JPS6338017B2 - - Google Patents
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- JPS6338017B2 JPS6338017B2 JP10748880A JP10748880A JPS6338017B2 JP S6338017 B2 JPS6338017 B2 JP S6338017B2 JP 10748880 A JP10748880 A JP 10748880A JP 10748880 A JP10748880 A JP 10748880A JP S6338017 B2 JPS6338017 B2 JP S6338017B2
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Landscapes
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
本発明は弱い正の誘電異方性を有する新規な液
晶化合物に関する。 液晶表示素子は液晶物質が持つ光学異方性及び
誘電異方性を利用したものであるが、その表示様
式によつてTN型(ねじれネマチツク型)、DS型
(動的散乱型)、ゲスト・ホスト型、DAP型など
各種の方式に分けられ、夫々の使用に適する液晶
物質の性質は異る。しかし、いずれの液晶物質も
水分、空気、熱、光等に安定であることが必要で
あることは共通しており、又室温を中心としてで
きるだけ広い温度範囲で液晶相を示し、更に表示
素子の種類によつて異る最適な誘電異方性値(△
ε)を有する様にしなければならない。しかし現
在のところ、単一化合物ではこの様な条件をみた
す物質はなく、数種の液晶化合物や非液晶化合物
を混合して得られる液晶組成物を使用しているの
が現状である。 本発明の目的はこの様な液晶組成物の一成分と
して有用な、特に△εの値を調節するに適する新
規な液晶化合物を提供することにある。 即ち本発明は一般式 (上式に於てRは炭素数1〜10のアルキル基を
示し、XはF又はClを示す) で表わされる3―ハロゲノ安息香酸4′―(トラン
ス―4″―アルキルシクロヘキシル)フエニルエス
テルである。 本発明にかかわる()式の化合物は誘電異方
性値△εは+0.2位であるので他の液晶化合物と
よく混合でき、その組成物のしきい電圧、飽和電
圧を高くすることなく△εを小さくすることがで
きる。 つぎに本発明の化合物の製造方法について述べ
る。まず化学式で工程の概略を示すと 即ち、まず4′―アルキル―1′―シクロヘキセン
―1′―イル―4―メトキシベンゼンをエタノール
中、常圧50℃でPd/C触媒を用いて還元し4―
(4′―アルキルシクロヘキシル)メトキシベンゼ
ンのトランス体、シス体混合物を得、これに三臭
化ホウ素を作用させてメトキシ基を外し4―(ト
ランス―4′―アルキルシクロヘキシル)フエノー
ル()を分離する。 ここで出発物質とした4′―アルキル―1′―シク
ロヘキセン―1′―イル―4―メトキシベンゼンは
本発明者らが発明し本出願人が昭和55年6月25日
に特許出願したものである(特願昭55−
号(特開昭57−11935号))。 一方m―ハロゲノ安息香酸と塩化チオニルを作
用させてm―ハロゲノ安息香酸塩化物()と
し、これと先に得られた4―(トランス―4′―ア
ルキルシクロヘキシル)フエノール()と反応
させて目的の3―ハロゲノ安息香酸4′―(トラン
ス―4″―アルキルシクロヘキシル)フエニルエス
テルを得る。 以下実施例として本発明の化合物の製造例及び
使用例を示して本発明を更に詳細に説明する。 実施例1 〔3―フルオロ安息香酸4′―(トラン
ス―4″―プロピルシクロヘキシル)フエニルエ
ステルの製造〕 4′―プロピル―1′―シクロヘキシル―1′―イル
―4―メトキシベンゼン21gをエタノール200ml
に溶解し、5%パラジウム/炭素触媒5.0gと共
に接触還元装置に仕込んで水素を通じて接触還元
を行う。3〜4時間で2.3の水素(原料1モル
当り1モルの水素)を吸収し終るので触媒を別
し50mlのエタノールで触媒をよく洗つて液に合
わせる。液のエタノールを減圧にて留去し、つ
いでトルエン100mlを加えて再び減圧にて留去し
エタノールが残つていない状態にする。残つた油
状物19gが4―(4′―プロピルシクロヘキシル)
メトキシベンゼンである。 上記の様にして得られた4―(4′―プロピルシ
クロヘキシル)メトキシベンゼン230gを3の
フラスコに入れ、氷冷しながら三臭化ホウ素100
gを30〜40分かけて加えて行く。加え終つたら冷
却を止め室温になつて30分後にマントルヒーター
上で50℃で3時間加温する。加温後マントルヒー
ターを外しトルエン200mlを加え減圧にて過剰の
三臭化ホウ素を留去する。次に氷冷しながら6N
塩酸1を加えると激しく分解反応が起つて結晶
が析出する。更に水1を加え30分放置後過す
る。結晶に付着しているトルエンをできるだけ切
つてから更に結晶を水洗する。水をよく切つてか
らメタノール500mlにて再結晶すると鱗片状の結
晶が析出するので過乾燥すると65gの4―(ト
ランス―4′―プロピルシクロヘキシルフエノール
が得られた(収率30%)。その融点は134〜139℃
であつた。 一方、3―フルオロ安息香酸1.4g(0.01モル)
と塩化チオニル10mlを最初60℃で30分、次いで80
℃で2時間反応させる。均一になつてから更に1
時間放置後、減圧にて過剰の塩化チオニルを留去
すると3―フルオロ安息香酸酸塩化物が油状物と
して得られる。これを先に得られた4―(トラン
ス―4′―プロピルシクロヘキシル)フエノール
2.2g(0.01モル)をピリジン50mlに溶かしたも
のに加えて反応させる。1晩放置後トルエン100
mlを加えよく撹拌後、トルエン層を分取して6N
塩酸、ついで2N苛性ソーダ水溶液で洗浄し、最
後に水で中性になるまで洗浄する。減圧にしてト
ルエンを留去し残る結晶をエタノールで再結晶す
ると目的物である3―フルオロ安息香酸4′―(ト
ランス―4″―プロピルシクロヘキシルフエニルエ
ステル2.0gが得られる(収率59%)。その物性値
及び元素分析値などを後の実施例2〜8の結果と
共に第1表に示す。
晶化合物に関する。 液晶表示素子は液晶物質が持つ光学異方性及び
誘電異方性を利用したものであるが、その表示様
式によつてTN型(ねじれネマチツク型)、DS型
(動的散乱型)、ゲスト・ホスト型、DAP型など
各種の方式に分けられ、夫々の使用に適する液晶
物質の性質は異る。しかし、いずれの液晶物質も
水分、空気、熱、光等に安定であることが必要で
あることは共通しており、又室温を中心としてで
きるだけ広い温度範囲で液晶相を示し、更に表示
素子の種類によつて異る最適な誘電異方性値(△
ε)を有する様にしなければならない。しかし現
在のところ、単一化合物ではこの様な条件をみた
す物質はなく、数種の液晶化合物や非液晶化合物
を混合して得られる液晶組成物を使用しているの
が現状である。 本発明の目的はこの様な液晶組成物の一成分と
して有用な、特に△εの値を調節するに適する新
規な液晶化合物を提供することにある。 即ち本発明は一般式 (上式に於てRは炭素数1〜10のアルキル基を
示し、XはF又はClを示す) で表わされる3―ハロゲノ安息香酸4′―(トラン
ス―4″―アルキルシクロヘキシル)フエニルエス
テルである。 本発明にかかわる()式の化合物は誘電異方
性値△εは+0.2位であるので他の液晶化合物と
よく混合でき、その組成物のしきい電圧、飽和電
圧を高くすることなく△εを小さくすることがで
きる。 つぎに本発明の化合物の製造方法について述べ
る。まず化学式で工程の概略を示すと 即ち、まず4′―アルキル―1′―シクロヘキセン
―1′―イル―4―メトキシベンゼンをエタノール
中、常圧50℃でPd/C触媒を用いて還元し4―
(4′―アルキルシクロヘキシル)メトキシベンゼ
ンのトランス体、シス体混合物を得、これに三臭
化ホウ素を作用させてメトキシ基を外し4―(ト
ランス―4′―アルキルシクロヘキシル)フエノー
ル()を分離する。 ここで出発物質とした4′―アルキル―1′―シク
ロヘキセン―1′―イル―4―メトキシベンゼンは
本発明者らが発明し本出願人が昭和55年6月25日
に特許出願したものである(特願昭55−
号(特開昭57−11935号))。 一方m―ハロゲノ安息香酸と塩化チオニルを作
用させてm―ハロゲノ安息香酸塩化物()と
し、これと先に得られた4―(トランス―4′―ア
ルキルシクロヘキシル)フエノール()と反応
させて目的の3―ハロゲノ安息香酸4′―(トラン
ス―4″―アルキルシクロヘキシル)フエニルエス
テルを得る。 以下実施例として本発明の化合物の製造例及び
使用例を示して本発明を更に詳細に説明する。 実施例1 〔3―フルオロ安息香酸4′―(トラン
ス―4″―プロピルシクロヘキシル)フエニルエ
ステルの製造〕 4′―プロピル―1′―シクロヘキシル―1′―イル
―4―メトキシベンゼン21gをエタノール200ml
に溶解し、5%パラジウム/炭素触媒5.0gと共
に接触還元装置に仕込んで水素を通じて接触還元
を行う。3〜4時間で2.3の水素(原料1モル
当り1モルの水素)を吸収し終るので触媒を別
し50mlのエタノールで触媒をよく洗つて液に合
わせる。液のエタノールを減圧にて留去し、つ
いでトルエン100mlを加えて再び減圧にて留去し
エタノールが残つていない状態にする。残つた油
状物19gが4―(4′―プロピルシクロヘキシル)
メトキシベンゼンである。 上記の様にして得られた4―(4′―プロピルシ
クロヘキシル)メトキシベンゼン230gを3の
フラスコに入れ、氷冷しながら三臭化ホウ素100
gを30〜40分かけて加えて行く。加え終つたら冷
却を止め室温になつて30分後にマントルヒーター
上で50℃で3時間加温する。加温後マントルヒー
ターを外しトルエン200mlを加え減圧にて過剰の
三臭化ホウ素を留去する。次に氷冷しながら6N
塩酸1を加えると激しく分解反応が起つて結晶
が析出する。更に水1を加え30分放置後過す
る。結晶に付着しているトルエンをできるだけ切
つてから更に結晶を水洗する。水をよく切つてか
らメタノール500mlにて再結晶すると鱗片状の結
晶が析出するので過乾燥すると65gの4―(ト
ランス―4′―プロピルシクロヘキシルフエノール
が得られた(収率30%)。その融点は134〜139℃
であつた。 一方、3―フルオロ安息香酸1.4g(0.01モル)
と塩化チオニル10mlを最初60℃で30分、次いで80
℃で2時間反応させる。均一になつてから更に1
時間放置後、減圧にて過剰の塩化チオニルを留去
すると3―フルオロ安息香酸酸塩化物が油状物と
して得られる。これを先に得られた4―(トラン
ス―4′―プロピルシクロヘキシル)フエノール
2.2g(0.01モル)をピリジン50mlに溶かしたも
のに加えて反応させる。1晩放置後トルエン100
mlを加えよく撹拌後、トルエン層を分取して6N
塩酸、ついで2N苛性ソーダ水溶液で洗浄し、最
後に水で中性になるまで洗浄する。減圧にしてト
ルエンを留去し残る結晶をエタノールで再結晶す
ると目的物である3―フルオロ安息香酸4′―(ト
ランス―4″―プロピルシクロヘキシルフエニルエ
ステル2.0gが得られる(収率59%)。その物性値
及び元素分析値などを後の実施例2〜8の結果と
共に第1表に示す。
【表】
* 外挿による推定値
実施例 2〜8 実施例1に於ける4′―プロピル―1′―シクロヘ
キセン―1′―イル―4―メトキシベンゼンの代り
に夫々相当するアルキル基を持つたものを同じモ
ル数使用し、又()式でX=Clの場合は3―フ
ルオロ安息香酸の代りに3―クロル安息香酸を使
用することにより、実施例1と同様にして第1表
の実施例2〜8に示す()式の化合物を得た。
それ等の収率、物性、元素分析値等は第1表に示
す通りである。 実施例9 (応用例1) トランス―4―プロピル―(4′―シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 24% トランス―4―ペンチル―(4′―シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 36% トランス―4―ヘブチル―(4′―シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 25% トランス―4―ペンチル―(4′―シアノビフエ
ニル―4)シクロヘキサン 15% なる組成の液晶組成物Aのネマチツク温度範囲は
−10〜70℃であり、誘電異方性値△εは+11.4で
ある。この液晶組成物を、ガラス基板上の酸化ス
ズ透明電極に酸化珪素をコーテイングして配向性
を持たせたもの2枚を組み合わせて構成した厚さ
10μmのセルに封入して、そのしきい電圧を測定
1.8V、飽和電圧は2.5Vであつた。 この液晶組成物A9部に対し本発明の化合物で
ある3―フルオロ安息香酸4′―(トランス―4″―
ブチルシクロヘキシル)フエニルエステル1部を
加えた液晶組成物のN―I点は76.4℃に上昇し、
又△εは+10.6と小さくなつた。この液晶組成物
を使用して先と同様にして測定したしきい電圧は
1.8V、飽和電圧は2.5Vで△εが小さくなつてい
るにもかかわらず高くなつていなかつた。 実施例10 (応用例2) 実施例9と同様に液晶組成物A9部に対し本発
明の化合物である3―クロル安息香酸4′―(トラ
ンス―4″―ブチルシクロヘキシル)フエニルエス
テル1部を加えた液晶組成物のN―I点は73.7℃
に上昇し、△εは10.7と小さくなつた。又、この
液晶組成物を使用して得られる先のと同様な液晶
セルで測定したしきい電圧は1.8V、飽和電圧は
2.5Vで、液晶組成物Aのそれと変らなかつた。
実施例 2〜8 実施例1に於ける4′―プロピル―1′―シクロヘ
キセン―1′―イル―4―メトキシベンゼンの代り
に夫々相当するアルキル基を持つたものを同じモ
ル数使用し、又()式でX=Clの場合は3―フ
ルオロ安息香酸の代りに3―クロル安息香酸を使
用することにより、実施例1と同様にして第1表
の実施例2〜8に示す()式の化合物を得た。
それ等の収率、物性、元素分析値等は第1表に示
す通りである。 実施例9 (応用例1) トランス―4―プロピル―(4′―シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 24% トランス―4―ペンチル―(4′―シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 36% トランス―4―ヘブチル―(4′―シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 25% トランス―4―ペンチル―(4′―シアノビフエ
ニル―4)シクロヘキサン 15% なる組成の液晶組成物Aのネマチツク温度範囲は
−10〜70℃であり、誘電異方性値△εは+11.4で
ある。この液晶組成物を、ガラス基板上の酸化ス
ズ透明電極に酸化珪素をコーテイングして配向性
を持たせたもの2枚を組み合わせて構成した厚さ
10μmのセルに封入して、そのしきい電圧を測定
1.8V、飽和電圧は2.5Vであつた。 この液晶組成物A9部に対し本発明の化合物で
ある3―フルオロ安息香酸4′―(トランス―4″―
ブチルシクロヘキシル)フエニルエステル1部を
加えた液晶組成物のN―I点は76.4℃に上昇し、
又△εは+10.6と小さくなつた。この液晶組成物
を使用して先と同様にして測定したしきい電圧は
1.8V、飽和電圧は2.5Vで△εが小さくなつてい
るにもかかわらず高くなつていなかつた。 実施例10 (応用例2) 実施例9と同様に液晶組成物A9部に対し本発
明の化合物である3―クロル安息香酸4′―(トラ
ンス―4″―ブチルシクロヘキシル)フエニルエス
テル1部を加えた液晶組成物のN―I点は73.7℃
に上昇し、△εは10.7と小さくなつた。又、この
液晶組成物を使用して得られる先のと同様な液晶
セルで測定したしきい電圧は1.8V、飽和電圧は
2.5Vで、液晶組成物Aのそれと変らなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (上式中XはRは炭素数1〜10のアルキル基を
示し、XはF又はClを示す) で表わされる3―ハロゲノ安息香酸4′―(トラン
ス―4″―アルキルシクロヘキシル)フエニルエス
テル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10748880A JPS5732249A (en) | 1980-08-05 | 1980-08-05 | 3-halogenobenzoic acid 4'-(trans-4"-alkylcyclohexyl)phenyl ester |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10748880A JPS5732249A (en) | 1980-08-05 | 1980-08-05 | 3-halogenobenzoic acid 4'-(trans-4"-alkylcyclohexyl)phenyl ester |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5732249A JPS5732249A (en) | 1982-02-20 |
JPS6338017B2 true JPS6338017B2 (ja) | 1988-07-28 |
Family
ID=14460479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10748880A Granted JPS5732249A (en) | 1980-08-05 | 1980-08-05 | 3-halogenobenzoic acid 4'-(trans-4"-alkylcyclohexyl)phenyl ester |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5732249A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5655341B2 (ja) * | 2010-03-29 | 2015-01-21 | Dic株式会社 | シクロヘキサン化合物 |
-
1980
- 1980-08-05 JP JP10748880A patent/JPS5732249A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5732249A (en) | 1982-02-20 |
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