JPS6262411A - 磁気ヘツドのギヤツプ製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドのギヤツプ製造方法Info
- Publication number
- JPS6262411A JPS6262411A JP20203985A JP20203985A JPS6262411A JP S6262411 A JPS6262411 A JP S6262411A JP 20203985 A JP20203985 A JP 20203985A JP 20203985 A JP20203985 A JP 20203985A JP S6262411 A JPS6262411 A JP S6262411A
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- JP
- Japan
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- gap
- layer
- film
- upper magnetic
- magnetic layer
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドのギャップ製造方法に関する。
本発明は磁気ヘッドの製造方法に於て、上磁極形成前に
リフトオフ法でギャップ層を形成することだより、ギャ
ップ厚のコントロール可能及び、〒 ギロ ― り（も
ＦＴ 合一 し −ト ス 東 ａ）で 九 乙〔
従来技術〕 従来の薄膜磁気ヘッドのギャップコントロール可能な形
成方法は、特開昭５９−１６８９１３の様に下部磁性層
形成後ギャップを設け、更にギヤ・７１部に磁性層を保
護層として 積させ、コイル作製時のイオンエツチング
によるギャップ厚減少を磁性層を減少させることだより
、防止し、ギャップ厚コントロールを可能としてい友。
リフトオフ法でギャップ層を形成することだより、ギャ
ップ厚のコントロール可能及び、〒 ギロ ― り（も
ＦＴ 合一 し −ト ス 東 ａ）で 九 乙〔
従来技術〕 従来の薄膜磁気ヘッドのギャップコントロール可能な形
成方法は、特開昭５９−１６８９１３の様に下部磁性層
形成後ギャップを設け、更にギヤ・７１部に磁性層を保
護層として 積させ、コイル作製時のイオンエツチング
によるギャップ厚減少を磁性層を減少させることだより
、防止し、ギャップ厚コントロールを可能としてい友。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかし、前
述の従来技術では保護層として設は九磁性層はイオンエ
ツチング如よりダメージを受けている几め特性が劣化し
ており、その残っｔ膜がそのまま上磁極と一体となるた
め、上磁極膜特性の劣化の要因となる。まｆＣ製造工程
面からみても、磁性層をスパッタリングという工程ｈ″
−−増加しまうためコスト高にもなるという問題点を有
する。
述の従来技術では保護層として設は九磁性層はイオンエ
ツチング如よりダメージを受けている几め特性が劣化し
ており、その残っｔ膜がそのまま上磁極と一体となるた
め、上磁極膜特性の劣化の要因となる。まｆＣ製造工程
面からみても、磁性層をスパッタリングという工程ｈ″
−−増加しまうためコスト高にもなるという問題点を有
する。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、ギャップの精密なコントロール
を可能にし、かつ安価で容易にできる製造方法を提供す
るものである。
の目的とするところは、ギャップの精密なコントロール
を可能にし、かつ安価で容易にできる製造方法を提供す
るものである。
本発明の磁気ヘッドのギャップ層の製造方法は上部磁性
層形成前にリフトオフ法でギャップ層を形成することを
特徴とする。
層形成前にリフトオフ法でギャップ層を形成することを
特徴とする。
本発明の上記の構成によれば、上磁極形成前にギャップ
層をり７トオフ法如より、形成することにより、ギヤツ
ブ厚入のコントロールが可能なばかりか、ギヤツブ嘆ス
バヴタ系のパターニング加工４簡略化できるため容易に
安価な磁気へ・Ｉドを得ちれるものである。
層をり７トオフ法如より、形成することにより、ギヤツ
ブ厚入のコントロールが可能なばかりか、ギヤツブ嘆ス
バヴタ系のパターニング加工４簡略化できるため容易に
安価な磁気へ・Ｉドを得ちれるものである。
第１図は本発明の実施例にかける工程断面図でちって、
第１図−Ｃａ）において、坊Ｏｓ −Ｔｉ Ｏ基板５上
にアンダーコート膜４であるａ２０３をスパッタリング
に堆積させる。更にアンダーコート膜上に下部１田性層
を形成し、絶縁層、コイルを順次繰り返し形成をする。
第１図−Ｃａ）において、坊Ｏｓ −Ｔｉ Ｏ基板５上
にアンダーコート膜４であるａ２０３をスパッタリング
に堆積させる。更にアンダーコート膜上に下部１田性層
を形成し、絶縁層、コイルを順次繰り返し形成をする。
第１図−（ｂ）において、上部磁性層を形成する前に、
ギャップ部８を除きレジスト６で被覆する。その後、ギ
ャップ層となるｓｉ ０２膜をスパッタリングで０．７
μｍ堆積させる。
ギャップ部８を除きレジスト６で被覆する。その後、ギ
ャップ層となるｓｉ ０２膜をスパッタリングで０．７
μｍ堆積させる。
第１図−（Ｃ）において、Ｓｉ ０２スパツタリング後
、レジスト６を除去し所望部であるギャップ部の入を残
す。第１図−（イ）において上部磁性層９を形成する。
、レジスト６を除去し所望部であるギャップ部の入を残
す。第１図−（イ）において上部磁性層９を形成する。
この工程で行なえばコイル作製時に生じるイオンエツチ
ング等のダメージがない几め、初期に堆積させた膜厚ｈ
ｔ維持できる。
ング等のダメージがない几め、初期に堆積させた膜厚ｈ
ｔ維持できる。
以上述べたよ５に発明によれば、上部磁性層形成前にリ
フトオフ法でギャップを形成することでコイル形成時の
工程であるイオンエツチングで膜減少することなく、堆
積時の状態の嘆厚が維持できるため精密なギャップコン
トロールｈ′−可能となる。ま几従来、ギャップ膜を堆
積させた後、フォトエツチング加工によりギヤツブ模を
パターン加工してい几＃”−、本発明のリフトオフ法を
行なえば工程簡略にもつなｈｚるため、安価でかつ高精
能灯磁気へヴドな得られるという効果を有する。
フトオフ法でギャップを形成することでコイル形成時の
工程であるイオンエツチングで膜減少することなく、堆
積時の状態の嘆厚が維持できるため精密なギャップコン
トロールｈ′−可能となる。ま几従来、ギャップ膜を堆
積させた後、フォトエツチング加工によりギヤツブ模を
パターン加工してい几＃”−、本発明のリフトオフ法を
行なえば工程簡略にもつなｈｚるため、安価でかつ高精
能灯磁気へヴドな得られるという効果を有する。
第１図（ａ）〜傾は本発明の製造方法の実施例を示す工
程断面図。 １・・・・・・コイル ２・・・・・・絶縁層 ３・・・・・・下部磁性層 ４・・・・・・アンダーコート膜 ５・・・・・・基板 ６・・・・・・レジスト ７・・・・・・ギヤツブ嘆 ８・・・・・・ギャップ部 ９・・・・・・上部磁性層 以 上
程断面図。 １・・・・・・コイル ２・・・・・・絶縁層 ３・・・・・・下部磁性層 ４・・・・・・アンダーコート膜 ５・・・・・・基板 ６・・・・・・レジスト ７・・・・・・ギヤツブ嘆 ８・・・・・・ギャップ部 ９・・・・・・上部磁性層 以 上
Claims (1)
- 下部磁性層、ギャップ層、層間膜層、コイル層、上部磁
性層、オーバーコート層の構成からなる磁気ヘッドに於
て、上部磁性層形成前にギャップ層をリフトオフ法によ
り形成することを特徴とする磁気ヘッドのギャップ製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20203985A JPS6262411A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 磁気ヘツドのギヤツプ製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20203985A JPS6262411A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 磁気ヘツドのギヤツプ製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6262411A true JPS6262411A (ja) | 1987-03-19 |
Family
ID=16450919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20203985A Pending JPS6262411A (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 磁気ヘツドのギヤツプ製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6262411A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH072885U (ja) * | 1991-08-05 | 1995-01-17 | 株式会社タナカ | 除湿乾燥機 |
-
1985
- 1985-09-12 JP JP20203985A patent/JPS6262411A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH072885U (ja) * | 1991-08-05 | 1995-01-17 | 株式会社タナカ | 除湿乾燥機 |
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