JPS6339110A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS6339110A JPS6339110A JP18139886A JP18139886A JPS6339110A JP S6339110 A JPS6339110 A JP S6339110A JP 18139886 A JP18139886 A JP 18139886A JP 18139886 A JP18139886 A JP 18139886A JP S6339110 A JPS6339110 A JP S6339110A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するものである
。
。
薄膜磁気ヘッドの上部磁極形成はパターンニングされる
べき部分の段差が２層コイルヘッドの場合１５μ以上と
なり、段差によるフォトレジスト膜厚差及びフォトマス
ク−フォトレジスト間の空隙発生により段差の上部と下
部での７オトレジストの霞光パ現像条件に大きな差が生
じ精度の良いパターンが得られず、第２図に示すように
磁極先端部がくびれてしまいヘッドとして重要なトラッ
ク幅の制御が十分に出来ず量産時の歩留り低下の原因と
なっていた。この間層を解決するため多層レジスト法も
考えられるが工程が長く良い方法とはいえない。
べき部分の段差が２層コイルヘッドの場合１５μ以上と
なり、段差によるフォトレジスト膜厚差及びフォトマス
ク−フォトレジスト間の空隙発生により段差の上部と下
部での７オトレジストの霞光パ現像条件に大きな差が生
じ精度の良いパターンが得られず、第２図に示すように
磁極先端部がくびれてしまいヘッドとして重要なトラッ
ク幅の制御が十分に出来ず量産時の歩留り低下の原因と
なっていた。この間層を解決するため多層レジスト法も
考えられるが工程が長く良い方法とはいえない。
上述したように従来技術ではヘッドとして重要なトラッ
ク幅を制御することは困蓋であった。本発明はこの問題
を°解決し、薄膜磁気ヘッドのトラック幅を安定的に制
御することを目的とする。
ク幅を制御することは困蓋であった。本発明はこの問題
を°解決し、薄膜磁気ヘッドのトラック幅を安定的に制
御することを目的とする。
本発明は軟磁性体から成る上磁極と下磁極の間に導電コ
イルとその間の絶縁をはかる有機物絶縁層から成る薄膜
磁気ヘッドにおいて、上部磁極形成用７オトマスクパタ
ーンをトラック幅を決定するパターンと磁極形状のパタ
ーンとに分け、塗布したフォトレジストを２度露光する
ことを特徴とする。
イルとその間の絶縁をはかる有機物絶縁層から成る薄膜
磁気ヘッドにおいて、上部磁極形成用７オトマスクパタ
ーンをトラック幅を決定するパターンと磁極形状のパタ
ーンとに分け、塗布したフォトレジストを２度露光する
ことを特徴とする。
第３図は本発明の薄膜磁気ヘッドの断面図である。まず
Ａ１，０．−Ｔｉ Ｏ基板３−１にＡｌ、０゜３−２を
ＲＦスパッタにより１５μ形成し、下磁極形成のためパ
ーマロイスパッタを１ｏｏｏｏＸ形成し、フォトレジス
トで下磁極パターンを形成シタ後パーマロイメツキを２
μ施す。フォトレジストを剥離しスパッタエツチングに
よりパーマロイスパッタ膜を除去することにより下磁極
３−３が形成される。ギャブ用材料としてＡ：Ｌ２０．
を６０００ＸＲＦスパツタにより形成し、上、下磁極接
合部をエツチングで除去することによりギャプ５−４が
形成される。有機絶縁層３−５はフォトレジストをパタ
ーンニングしボストベーク（１５０℃×１Ｈ）さらにハ
ードベーク（２４０℃×１ａ）することによりえられる
０ここで導電コイル用下地としてパーマロイを２ｏｏｏ
Ｘスパツタしフォトレジストでコイルパターンを形成し
、電解Ｏｕメツキを５μ施す。フォトレジストを剥離し
、スパッタエツチングにより下地膜を除去することによ
り導電コイル３−６が形成される。さらに有機絶縁層と
、導電コーイル層、有機絶縁層の順に形成する０上磁極
下地膜としてパーマロイスパッタ膜を２５００Ｘ形成す
る・フォトレジストを塗布し、第１図ａに示すようにま
ずトラック幅を決定するパターン１−３をその適正条件
で露光する。さらに第１図すに示すように上磁極形状パ
ターン１−５を露光したのち現像することにより第１図
Ｃに示すような、良好なパターンが得られる。
Ａ１，０．−Ｔｉ Ｏ基板３−１にＡｌ、０゜３−２を
ＲＦスパッタにより１５μ形成し、下磁極形成のためパ
ーマロイスパッタを１ｏｏｏｏＸ形成し、フォトレジス
トで下磁極パターンを形成シタ後パーマロイメツキを２
μ施す。フォトレジストを剥離しスパッタエツチングに
よりパーマロイスパッタ膜を除去することにより下磁極
３−３が形成される。ギャブ用材料としてＡ：Ｌ２０．
を６０００ＸＲＦスパツタにより形成し、上、下磁極接
合部をエツチングで除去することによりギャプ５−４が
形成される。有機絶縁層３−５はフォトレジストをパタ
ーンニングしボストベーク（１５０℃×１Ｈ）さらにハ
ードベーク（２４０℃×１ａ）することによりえられる
０ここで導電コイル用下地としてパーマロイを２ｏｏｏ
Ｘスパツタしフォトレジストでコイルパターンを形成し
、電解Ｏｕメツキを５μ施す。フォトレジストを剥離し
、スパッタエツチングにより下地膜を除去することによ
り導電コイル３−６が形成される。さらに有機絶縁層と
、導電コーイル層、有機絶縁層の順に形成する０上磁極
下地膜としてパーマロイスパッタ膜を２５００Ｘ形成す
る・フォトレジストを塗布し、第１図ａに示すようにま
ずトラック幅を決定するパターン１−３をその適正条件
で露光する。さらに第１図すに示すように上磁極形状パ
ターン１−５を露光したのち現像することにより第１図
Ｃに示すような、良好なパターンが得られる。
さらにパーマロイメツキを２μ施し、フォトレジストを
剥離したのちスパッタエツチングにより下地膜を除去し
、上磁極１−６を形成することにより薄膜磁気ヘッドの
ウェハープロセスがほぼ終了する。ここで得られた上磁
極のトラック幅を決定する部分は歪みのない良好なもの
であった。
剥離したのちスパッタエツチングにより下地膜を除去し
、上磁極１−６を形成することにより薄膜磁気ヘッドの
ウェハープロセスがほぼ終了する。ここで得られた上磁
極のトラック幅を決定する部分は歪みのない良好なもの
であった。
以上述べたように本発明によれば、従来技術では困難で
あった上磁極のトラック幅を正確に決定することが可能
であり、薄膜磁気ヘッドの量産時の歩留が向上しコスト
ダウンにつながるという効果を有する０またトラック幅
を決定するフォトマスクパターンを数種類用意すること
により異なったトラック幅をもつ薄膜磁気ヘッドを製作
できるためフォトマスクの面でもコストダウンにつなが
る０
あった上磁極のトラック幅を正確に決定することが可能
であり、薄膜磁気ヘッドの量産時の歩留が向上しコスト
ダウンにつながるという効果を有する０またトラック幅
を決定するフォトマスクパターンを数種類用意すること
により異なったトラック幅をもつ薄膜磁気ヘッドを製作
できるためフォトマスクの面でもコストダウンにつなが
る０
第１図は本発明の上磁極フォトレジストパターンを形成
する工程図。 第２図は従来得られた上磁極フォトレジストパターンを
示す上面図。 第３図は本発明の薄膜磁気ヘッドの断面図。 １−１ 有機物絶縁層 １−２ 上、下磁極接合部 １−３ 上磁極トラック幅パターン １−４ 下磁極 １−５ 上磁極形状パターン １−６ 上磁極 ２−１ 上磁極パターン ５−Ｉ Ａ Ｉ、０．−Ｔ ｉ Ｏ基板５−２Ａ１ｔ
０゜ ３−３ 下磁極 ３−４ ギー？７プ用Ａｌ、０゜ ５−５ 有機絶縁層 ５−６１層目コイル ３−７２層目フィル ３−８ 上磁極 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 第１図 第２図
する工程図。 第２図は従来得られた上磁極フォトレジストパターンを
示す上面図。 第３図は本発明の薄膜磁気ヘッドの断面図。 １−１ 有機物絶縁層 １−２ 上、下磁極接合部 １−３ 上磁極トラック幅パターン １−４ 下磁極 １−５ 上磁極形状パターン １−６ 上磁極 ２−１ 上磁極パターン ５−Ｉ Ａ Ｉ、０．−Ｔ ｉ Ｏ基板５−２Ａ１ｔ
０゜ ３−３ 下磁極 ３−４ ギー？７プ用Ａｌ、０゜ ５−５ 有機絶縁層 ５−６１層目コイル ３−７２層目フィル ３−８ 上磁極 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 第１図 第２図
Claims (1)
- 軟磁性体から成る上磁極と下磁極の間に導電コイルとそ
の間の絶縁をはかる有機物絶縁層から成る薄膜磁気ヘッ
ドにおいて、上磁極形成用フォトマスクパターンをトラ
ック幅を決定するパターンと磁極形状のパターンとに分
け、塗布したフォトレジストを二度露光することを特徴
とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18139886A JPS6339110A (ja) | 1986-08-01 | 1986-08-01 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18139886A JPS6339110A (ja) | 1986-08-01 | 1986-08-01 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6339110A true JPS6339110A (ja) | 1988-02-19 |
Family
ID=16100047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18139886A Pending JPS6339110A (ja) | 1986-08-01 | 1986-08-01 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6339110A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07176016A (ja) * | 1993-12-17 | 1995-07-14 | Riide Raito S M I Kk | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| WO1998036410A1 (fr) * | 1997-02-17 | 1998-08-20 | Hitachi, Ltd. | Tete magnetique a couche mince, tete d'enregistrement/reproduction de type a separation, appareil a disque magnetique et procede de production de tete magnetique a couche mince |
| US6410212B1 (en) * | 1998-06-30 | 2002-06-25 | Alps Electric Co., Ltd. | Method for making a thin film magnetic head |
| US7093348B2 (en) | 1999-11-12 | 2006-08-22 | Tdk Corporation | Method of manufacturing a thin film magnetic head |
-
1986
- 1986-08-01 JP JP18139886A patent/JPS6339110A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07176016A (ja) * | 1993-12-17 | 1995-07-14 | Riide Raito S M I Kk | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| WO1998036410A1 (fr) * | 1997-02-17 | 1998-08-20 | Hitachi, Ltd. | Tete magnetique a couche mince, tete d'enregistrement/reproduction de type a separation, appareil a disque magnetique et procede de production de tete magnetique a couche mince |
| US6410212B1 (en) * | 1998-06-30 | 2002-06-25 | Alps Electric Co., Ltd. | Method for making a thin film magnetic head |
| US7093348B2 (en) | 1999-11-12 | 2006-08-22 | Tdk Corporation | Method of manufacturing a thin film magnetic head |
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