JPS63314795A - 薄膜el素子 - Google Patents

薄膜el素子

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JPS63314795A
JPS63314795A JP62150447A JP15044787A JPS63314795A JP S63314795 A JPS63314795 A JP S63314795A JP 62150447 A JP62150447 A JP 62150447A JP 15044787 A JP15044787 A JP 15044787A JP S63314795 A JPS63314795 A JP S63314795A
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fock
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convex lens
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孝 楡
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/85Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/858Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses

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  • Optics & Photonics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、薄IQ E L素子に係り、とくに高輝度、
薄膜EL素子に関する。
(従来の技術) 薄11’lu E L素子は、輝度が高く、粒子性の少
ない等の長所のため、画家表示材料として注目されてい
る。
薄膜E L素子の一般的な構成断面図を第7図に示す。
1はガラス基板、2はガラス基板上lに作成された透明
導電膜であって酸化錫等を蒸着により形成する。3は発
光層で、例えば硫化亜鉛に活性物質としてマンガン、銅
等を添加したものを前記透明導電膜2上に蒸着あるいは
気相成長に依って形成する。4はA、1等の金属電極で
あり、該金属電極4と前記透明導?l!wA2との間に
第1絶縁膜5と第2絶縁膜6とを設ける。
かかる構造の薄膜EL素子において、透明導電膜2を一
方の電極とし、金属電極4との間に適度な電界を印加す
ると、発光層3が励起されてEL発光する。この発光は
ガラス基板1を通して外部に導出されていた。
(発明が解決使用とする問題点) しかるに、従来の素子では、発光P!3でEL発光した
光は放射状に広がるため、透明導電膜2を透過した発光
が、力11ラス基板1との境界面にて、光が散乱される
、あるいは反射されることにより外部に導出される光の
輝度が低下してしまう。従って、発光N3でEL発光し
た光は、外部に導出されて時には、約10%程度の光量
となり、表示のコントラスト等を非常に低下させる問題
が生じていた。
(問題点を解決するための手段及び作用ン本発明はかか
る問題点に関して為されたものであり、発光層と、透明
導電膜と絶縁膜と金属電極とガラス基板とからなる薄膜
EL素子において、上記基板がセルフォックや凸レンズ
等の集光性を有する基板であることを特徴とする薄膜E
L素子にある。
さらに、上記セルフォックや凸レンズがガラス基板−面
に縦横に無数配してなる薄膜EL素子を提供することに
ある。
(実施例) 以下本発明素子を図面に基づいて詳述する。
第1図は本発明に係るFJ IQ E L素子の構成図
を示し、第2図、第3図は第1図のE−E  線矢視断
面構成図を示している。第2図は基板一方の面が凸レン
ズ状である場合の具体例を示し、第3図はセルフォック
である場合の具体例を示している。
先ず、本発明薄膜EL素子の恭板の一方の面が凸レンズ
形状を配してなる基板の場合について説明する。
第2図に示す如く、本発明に依る基板10aは、該基板
のEL全発光透過し、外部に導出される面上に凸レンズ
状の形状を有して成る。
該凸レンズ形状は、第1図に示す基板10面上に縦溝に
無数に配されている。また、透明電極20と接する側の
基板面は平坦面である。
薄膜EL素子の構成は、該基板上に透明導電膜20を薄
着等により成し、第1絶縁1]Q21を外透明導電膜上
に形成する。発光層22は、例えばZuSに活性物質と
してMn、Cu、Aff等を添加してなるものを蒸若あ
るいは気相成長等によって、該第1絶縁膜上に成す。さ
らに、第2絶社膜23を成し、AI!等の金属電極24
を形成する。かかる構造の素子において、透明導電膜2
0を一方の電極とし、金属電極24との間に電界を印加
すると発光層22が励起されてEL全発光る。
この発光は、第1絶縁膜21を透過し、透明導電膜20
を透過したのち、前記基Fi103面上に到達する。こ
こで、該EL全発光、前記基板10aを透過する概念を
、1個の凸レンズ部を抽出して説明してなる図である。
第4図にて示す。
前記透過したEL発先は、第4図に示す如く、放射状の
拡がりをもっている。この放射状の拡がりのため、従来
の素子では第6図に示す如く、ガラス基板1の外部との
境界面で反射されてたり、散乱されたりする。本発明の
凸レンズ形状ガラス基板では、放射状に拡がったEL全
発光ガラス基板心向を透過し凸レンズ形状に達すると該
基板凸レンズ部で光の屈折現象を利用し効率よく外部に
導出できる。
また、発光JI22内の各部でEL全発光た光は、上記
凸レンズ部が基板に無数に配してなるため、該基板上の
いかなる部位に達した光でも効率良く外部に導出できる
。また該凸レンズ状基板はガラスでも、プラスチックで
も良い。
次に、本発明の素子の基板がセルフォックから成る場合
について説明する。
第3図に示す如くセルフォック基板10bからなる薄1
1’2EL素子の構成は凸レンズ状の基板の場合と同一
である。
該セルフォック基板10bは例えばガラス等の同一材質
で屈折率が任急に異なるセルフォックマイクロレンズあ
るいは屈折率の違う少なくとも2種顛以上の材料からな
る光ファイバー等からなり基板面上は平坦面である。
ここで、EL全発光前記基板10bを透過する概念につ
いて、1個のセルフォック部を抽出して説明してなる図
である第5図にて説明する。
透明導電膜20を透過し、セルフォック10b内に導入
されてEL発先は、セルフォック内の屈折率の差から第
5図に示す如く屈折率の異なる境界部10′bで反射さ
れる。従って、従来ならば力″″ラス基板外部との境界
面での反射により、光が導出されないという事態が発生
ずるが、本発明ではこうした点は解消され、EL全発光
効率良く外部に導出できる。
また、セルフォック部を基板内に無数配することで、該
基板面の各部に到達したEL全発光、いかなる部位にお
いても効率良く導出できる。
前記基板内に凸レンズ形状あるいはセルフォック部を配
する方法として、該レンズ、セルフォックの大きさ等に
ついてはEL素子の特性や表示パネルの大小により任意
に選択できる。
(発明の効果) 以上5゛を述したように本発明8i膜EL素子は、基板
が築光性を有するために、EL全発光効率良(外部に導
出できる。
また、高輝度のEL素子が提供できることから、低電圧
でも駆動できる効果を有している。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係るηWhiEL素子の構成図、第
2.3図は第1図のE −E’線矢視断面構成図、第4
.5図は、第2.3図の拡大図、第6.7図は従来例を
示ず図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  発光層と、透明導電膜と、第1.2絶縁膜と、金属電
    極とガラス基板とから構成してなる薄膜EL素子におい
    て、上記基板がセルフォックや凸レンズ等の集光性を有
    する基板であることを特徴とする薄膜EL素子。
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