JPS6346095B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6346095B2 JPS6346095B2 JP60091124A JP9112485A JPS6346095B2 JP S6346095 B2 JPS6346095 B2 JP S6346095B2 JP 60091124 A JP60091124 A JP 60091124A JP 9112485 A JP9112485 A JP 9112485A JP S6346095 B2 JPS6346095 B2 JP S6346095B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- och
- solvent
- silica
- silanol oligomer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9112485A JPS61250032A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | シラノ−ルオリゴマ−液の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9112485A JPS61250032A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | シラノ−ルオリゴマ−液の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61250032A JPS61250032A (ja) | 1986-11-07 |
JPS6346095B2 true JPS6346095B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1988-09-13 |
Family
ID=14017773
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9112485A Granted JPS61250032A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | シラノ−ルオリゴマ−液の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61250032A (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0791509B2 (ja) * | 1985-12-17 | 1995-10-04 | 住友化学工業株式会社 | 半導体用絶縁膜形成塗布液 |
US4999397A (en) * | 1989-07-28 | 1991-03-12 | Dow Corning Corporation | Metastable silane hydrolyzates and process for their preparation |
JPH03221577A (ja) * | 1990-01-26 | 1991-09-30 | Sumitomo Chem Co Ltd | 絶縁膜形成用塗布液 |
US5332429A (en) * | 1991-05-31 | 1994-07-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for treating fluoroaluminosilicate glass |
WO1994001885A1 (en) * | 1992-07-04 | 1994-01-20 | Christopher David Dobson | A method of treating a semiconductor wafer |
BE1008724A3 (nl) * | 1994-09-27 | 1996-07-02 | Couttenier Andre | Samenstelling voor het beschermen en waterafstotend maken van een siliciumhoudend substraat. |
JP6599699B2 (ja) | 2014-12-26 | 2019-10-30 | 日東電工株式会社 | 触媒作用を介して結合した空隙構造フィルムおよびその製造方法 |
TWI691559B (zh) * | 2014-12-26 | 2020-04-21 | 日商日東電工股份有限公司 | 塗料及其製造方法 |
JP6612563B2 (ja) | 2014-12-26 | 2019-11-27 | 日東電工株式会社 | シリコーン多孔体およびその製造方法 |
JP6563750B2 (ja) * | 2014-12-26 | 2019-08-21 | 日東電工株式会社 | 塗料およびその製造方法 |
JP6604781B2 (ja) | 2014-12-26 | 2019-11-13 | 日東電工株式会社 | 積層フィルムロールおよびその製造方法 |
JP6713871B2 (ja) | 2015-07-31 | 2020-06-24 | 日東電工株式会社 | 光学積層体、光学積層体の製造方法、光学部材、画像表示装置、光学部材の製造方法および画像表示装置の製造方法 |
JP6713872B2 (ja) | 2015-07-31 | 2020-06-24 | 日東電工株式会社 | 積層フィルム、積層フィルムの製造方法、光学部材、画像表示装置、光学部材の製造方法および画像表示装置の製造方法 |
JP6892744B2 (ja) | 2015-08-24 | 2021-06-23 | 日東電工株式会社 | 積層光学フィルム、積層光学フィルムの製造方法、光学部材、および画像表示装置 |
JP7152130B2 (ja) | 2015-09-07 | 2022-10-12 | 日東電工株式会社 | 低屈折率層、積層フィルム、低屈折率層の製造方法、積層フィルムの製造方法、光学部材および画像表示装置 |
JP6615552B2 (ja) * | 2015-09-25 | 2019-12-04 | 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 | カチオン電着塗料組成物 |
EP3178884B1 (de) * | 2015-12-08 | 2018-02-07 | Evonik Degussa GmbH | Wässrige [3-(2,3-dihydroxyprop-1-oxy)propyl]silanololigomere-enthaltende zusammensetzung, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3842110A (en) * | 1973-10-11 | 1974-10-15 | Gen Electric | Process for producing octaphenyltetracyclosiloxane |
JPS5739659A (en) * | 1980-08-21 | 1982-03-04 | Nec Corp | Calling out system for private branch of exchanger |
FR2523590B1 (fr) * | 1982-03-16 | 1984-06-29 | Inst Nat Rech Chimique | Composition liquide de base convenant pour la realisation de revetements transparents ou vernis sur des surfaces solides, procede d'obtention de ces vernis et vernis en resultant |
-
1985
- 1985-04-30 JP JP9112485A patent/JPS61250032A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61250032A (ja) | 1986-11-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6346095B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
JPH0559154B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
KR100498834B1 (ko) | 절연 박막 제조용 코팅 조성물 | |
JPH0633204B2 (ja) | 基材上にセラミックコーティングを形成する方法 | |
JPH06103690B2 (ja) | 基材上にセラミックコーティングを形成する方法 | |
JPH0797548A (ja) | 酸化ケイ素系被膜形成用塗布液 | |
WO1997035939A1 (fr) | Fluide pour realiser un revetement de silice a permittivite basse et substrat portant ce revetement a permittivite basse | |
WO2016167494A1 (ko) | 실리카 에어로겔 포함 블랑켓의 제조방법 및 이에 따라 제조된 실리카 에어로겔 포함 블랑켓 | |
KR100451044B1 (ko) | 유기실리케이트 중합체의 제조방법, 및 이를 이용한절연막의 제조방법 | |
WO2008026387A1 (en) | Method of forming amorphous silica coating of low dielectric constant and amorphous silica coating of low dielectric constant obtained thereby | |
KR20100038423A (ko) | 다공질 실리카 전구체 조성물 및 그 제조 방법, 다공질 실리카막 및 그 형성 방법, 반도체 소자, 화상 표시 장치, 그리고 액정 표시 장치 | |
US5271768A (en) | Coating for forming an oxide coating | |
JP3208040B2 (ja) | シリカ系被膜形成用塗布液および被膜付基材 | |
JP2007246872A (ja) | シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜付きガラス板の製造方法、およびシリカ系被膜付きガラス板 | |
JP2002201415A (ja) | シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜の製造方法及び半導体装置 | |
JPH05214296A (ja) | 酸化物被膜形成用塗布液および酸化物被膜の製造法 | |
JPH1112542A (ja) | シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜及びそれを用いた半導体装置 | |
JP2000336312A (ja) | シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜の製造法及び半導体装置 | |
JPH07173434A (ja) | 酸化物被膜形成用塗布液および酸化物被膜の製造法 | |
JPH1112540A (ja) | シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜及びそれを用いた半導体装置 | |
JPH06172709A (ja) | 酸化物被膜形成用塗布液および酸化物被膜の製造法 | |
JPH09176574A (ja) | 酸化物被膜形成用塗布液並びに酸化物被膜及び半導体装置の製造法 | |
JPS6155164A (ja) | シリカ被膜の形成方法 | |
JP3854383B2 (ja) | 低誘電率材料および低誘電率薄膜形成用塗布液 | |
JP2000212508A (ja) | シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜の製造法、シリカ系被膜およびそれを用いた半導体装置 |