在広く用いられているセレン感光体は前記(1)〜
(3)の条件についてはかなりの程度まで満足するも
のの、機械的強度、可撓性については満足のいく
つものではない。特に最近の電子写真法において
は様々なプロセスが採られるようになつてきたこ
とから、それらのプロセスのいずれにも適合する
感光体が要求される様になつてきており、例えば
形状については可撓性のあるベルト状のものが要
求されるようになつてきているが、前記セレン感
光体は可撓性が低く、そうした形状のものとして
作成することが困難である。又セレン感光体以外
の他の無機感光体についても同様の欠点を挙げる
ことができる。 近年、これらの無機感光体の欠点を排除するた
めに種々の有機光導電性材料を用いた有機電子写
真用感光体が研究・開発され、実用に供されてい
る。例えば、支持体上にポリ―N―ビニルカルバ
ゾールと2,4,7―トリニトロフルオレン―9
―オンを含有する感光層を設けた感光体(米国特
許第3484237号公報参照)ピリリウム塩系色素で
増感したポリ―N―ビニルカルバゾール含有の感
光層を設けた感光体(特公昭48―25658号公報参
照)、有機顔料を主成分とする感光層を設けた感
光体(特開昭47―37543号公報参照)、染料と樹脂
とからなる共晶錯体を主成分とする感光層を設け
た感光体(特開昭47―10735号公報参照)などが
挙げられる。これらの有機感光体は、前記無機感
光体の機械的特性及び可撓性をある程度までは改
善したものの概して光感度が低く電子写真用感光
体としての要求を充分に満足するものではない。 一般に電子写真感光体の特性は用いる材料、製
造方法等により大いに左右されるが、とりわけ光
導電性材料に負うところが大である。その為、従
来より光導電性材料の研究は盛んに行なわれてお
り、本発明もこれに係るものである。 本発明の目的は、前記従来の感光体の光導電性
材料のもつ欠点を解決した、特に光導電性材料と
して有用な新規なジスアゾ化合物を提供すること
である。 本発明は、一般式 〔但し、Aは
【式】又は
【式】
(R1は低級アルキル基、低級アルコキシル基、
ニトロ基又はハロゲン、R2はニトロ基、nは0,
1,2又は3の整数であつて、nが2又は3の整
数である場合にはR1は同一又は異なつた基のい
ずれでもよい。)を表わす。〕 で示される新規なジスアゾ化合物である。 本発明の前記ジスアゾ化合物は、一般式 (但し、Xはアニオン官能基を表わす。) で示されるテトラゾニウム塩と、一般式
ニトロ基又はハロゲン、R2はニトロ基、nは0,
1,2又は3の整数であつて、nが2又は3の整
数である場合にはR1は同一又は異なつた基のい
ずれでもよい。)を表わす。〕 で示される新規なジスアゾ化合物である。 本発明の前記ジスアゾ化合物は、一般式 (但し、Xはアニオン官能基を表わす。) で示されるテトラゾニウム塩と、一般式
【式】又は
【式】
〔但し、R1は低級アルキル基、低級アルコキ
シル基、ニトロ基又ハロゲン、R2はニトロ基、
nは0,1,2又は3の整数であつて、nが2又
は3の整数である場合には同一又は異なつた基の
いずれでもよい。〕 で示される化合物とを反応させることにより製造
することができる。 前記本発明の新規なジスアゾ化合物は常温にお
いて有色の結晶であり、その具体例を融点・元素
分析値・赤外線吸収スペクトルデータと共に下記
表―1に示した。
シル基、ニトロ基又ハロゲン、R2はニトロ基、
nは0,1,2又は3の整数であつて、nが2又
は3の整数である場合には同一又は異なつた基の
いずれでもよい。〕 で示される化合物とを反応させることにより製造
することができる。 前記本発明の新規なジスアゾ化合物は常温にお
いて有色の結晶であり、その具体例を融点・元素
分析値・赤外線吸収スペクトルデータと共に下記
表―1に示した。
【表】
【表】
【表】
【表】
本発明の新規なジスアゾ化合物は前記一般式で
示されるテトラゾニウム塩と、カツプリング成分
とを反応させることによつて得られる。テトラゾ
ニウム塩は例えば、 1,3―ビス(2―ニトロスチリル)ベンゼン を還元して、1,3―ビス(2―アミノスチリ
ル)ベンゼン を得、 更にジアゾ化することにより得ることができる。 1,3―ビス(2―ニトロスチリル)ベンゼン
はJ.Org.Chem.24,1246(1959)に記載のT.W.
CampbellらによるWittig反応あるいはJ.Am.
Chem.Soc.,83,1733(1961)に記載の
WadsworthらのいわゆるWittig―Horner反応に
より得られる。ついでこのニトロ化合物をN,N
―ジメチルホルムアミド等の有機溶媒中で鉄―塩
酸等の還元剤を用いて還元することにより1,3
―ビス(2―アミノスチリル)ベンゼンを得るこ
とができる。この還元反応は70〜120℃の反応温
度で30分〜2時間で完結する。次いで得られたジ
アミノ体のジアゾ化は、これを希塩酸、希硫酸の
ような希薄無機酸中に加え、更にこれに亜硫酸ナ
トリウム水溶液を−10℃〜10℃で添加することに
より行なわれる。このジアゾ化反応は30分〜3時
間で完結する。この場合反応混合物に例えば硼弗
化水素酸などを加えてテトラゾニウム塩として沈
澱させ、過して結晶を得ることが望ましい。次
いで、得られたテトラゾニウム塩に上記カツプリ
ング成分をテトラゾニウム塩に対して1〜10倍モ
ル、好ましくは2〜5倍モル量を添加して、カツ
プリング反応を起こす。実際には、この反応は
N,N―ジメチルホルムアミドややジメチルスル
ホキシドなどの有機溶媒にテトラゾニウム塩およ
びカツプリング成分を混合溶解しておき、これに
約−10℃〜10℃にて酢酸ナトリウム水溶液などの
アルカリ水溶液を滴下することにより行なわれ
る。反応は5分〜30分で完結し、目的とする本発
明の新規なジスアゾ化合物が得られる。 上記のようにして得られる本発明のジスアゾ化
合物は電子写真用感光体の光導電性材料として特
に有用である。従つて例えば、 (1) ジスアゾ化合物をポリエステル、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリケトン、ポリカーボネ
ート、ポリスチレン、ポリビニルトルエンなど
の適当な樹脂結合剤に、微細粒子(直径約0.05
〜5μ)として分散した層を導電性支持体上に
設けた感光体、 (2) 上記(1)の系に、さら無機光導電性材料(例え
ば公知の硫化カドミウム、硫化カドミウム―セ
レンその他)あるいは有機光導電性材料(例え
ば、公知のポリ―N―ビニルカルバゾール、ポ
リビニルピレンその他)を添加した感光体、 (3) ジスアゾ化合物の薄層(約0.05〜10μ)を導
電性支持体上に適当な方法によつて形成せし
め、さらにその上に他の光導電性物質の層を形
成せしめた積層タイプの感光体 などが、新規ジスアゾ化合物の用途例としてあげ
ることができる。このようにしてつくられた感光
体は、従来のそれに比較して何等の遜色もなく本
発明の目的を充分達成できるものである。 次に本発明の新規ジスアゾ化合物による効果を
感光体の用途例で説明する。 ポリエステル樹脂(デユポン社製、ポリエステ
ルアドヒーシブ49000)1重量部、表1に示した
化合物番号1のジスアゾ顔料1重量部及びテトラ
ヒドロフラン26重量部をボールミル中で粉砕混合
し、得られた分散液をアルミニウム蒸着したポリ
エステルフイルム上にドクタブレードを用いて塗
布し100℃で10分間乾燥して厚さ7μの感光層を持
つた感光体を得た。 次にこの感光体の感光層面に市販の静電複写紙
試験装置により+6kVのコロナ放電を20秒間行な
つて正帯電させた後、20秒間暗所に放置し、その
時の表面電位Vpo(ボルト)を測定し、ついでタ
ングステンランプから、その表面が照度20ルツク
スになるよう感光層を光照射を施し、その表面電
位がVpoの1/2になる迄の時間(秒)を求めて露
光量E1/2(ルツクス・秒)とした。その結果は
Vpo=210V、E1/2=21.5ルツクス・秒であつ
た。 以下に実施例を示す。 実施例1 (テトラゾニウム塩の製造) 水1200mlと、濃塩酸60mlとより成る希塩酸液中
へ1,3―ビス(2―アミノスチリル)ベンゼン
28.0gを加え、60℃で30分撹拌した後0℃まで冷
却した。ついでこれに亜硝酸ナトリウム13.0gを
水40mlに溶解した溶液を0〜3℃で40分を要して
滴下した。その後同温度で30分撹拌した後、水
1000mlを加え、ついで、この溶液中に42%硼弗化
水素酸50mlを添加し、析出した結晶を別、水
洗、乾燥して、44.2g(収率94.0%)のテトラゾ
ニウムジフルオロボレートの黄色結晶を得た。分
解点92℃以上、赤外線吸収スペクトル(KBr錠
剤法)は第1図に示すとおりであり、2240cm-1に
N2に基づく吸収帯が965cm-1にトランスの―CH
=CH―に基づく吸収帯が認められた。 実施例2 (ジスアゾ化合物:化合物No.1) 実施例1で得たテトラゾニウム塩3.0gとカツ
プリング成分として2―ヒドロキシ―3―ナフト
エ酸アニリド3.3gとを、冷却したN,N―ジメ
チルホルムアミド390ml中に溶解し、これに酢酸
ナトリウム1.9g及び水20mlからなる溶液を5℃
以下で1時間に亘つて滴下、冷却を中止した後、
更に室温で3時間撹拌する。その後、生成した沈
澱を取し、300mlのN,N―ジメチルホルムア
ミドで8回洗浄してから水300mlで2回洗浄する。
得られた暗赤色結晶を70℃で2mmHgの減圧下に
乾燥して表1に示した化合物No.1のジスアゾ化合
物4.8g(収率93.0%)を得た。得られたジスア
ゾ化合物の赤外線吸収スペクトルを第2図に示し
た。 実施例 3〜14 (ジスアゾ化合物:化合物No.2〜13の製造) 実施例2の化合物No.1のジスアゾ化合物の製造
においてカツプリング成分として下記表2の化合
物を用いた他は実施例2と同じ方法で表1に示し
た化合物No.2〜13のジスアゾ化合物を製造した。
示されるテトラゾニウム塩と、カツプリング成分
とを反応させることによつて得られる。テトラゾ
ニウム塩は例えば、 1,3―ビス(2―ニトロスチリル)ベンゼン を還元して、1,3―ビス(2―アミノスチリ
ル)ベンゼン を得、 更にジアゾ化することにより得ることができる。 1,3―ビス(2―ニトロスチリル)ベンゼン
はJ.Org.Chem.24,1246(1959)に記載のT.W.
CampbellらによるWittig反応あるいはJ.Am.
Chem.Soc.,83,1733(1961)に記載の
WadsworthらのいわゆるWittig―Horner反応に
より得られる。ついでこのニトロ化合物をN,N
―ジメチルホルムアミド等の有機溶媒中で鉄―塩
酸等の還元剤を用いて還元することにより1,3
―ビス(2―アミノスチリル)ベンゼンを得るこ
とができる。この還元反応は70〜120℃の反応温
度で30分〜2時間で完結する。次いで得られたジ
アミノ体のジアゾ化は、これを希塩酸、希硫酸の
ような希薄無機酸中に加え、更にこれに亜硫酸ナ
トリウム水溶液を−10℃〜10℃で添加することに
より行なわれる。このジアゾ化反応は30分〜3時
間で完結する。この場合反応混合物に例えば硼弗
化水素酸などを加えてテトラゾニウム塩として沈
澱させ、過して結晶を得ることが望ましい。次
いで、得られたテトラゾニウム塩に上記カツプリ
ング成分をテトラゾニウム塩に対して1〜10倍モ
ル、好ましくは2〜5倍モル量を添加して、カツ
プリング反応を起こす。実際には、この反応は
N,N―ジメチルホルムアミドややジメチルスル
ホキシドなどの有機溶媒にテトラゾニウム塩およ
びカツプリング成分を混合溶解しておき、これに
約−10℃〜10℃にて酢酸ナトリウム水溶液などの
アルカリ水溶液を滴下することにより行なわれ
る。反応は5分〜30分で完結し、目的とする本発
明の新規なジスアゾ化合物が得られる。 上記のようにして得られる本発明のジスアゾ化
合物は電子写真用感光体の光導電性材料として特
に有用である。従つて例えば、 (1) ジスアゾ化合物をポリエステル、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリケトン、ポリカーボネ
ート、ポリスチレン、ポリビニルトルエンなど
の適当な樹脂結合剤に、微細粒子(直径約0.05
〜5μ)として分散した層を導電性支持体上に
設けた感光体、 (2) 上記(1)の系に、さら無機光導電性材料(例え
ば公知の硫化カドミウム、硫化カドミウム―セ
レンその他)あるいは有機光導電性材料(例え
ば、公知のポリ―N―ビニルカルバゾール、ポ
リビニルピレンその他)を添加した感光体、 (3) ジスアゾ化合物の薄層(約0.05〜10μ)を導
電性支持体上に適当な方法によつて形成せし
め、さらにその上に他の光導電性物質の層を形
成せしめた積層タイプの感光体 などが、新規ジスアゾ化合物の用途例としてあげ
ることができる。このようにしてつくられた感光
体は、従来のそれに比較して何等の遜色もなく本
発明の目的を充分達成できるものである。 次に本発明の新規ジスアゾ化合物による効果を
感光体の用途例で説明する。 ポリエステル樹脂(デユポン社製、ポリエステ
ルアドヒーシブ49000)1重量部、表1に示した
化合物番号1のジスアゾ顔料1重量部及びテトラ
ヒドロフラン26重量部をボールミル中で粉砕混合
し、得られた分散液をアルミニウム蒸着したポリ
エステルフイルム上にドクタブレードを用いて塗
布し100℃で10分間乾燥して厚さ7μの感光層を持
つた感光体を得た。 次にこの感光体の感光層面に市販の静電複写紙
試験装置により+6kVのコロナ放電を20秒間行な
つて正帯電させた後、20秒間暗所に放置し、その
時の表面電位Vpo(ボルト)を測定し、ついでタ
ングステンランプから、その表面が照度20ルツク
スになるよう感光層を光照射を施し、その表面電
位がVpoの1/2になる迄の時間(秒)を求めて露
光量E1/2(ルツクス・秒)とした。その結果は
Vpo=210V、E1/2=21.5ルツクス・秒であつ
た。 以下に実施例を示す。 実施例1 (テトラゾニウム塩の製造) 水1200mlと、濃塩酸60mlとより成る希塩酸液中
へ1,3―ビス(2―アミノスチリル)ベンゼン
28.0gを加え、60℃で30分撹拌した後0℃まで冷
却した。ついでこれに亜硝酸ナトリウム13.0gを
水40mlに溶解した溶液を0〜3℃で40分を要して
滴下した。その後同温度で30分撹拌した後、水
1000mlを加え、ついで、この溶液中に42%硼弗化
水素酸50mlを添加し、析出した結晶を別、水
洗、乾燥して、44.2g(収率94.0%)のテトラゾ
ニウムジフルオロボレートの黄色結晶を得た。分
解点92℃以上、赤外線吸収スペクトル(KBr錠
剤法)は第1図に示すとおりであり、2240cm-1に
N2に基づく吸収帯が965cm-1にトランスの―CH
=CH―に基づく吸収帯が認められた。 実施例2 (ジスアゾ化合物:化合物No.1) 実施例1で得たテトラゾニウム塩3.0gとカツ
プリング成分として2―ヒドロキシ―3―ナフト
エ酸アニリド3.3gとを、冷却したN,N―ジメ
チルホルムアミド390ml中に溶解し、これに酢酸
ナトリウム1.9g及び水20mlからなる溶液を5℃
以下で1時間に亘つて滴下、冷却を中止した後、
更に室温で3時間撹拌する。その後、生成した沈
澱を取し、300mlのN,N―ジメチルホルムア
ミドで8回洗浄してから水300mlで2回洗浄する。
得られた暗赤色結晶を70℃で2mmHgの減圧下に
乾燥して表1に示した化合物No.1のジスアゾ化合
物4.8g(収率93.0%)を得た。得られたジスア
ゾ化合物の赤外線吸収スペクトルを第2図に示し
た。 実施例 3〜14 (ジスアゾ化合物:化合物No.2〜13の製造) 実施例2の化合物No.1のジスアゾ化合物の製造
においてカツプリング成分として下記表2の化合
物を用いた他は実施例2と同じ方法で表1に示し
た化合物No.2〜13のジスアゾ化合物を製造した。
【表】
【表】
第1図は実施例1で得たテトラゾニウムジフル
オロボレートの赤外線吸収スペクトルである。第
2図は実施例2で得た本発明のジスアゾ化合物No.
1の赤外線吸収スペクトルである。
オロボレートの赤外線吸収スペクトルである。第
2図は実施例2で得た本発明のジスアゾ化合物No.
1の赤外線吸収スペクトルである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔但し、Aは
【式】又は 【式】 (R1は低級アルキル基、低級アルコキシル基、
ニトロ基又はハロゲン、R2はニトロ基、nは0,
1,2又は3の整数であつて、nが2又は3の整
数である場合にはR1は同一又は異なつた基のい
ずれでもよい。)を表わす。〕 で示される新規なジスアゾ化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16701880A JPS5790057A (en) | 1980-11-26 | 1980-11-26 | Novel disazo compound and preparation of same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16701880A JPS5790057A (en) | 1980-11-26 | 1980-11-26 | Novel disazo compound and preparation of same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5790057A JPS5790057A (en) | 1982-06-04 |
JPS6352676B2 true JPS6352676B2 (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=15841855
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16701880A Granted JPS5790057A (en) | 1980-11-26 | 1980-11-26 | Novel disazo compound and preparation of same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5790057A (ja) |
-
1980
- 1980-11-26 JP JP16701880A patent/JPS5790057A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5790057A (en) | 1982-06-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6216982B2 (ja) | ||
JPS6136023B2 (ja) | ||
JPH0334503B2 (ja) | ||
JPS6126904B2 (ja) | ||
JPS6221827B2 (ja) | ||
JPS6024139B2 (ja) | 新規なトリスアゾ化合物及びその製造法 | |
JPS6352676B2 (ja) | ||
JPH0471107B2 (ja) | ||
JPS648031B2 (ja) | ||
JPS6014781B2 (ja) | 新規なジスアゾ化合物及びその製造法 | |
JPS633910B2 (ja) | ||
JPH032912B2 (ja) | ||
JPS6363594B2 (ja) | ||
JPS5838465B2 (ja) | ジスアゾ化合物及びその製造法 | |
JPS637220B2 (ja) | ||
JPS633911B2 (ja) | ||
JPH0248589B2 (ja) | Shinkinajisuazokagobutsuoyobisonoseizoho | |
JPS6214583B2 (ja) | ||
JPS6351188B2 (ja) | ||
JPS6226352B2 (ja) | ||
JPS61231052A (ja) | 新規なジスアゾ化合物及びその製造法 | |
JPS609060B2 (ja) | ジスアゾ化合物およびその製造法 | |
GB2055882A (en) | Bis-azo compounds and the preparations thereof | |
JPS6014782B2 (ja) | 新規なジスアゾ化合物及びその製造法 | |
JPS59170145A (ja) | 新規なジスアゾ化合物およびその製造方法 |