JPS63502787A - 高い遮断電圧用半導体スイツチ - Google Patents

高い遮断電圧用半導体スイツチ

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JPS63502787A
JPS63502787A JP61505373A JP50537386A JPS63502787A JP S63502787 A JPS63502787 A JP S63502787A JP 61505373 A JP61505373 A JP 61505373A JP 50537386 A JP50537386 A JP 50537386A JP S63502787 A JPS63502787 A JP S63502787A
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semiconductor
voltage
insulator
semiconductor switch
switch
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JP61505373A
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Inventor
ザウター,ヘルムート
Original Assignee
ロ−ベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
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    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 高い遮断電圧用半導体スイッチ 従来技術 本発明は請求の範囲第1項記載の上位概念による半導体スイッチに関する。サイ リスタまたはトランジスタとして構成された公知の半導体スイッチは、約5 k Vの最大遮断電圧に達する。しかし種々の使用、例えば自動車の点火電圧の分配 等には、10kVを越える遮断用には、従来は半導体スイッチは用いられなかっ た。
なぜならば公知の工学技術では、このように高い遮断電圧が実現できなかったか らである。薄膜トランジスタがこの目的には適していると思われる。なぜならば このようなトランジスタはpn接合部なしに動作し、MOS )ランジスタと同 様に、制御電圧により変化できる抵抗とみなすことができるからである。公知の 薄膜トランジスタは、基板に設けられた電極およびこれらの電極間に設けられた 、半導体材料から成るチャネルを有し、この基板の上に絶縁層が、そしてさらに 七゛ の上に基板電極が設けられている。絶縁層は、公知の薄膜工学技術で製造 され、基板の支持機能を引き受けることができないほどに薄い。また厚さは、公 知の従来技術に相応する工学技術で、経済的に採算の取れる費用によシ、大きく することが不可能である。絶縁体の厚さが小さいため、制御電極と半導体チャネ ルとの間の絶縁破壊強度もまた、前記の使用には小さすぎる( < 1 kV  )。
発明の利点 それに比較して請求範囲第1項に記載の構成要件を有する、本発明による半導体 スイッチは、ゲートと制御電極との間に設けられた絶縁層が次のような厚さを即 ち、基板として構成された絶縁層が支持機能ならびに高い絶縁破壊強度も有する ような厚さを具備するという利点を有する。この絶縁層は、セラミック、チタン 酸・クリラムまたは相応の絶縁材から構成することができる。
とくに有利なのは、絶縁層がディスクまたは環の形を有する場合である。なぜな らばそれによシ半導体チャネルおよび電極の隅での火花−およびコロナ放電の危 険が著しく低減するからである。またそれによシコン・にクトな構造も得られ、 そのさいセラミック絶縁体は従来の製造方法に相応に製造することができる。絶 縁体がディスクまたは環の形に構成されている場合には、その一方の端面に、半 導体チャネルおよびこのチャネルに隣り合うドレイン及びソース用の電極が同心 の環として設けておくことができ、他方内側の周面は制御電極を形成する。前記 の環状の構成では、ゲート絶縁体の内側のゲート電圧によね形成される電界強度 は、ドレインとソースとの間に対抗電極を形成する半導体チャネルの半導体層よ シも、望ましくない放電作用に対して、著しく感度の低いゲート金属化部分の表 面で、その最大値に達する。
図面 本発明は以下で図面に基づいて詳細に説明される。
図面は下記のとおりである。第1図は本発明により構成された半導体スイッチの 第1の実施例を、第2図は別の実施例を、第3図は環状の絶縁材を有し、この絶 縁材の端面に電極が設けられている実施例を、第4図は第3図に示された半導体 スイッチの断面を、第5図は電極が周面に設けられている環状の半導体スイッチ を、第6図は第5図に示された半導体スイッチの断面をそれぞれ示す。
第1図に示された半導体スイッチでは、基板lにルイン電極2およびソース電極 3が、ならびにゲートを形成する半導体チャネル4が設けられている。その上さ らに絶縁材として絶縁板5が設けられており、この絶縁板は半導体チャネル4お よび電極2,3に接着されている。そのさい形成されるすき間6はパテまたは接 着剤が充填されている。絶縁板5の上に設けられたゲート電極7もまた、支持機 能を有する絶縁板5に接着されている。
第2図に示された半導体スイッチでは、この支持機能は、絶縁体として用いられ る基板1によってのみ引き受けられる。ドレイン、ソース、半導体チャネへおよ びゲート電極には、第1図の相応の参照数字が与えられている。
第3図に示された環状の実施例ではドレイン2.ソース3およびゲート7が両方 の端面8および9に設けられており、そのさい半導体チャネル4はドレイン2と ソース3との間の端面8に設けられている。線lOは電界強度の経過を示す。
第4図に示された断面は第3図に示された半導体スイッチの構成を示す。
第5図に示された半導体スイッチも同様に環状に構成されているが、電極2,3 .7が外側の周面11および内側の周面12に設けられている。線13.14は 外側の周面11および内側の周面12の領域の電界強度分布の密度を示す。
第6図に、第5図に示された半導体スイッチの断面が示されている。半導体チャ ネル4は外側の周面11上に延びている。支持−および絶縁部材として、基板1 は焼結セラミック体、例えばチタン酸、2リウムから構成することができる。こ の基板は例えば0.2〜12龍の厚さにすることができる。それによシディスク または環状の半導体スイッチは高度の力学的安定性を得る。複数の半導体スイッ チを有する回路を実現するため、例えば複数の、環状の半導体スイッチを上下に ・ぞイブ状に重ね合わせて配置することができる。必要な場合には隣り合う電極 は相互に絶縁しておくことかで・きる。
本発明による半導体スイッチを用いれば、例えば機械的な回転部材を必要としな い自動車用の点火回路が実現できる。
国際調査報告 ANNEX τO’IM INTERN入τ:0NAL 5EARCHREE’ ORτ 0NrN’rELNATIONAL APPI、rcATrON No 、 PCT/DE 86100414 (SA 14815)For more  d@tail* jh/I++? ?1qia m+++4+ −

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.基板を有し、さらにドレインとソースとの間に設けられた半導体チャネルを 有し、このチャネルの上に絶縁層が設けられており、この絶縁層が制御電極を支 持するようにした高い遮断電圧用半導体スイッチにおいて、絶縁層が、0.2〜 12mmの厚さを有する絶縁体(1,5)であり、この絶縁体がまた支持部材と しても用いられていることを特徴とする、高い遮断電圧用半導体スイッチ。 2.基板(1)が絶縁体を構成する、請求の範囲第1項記載の高い遮断電圧用半 導体スイッチ。 3.絶縁体(1)がディスクまたは環の形を有し、その1つの端面(8)の上に 半導体チャネル(4)およびこの半導体チャネルに環状に隣り合う、ドレイン( 2)及びソース(3)用の電極が設けてあり、さらに対向する方の端面(9)に 制御電極(7)が設けられている、請求の範囲第1項または第2項記載の高い遮 断電圧用半導体スイッチ。 4.絶縁体(1)が環状に形成されており、外側の周面(11)に半導体チャネ ル(4)およびこの半導体チャネルに隣り合う環状のドレイン(2)及びソース (3)用の電極が設けてあり、内側の周面(12)が制御電極(7)を支持する ようにした、請求の範囲第1項または第2項記載の高い遮断電圧用半導体スイッ チ。 5.絶縁体(1)がチタン酸パリウムまたは相応のセラミック絶縁体からなる、 請求の範囲第1項から第4項1でのいずれか1項に記載の高い遮断電圧用半導体 スイッチ。 6.絶縁体(1)が隣り合う電極(2,3,7)および半導体チャネル(4)に 接着されている、請求の範囲第1項から第5項までのいずれか1項に記載の高い 遮断電圧用半導体スイッチ。 7.複数の半導体スイッチが共通の基板に設けられている、請求の範囲第1項か ら第6項までのいずれか1項に記載の高い遮断電圧用半導体スイッチ。 8.複数の環状の半導体スイッチが上下にパイプ状に重ね合わせに設けられてい る、請求の範囲第1項記載の高い遮断電圧用半導体スイッチ。
JP61505373A 1985-11-13 1986-10-15 高い遮断電圧用半導体スイツチ Pending JPS63502787A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19853540250 DE3540250A1 (de) 1985-11-13 1985-11-13 Halbleiterschalter fuer hohe sperrspannungen
DE3540250.4 1985-11-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63502787A true JPS63502787A (ja) 1988-10-13

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ID=6285883

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61505373A Pending JPS63502787A (ja) 1985-11-13 1986-10-15 高い遮断電圧用半導体スイツチ

Country Status (4)

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JP (1) JPS63502787A (ja)
KR (1) KR880701022A (ja)
DE (1) DE3540250A1 (ja)
WO (1) WO1987003141A1 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3007119A (en) * 1959-11-04 1961-10-31 Westinghouse Electric Corp Modulating circuit and field effect semiconductor structure for use therein
US3274462A (en) * 1963-11-13 1966-09-20 Jr Keats A Pullen Structural configuration for fieldeffect and junction transistors
FR1485222A (fr) * 1965-07-01 1967-06-16 Siemens Ag Dispositif à semi-conducteurs
DE2147071A1 (de) * 1971-09-21 1973-03-29 Mueser Horst Prof Dr Rer Nat Elektronischer mikroschalter

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KR880701022A (ko) 1988-04-13
DE3540250A1 (de) 1987-05-14
WO1987003141A1 (en) 1987-05-21

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