JPS63314271A - 加硫特性の優れたゴム組成物 - Google Patents
加硫特性の優れたゴム組成物Info
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- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical class C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N tetraphenylphosphonium Chemical class C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N tetrapropylammonium Chemical class CCC[N+](CCC)(CCC)CCC OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDSVZUAJOIQXRK-UHFFFAOYSA-N trimethyl(octadecyl)azanium Chemical class CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C PDSVZUAJOIQXRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZEMGTQCPRNXEG-UHFFFAOYSA-M trimethyl(octadecyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C SZEMGTQCPRNXEG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- Polyethers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は.エビクロルヒドリン−プロピレンオキシド系
共重合体ゴムに特定の加硫剤を配合した加硫特性及び圧
縮永久ひずみ性に優れたゴム組成物に関するものである
。
共重合体ゴムに特定の加硫剤を配合した加硫特性及び圧
縮永久ひずみ性に優れたゴム組成物に関するものである
。
(従来の技術)
ジまたはトリチオール−8−トリアジン化合物が,エビ
クロルヒドリン−エチレンオキシド共重合体ゴム(以下
CHCと称することがある)の加硫剤として有効であり
,従来の加硫法に比較し耐熱老化性および金型汚れ性が
改良され、良好な圧縮永久ひずみ性を与えることは知ら
れている。
クロルヒドリン−エチレンオキシド共重合体ゴム(以下
CHCと称することがある)の加硫剤として有効であり
,従来の加硫法に比較し耐熱老化性および金型汚れ性が
改良され、良好な圧縮永久ひずみ性を与えることは知ら
れている。
ところが、この加硫剤をエビクロルヒドリン−エチレン
オキシド共重合体ゴムに使用すると。
オキシド共重合体ゴムに使用すると。
加硫が遅く.圧縮永久ひずみ性が劣るという欠点を有し
ている。
ている。
(発明が解決しようとする課題)
従りて本発明の目的は,ジまたはトリチオール−S−}
リアジン化合物によるエビクロルヒドリン−プロピレン
オキシド系共重合体ゴムの加硫速度を早め,加硫物の圧
縮永久ひずみ性を改良せしめたゴム組成物を提供するこ
とにある。
リアジン化合物によるエビクロルヒドリン−プロピレン
オキシド系共重合体ゴムの加硫速度を早め,加硫物の圧
縮永久ひずみ性を改良せしめたゴム組成物を提供するこ
とにある。
(課題を解決するための手段)
本発明のこの目的は、エピクロルヒドリン、プロピレン
オキシド及び所望に応じて不飽和エポキシドよりなる共
重合体ゴムに、■ジまたはトリチオール−日−トリアジ
ン化合物並びに■第四級アンモニウム塩及び/または第
四級ホスホニウム塩を配合してなるゴム組成物(以下、
第一発明ということがある)によって達成される0 また1本発明のこの目的は、エピクロルヒドリン、プロ
ピレンオキシド及び所望に応じて不飽和エポキシドより
なる共重合体ゴムに、ジまたはトリチオール−8−トリ
アジンの第四級アンモニウム塩及び/または第四級ホス
ホニウム塩誘導体を配合してなるゴム組成物(以下、第
二発明ということがある)によっても達成される。
オキシド及び所望に応じて不飽和エポキシドよりなる共
重合体ゴムに、■ジまたはトリチオール−日−トリアジ
ン化合物並びに■第四級アンモニウム塩及び/または第
四級ホスホニウム塩を配合してなるゴム組成物(以下、
第一発明ということがある)によって達成される0 また1本発明のこの目的は、エピクロルヒドリン、プロ
ピレンオキシド及び所望に応じて不飽和エポキシドより
なる共重合体ゴムに、ジまたはトリチオール−8−トリ
アジンの第四級アンモニウム塩及び/または第四級ホス
ホニウム塩誘導体を配合してなるゴム組成物(以下、第
二発明ということがある)によっても達成される。
本発明における共重合体ゴムは、エピクロルヒドリン、
プロピレンオキシド、及び必要に応じて不飽和エポキシ
ドを共重合することによって得られる。
プロピレンオキシド、及び必要に応じて不飽和エポキシ
ドを共重合することによって得られる。
不飽和エポキシドとしては、アリルグリシジルエーテル
、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート
及びブタジェンモノオキシドなどが添げられる。不飽和
エポキシドを共重合することにより、熱軟化劣化及び耐
動的オゾン性が改良されるが、15モルチを越えると熱
によって硬化型劣化を生じゴム弾性を失い脆くなる欠陥
を生じるO マタ、プロピレンオキシドの量は耐寒性と耐油性に応じ
て60〜90モル係の範囲で適宜決定されるが、その債
が30モルチ未満では耐寒性に問題を生じ、90モル係
を越えると耐油性が低下し膨潤度が大きくなる。共重合
成分の特に好ましい割合はエピクロルヒドロフ15〜5
5モル係、プロピレンオキシド35ル85 キクド2〜10モル係である0また,共重合体ゴムのム
ーニー粘度1:ML1+4( 1 00C) ]は10
〜100である。
、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート
及びブタジェンモノオキシドなどが添げられる。不飽和
エポキシドを共重合することにより、熱軟化劣化及び耐
動的オゾン性が改良されるが、15モルチを越えると熱
によって硬化型劣化を生じゴム弾性を失い脆くなる欠陥
を生じるO マタ、プロピレンオキシドの量は耐寒性と耐油性に応じ
て60〜90モル係の範囲で適宜決定されるが、その債
が30モルチ未満では耐寒性に問題を生じ、90モル係
を越えると耐油性が低下し膨潤度が大きくなる。共重合
成分の特に好ましい割合はエピクロルヒドロフ15〜5
5モル係、プロピレンオキシド35ル85 キクド2〜10モル係である0また,共重合体ゴムのム
ーニー粘度1:ML1+4( 1 00C) ]は10
〜100である。
なお本発明の共重合体ゴムは、プロピレンオキシドの5
0モルL4までをエチレンオキシドに置換したものであ
りてもよい。
0モルL4までをエチレンオキシドに置換したものであ
りてもよい。
また、必要に応じて、OHO 、クロロプレンゴム。
塩素化ポリエチレン及び塩素含有アクリルゴムなどの塩
素含有ゴムを混合することも可能である。
素含有ゴムを混合することも可能である。
第一発明において用いられるジまたはトリチオール−8
−) IJアジン化合物は,一般式(X及びYは水素,
アルカリ金属またはアルカリ土類金属sRは○R1 、
SR1. NR1R2 s Rt及びR2は水素また
は置換基を含んでもよい炭素数1〜20の炭化水素残基
であり,R1とR2とは他の端でつながって環を形成し
てもよい。)で示される化合物である。ここでR1及び
R2を構成する炭化水素残基としては,メチル、エチル
。
−) IJアジン化合物は,一般式(X及びYは水素,
アルカリ金属またはアルカリ土類金属sRは○R1 、
SR1. NR1R2 s Rt及びR2は水素また
は置換基を含んでもよい炭素数1〜20の炭化水素残基
であり,R1とR2とは他の端でつながって環を形成し
てもよい。)で示される化合物である。ここでR1及び
R2を構成する炭化水素残基としては,メチル、エチル
。
ブチル、エチルヘキシルなどのアルキル基,シクロヘキ
シルナトのシクロアルキル基,ベンジル。
シルナトのシクロアルキル基,ベンジル。
メチルベンジル、エチルベンジルなどのアラルキル基,
フヱニル,ナフチル、ブチルフェニル、ヒドロキシ−ジ
−t−ブチルフェニルなどのアリール基または置換アリ
ール基,アリル、オレイルなどのアルケニル基などが例
示される。R1とR2とが他の端でつながりで他の環を
形成しているものとしては1モルホリノ、ピペリジル、
ビペコリルなどが例示される。
フヱニル,ナフチル、ブチルフェニル、ヒドロキシ−ジ
−t−ブチルフェニルなどのアリール基または置換アリ
ール基,アリル、オレイルなどのアルケニル基などが例
示される。R1とR2とが他の端でつながりで他の環を
形成しているものとしては1モルホリノ、ピペリジル、
ビペコリルなどが例示される。
核化合物の具体例としては,トリチオシアヌル酸;2−
メトキシ−12−エトキシ−、2−フェノキシ−12−
ブチルアミノ−12−アニリノ−12−ナフチルアミノ
−12−ジメチルアミノ−12−ジエチルアミノ−12
−ジブチルアミノ−12−ジフェニルアミノ−%2ージ
シクロへキシルアミノ−12−モルホリノ−又は2−ピ
ペリジル−4.6−シチオールー8−トリアジン;これ
らのトリアジンのナトリウム塩.カリウム塩,カルシウ
ム塩、マグネシウム塩.バリウム塩などが挙げられる◇ 第一発明で使用する第四級アンモニウム塩および第四級
ホスホニウム塩は、それぞれ次の一般式で示される化合
物である。
メトキシ−12−エトキシ−、2−フェノキシ−12−
ブチルアミノ−12−アニリノ−12−ナフチルアミノ
−12−ジメチルアミノ−12−ジエチルアミノ−12
−ジブチルアミノ−12−ジフェニルアミノ−%2ージ
シクロへキシルアミノ−12−モルホリノ−又は2−ピ
ペリジル−4.6−シチオールー8−トリアジン;これ
らのトリアジンのナトリウム塩.カリウム塩,カルシウ
ム塩、マグネシウム塩.バリウム塩などが挙げられる◇ 第一発明で使用する第四級アンモニウム塩および第四級
ホスホニウム塩は、それぞれ次の一般式で示される化合
物である。
一般式中のR3−R6はアルキル、アリール、アルキル
アリール、ポリオキシアルキレン基のような炭素数1〜
25程度の炭素原子を有する炭化水素基であるか、ある
いはR3−R6の内の2つあるいは3つが窒素原子ある
いはリン原子と複素環構造を形成するものであってもよ
い0 2は酸性の水素が−・ロゲンまたは酸素に結合している
無機または有機の酸から誘導される陰イオンであり、好
ましいものとしてF a at * Br 、工。
アリール、ポリオキシアルキレン基のような炭素数1〜
25程度の炭素原子を有する炭化水素基であるか、ある
いはR3−R6の内の2つあるいは3つが窒素原子ある
いはリン原子と複素環構造を形成するものであってもよ
い0 2は酸性の水素が−・ロゲンまたは酸素に結合している
無機または有機の酸から誘導される陰イオンであり、好
ましいものとしてF a at * Br 、工。
HSO3、H2PO4、R7COO、R70SO3、R
75O、R70PO3H(R7はR3−R6と同じ前記
の炭化水素基)などの陰イオンが挙げられる。
75O、R70PO3H(R7はR3−R6と同じ前記
の炭化水素基)などの陰イオンが挙げられる。
具体的な第四級アンモニウム塩の例としては。
テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルア
ンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロ
マイド、テトラブチルアンモニウムアイオダイド、n−
ドデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、セチルジ
メチルベンジルアンモニウムクロライド、メチルセチル
ジベンジルアンモニウムブロマイド、セチルジメチルエ
チルアンモニウムブロマイド、オクタデシルトリメチル
アンモニウムブロマイド、セチルピリジウムクロライド
、セチルピリジウムブロマイド、1.8−ジアザ−ビシ
クロ(5,4,(1)ウンデセン−7−メチルアンモニ
ウムメトサルフェート、1.8−ジアザ−ビシクロ(5
,4,0)ウンデセン−7−ベンジルアンモニウムクロ
ライド、セチルトリメチルアンモニウムアルキルフェノ
キシポリ(エチレンオキシ)エチルホスフェート、セチ
ルビリジウムアイオグイド、セチルピリジウムサルフェ
ート、テトラエチルアンモニウムアセデート、)!7メ
チルベンジルアンモニウムベンゾエート、トIJメチル
ベンジルアンモニウムバラトルエンスルホネート、トリ
メチルベンジルアンモニウムボレートなどがl’られる
。
ンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロ
マイド、テトラブチルアンモニウムアイオダイド、n−
ドデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、セチルジ
メチルベンジルアンモニウムクロライド、メチルセチル
ジベンジルアンモニウムブロマイド、セチルジメチルエ
チルアンモニウムブロマイド、オクタデシルトリメチル
アンモニウムブロマイド、セチルピリジウムクロライド
、セチルピリジウムブロマイド、1.8−ジアザ−ビシ
クロ(5,4,(1)ウンデセン−7−メチルアンモニ
ウムメトサルフェート、1.8−ジアザ−ビシクロ(5
,4,0)ウンデセン−7−ベンジルアンモニウムクロ
ライド、セチルトリメチルアンモニウムアルキルフェノ
キシポリ(エチレンオキシ)エチルホスフェート、セチ
ルビリジウムアイオグイド、セチルピリジウムサルフェ
ート、テトラエチルアンモニウムアセデート、)!7メ
チルベンジルアンモニウムベンゾエート、トIJメチル
ベンジルアンモニウムバラトルエンスルホネート、トリ
メチルベンジルアンモニウムボレートなどがl’られる
。
第四級ホスホニウム塩の例としては、トリエチルベンジ
ルホスホニウムクロライド、トリフェニルベンジルホス
ホニウムプロマイ);’、)リフェニルペンジルホスホ
ニウムアイオダイド、トリフェニルメトキシメチルホス
ホニウムクロライド、トリエチルベンジルホスホニウム
クロライド、トリシクロヘキシルベンジルホスホニウム
クロライド、トリオクチルメチルホスホニウムジメチル
ホスフェート、テトラブチルホスホニウムブロマイド、
トリオクチルメチルホスホニウムアセテートなどが挙げ
られる。
ルホスホニウムクロライド、トリフェニルベンジルホス
ホニウムプロマイ);’、)リフェニルペンジルホスホ
ニウムアイオダイド、トリフェニルメトキシメチルホス
ホニウムクロライド、トリエチルベンジルホスホニウム
クロライド、トリシクロヘキシルベンジルホスホニウム
クロライド、トリオクチルメチルホスホニウムジメチル
ホスフェート、テトラブチルホスホニウムブロマイド、
トリオクチルメチルホスホニウムアセテートなどが挙げ
られる。
これらの第四級アンモニウム塩または第四級ホスホニウ
ム塩は1種を、または2種以上を併せて用いることがで
きる。
ム塩は1種を、または2種以上を併せて用いることがで
きる。
第一発明において用いられる各化合物の共重合体ゴム1
00重量部当りの使用量は1通常■ジまたはトリチオー
ル−8−トリアジン化合物0.1〜10重量部、好まし
くは0.3〜5重量部、■第四級アンモニウム塩及び/
または第四級ホスホニウム塩0.1〜10重量部、好ま
しくは0.1〜5重量部である。
00重量部当りの使用量は1通常■ジまたはトリチオー
ル−8−トリアジン化合物0.1〜10重量部、好まし
くは0.3〜5重量部、■第四級アンモニウム塩及び/
または第四級ホスホニウム塩0.1〜10重量部、好ま
しくは0.1〜5重量部である。
第二発明において用いられるジまたはトリチオ−A/−
B−)IJアジンの第四級アンモニウム塩及び/′また
け第四級ホスホニウム塩誘導体は、一般式 (x’は第四級アンモニウム基または第四級ホスホニウ
ム基sY’は水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、
第四級アンモニウム基または第四級ホスホニウム基SR
′はOR’l 、 SR’l 、 NR’lR’2 。
B−)IJアジンの第四級アンモニウム塩及び/′また
け第四級ホスホニウム塩誘導体は、一般式 (x’は第四級アンモニウム基または第四級ホスホニウ
ム基sY’は水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、
第四級アンモニウム基または第四級ホスホニウム基SR
′はOR’l 、 SR’l 、 NR’lR’2 。
BY’ s R’l及びR′2は水素または置換基を含
んでもよい炭素数1〜20の炭化水素残基であり、R′
1とR′2とは他の端でつながって環を形成してもよい
。) で示される化合物である〇 ここでR′1及びR′2を構成する炭化水素残基としテ
ハ、メチル、エチル、フチル、エチルヘキシルなどのア
ルキル基、シクロヘキシルなどのシクロアルキル基、ベ
ンジル、メチルベンジル、エチルベンジルなどのアラル
キル基、フェニル、ナフチル、ブチルフェニル、ヒドロ
キシ−ジ−t−ブチルフェニルなどのアリール基オたは
置換子り−ル基、アリル、オレイルなどのアルケニル基
などが例示されるOR’lとR′2とが他の端でつなが
って他の環を形成しているものとしては1モルホリノ、
ピペリジル、ピベコリルなどが例示される。
んでもよい炭素数1〜20の炭化水素残基であり、R′
1とR′2とは他の端でつながって環を形成してもよい
。) で示される化合物である〇 ここでR′1及びR′2を構成する炭化水素残基としテ
ハ、メチル、エチル、フチル、エチルヘキシルなどのア
ルキル基、シクロヘキシルなどのシクロアルキル基、ベ
ンジル、メチルベンジル、エチルベンジルなどのアラル
キル基、フェニル、ナフチル、ブチルフェニル、ヒドロ
キシ−ジ−t−ブチルフェニルなどのアリール基オたは
置換子り−ル基、アリル、オレイルなどのアルケニル基
などが例示されるOR’lとR′2とが他の端でつなが
って他の環を形成しているものとしては1モルホリノ、
ピペリジル、ピベコリルなどが例示される。
本発明の第四級アンモニウム基及び第四級ホスホニウム
基は、それぞれ次の一般式で示される化合物である。
基は、それぞれ次の一般式で示される化合物である。
一般式中のR’3〜R/6はアルキル、アリール、アル
キルアリール、ポリオキシアルキレン基のような炭素数
1〜25穆度の炭素原子を有する炭化水素基であるか、
あるいはR′3〜R′6の内の2つあるいは5つが窒素
原子あるいはリン原子と複素環構造を形成するものであ
ってもよい。
キルアリール、ポリオキシアルキレン基のような炭素数
1〜25穆度の炭素原子を有する炭化水素基であるか、
あるいはR′3〜R′6の内の2つあるいは5つが窒素
原子あるいはリン原子と複素環構造を形成するものであ
ってもよい。
該誘導体の具体例としては、トリチオシアヌル酸12−
メトキシ−12−エトキシ−12−フェノキシ−12−
ブチルアミノ−12−アニリノ−12−ナフチルアミノ
−,2−ジメチルアミノ−12−ジエチルアミノ−12
−ジブチルアミノ−22−ジフェニルアミノ−12−ジ
シクロヘキシルアミノ−12−モルホリノ−又は2−ピ
ペリジル−4,6−シチオールー8−トリアジン;これ
らのトリアジンのナトリウム塩、カリウム塩、カル7
′ラム塩、マグネシウム塩、バリウム塩などの第
四級アンモニウム塩及び/または第四級ホスホニウム塩
が挙げられる0 具体的な第四級アンモニウム塩の例としては、テトラメ
チルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テ
トラプロピルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウ
ム塩、n−ドデシルトリメチルアンモニウム塩、セチル
ジメチルベンジルアンモニウム塩、メチルセチルジベン
ジルアンモニウム塩、セチルジメチルエチルアンモニウ
ム塩。
メトキシ−12−エトキシ−12−フェノキシ−12−
ブチルアミノ−12−アニリノ−12−ナフチルアミノ
−,2−ジメチルアミノ−12−ジエチルアミノ−12
−ジブチルアミノ−22−ジフェニルアミノ−12−ジ
シクロヘキシルアミノ−12−モルホリノ−又は2−ピ
ペリジル−4,6−シチオールー8−トリアジン;これ
らのトリアジンのナトリウム塩、カリウム塩、カル7
′ラム塩、マグネシウム塩、バリウム塩などの第
四級アンモニウム塩及び/または第四級ホスホニウム塩
が挙げられる0 具体的な第四級アンモニウム塩の例としては、テトラメ
チルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テ
トラプロピルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウ
ム塩、n−ドデシルトリメチルアンモニウム塩、セチル
ジメチルベンジルアンモニウム塩、メチルセチルジベン
ジルアンモニウム塩、セチルジメチルエチルアンモニウ
ム塩。
オクタデシルトリメチルアンモニウム塩、セチルピリジ
ウム塩、1.8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウン
デセン−7−メチルアンモニウム塩などが挙げられる。
ウム塩、1.8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウン
デセン−7−メチルアンモニウム塩などが挙げられる。
第四級ホスホニウム塩の例としては、テトラブチルホス
ホニウム塩、トリオクチルメチルホスホニウム塩、テト
ラフェニルホスホニウム塩、トリフェニルベンジルホス
ホニウム!、−ト、lJフェニルメトキシメチルホスホ
ニウム塩、トリエチルベンジルホスホニウム塩、トリシ
クロへキシルベンジルホスホニウム塩などが挙げられる
。
ホニウム塩、トリオクチルメチルホスホニウム塩、テト
ラフェニルホスホニウム塩、トリフェニルベンジルホス
ホニウム!、−ト、lJフェニルメトキシメチルホスホ
ニウム塩、トリエチルベンジルホスホニウム塩、トリシ
クロへキシルベンジルホスホニウム塩などが挙げられる
。
第二発明の誘導体は、これらの第四級アンモニウム塩ま
たは第四級ホスホニウム塩の1種を、または2種以上を
併せてもつことができる。
たは第四級ホスホニウム塩の1種を、または2種以上を
併せてもつことができる。
第二発明のジまたはトリチオール−8−トリアジンの第
四級アンモニウム塩または第四級ホスホニウム塩誘導体
は1例えば、ジまたはトリチオール−E!−)リアジン
のアルカリ金属塩のアルコール溶液に、当量の第四級ア
ンモニウム塩または第四級ホスホニウム塩をかきまぜな
がら滴下し、生成する沈殿を濾過、水洗、乾燥すること
によって容易に合成することができる〇 なお、第二発明の誘導体に、ジまたはトリチオール−8
−トリアジン化合物を併せて用いることができる。
四級アンモニウム塩または第四級ホスホニウム塩誘導体
は1例えば、ジまたはトリチオール−E!−)リアジン
のアルカリ金属塩のアルコール溶液に、当量の第四級ア
ンモニウム塩または第四級ホスホニウム塩をかきまぜな
がら滴下し、生成する沈殿を濾過、水洗、乾燥すること
によって容易に合成することができる〇 なお、第二発明の誘導体に、ジまたはトリチオール−8
−トリアジン化合物を併せて用いることができる。
第二発明において用いられる誘導体の使用量は。
共重合体ゴム100重量部当り、0.1〜10重憧部、
好ましくけ0.3〜5重量部である。
好ましくけ0.3〜5重量部である。
本発明のゴム組成物は、前記第一発明の■及び■、又は
第二発明の誘導体のほかに、必要に応じて補強剤、充填
剤、可塑剤、加硫助剤(例えば金属の酸化物、水酸化物
、炭酸塩及び有機酸塩など)。
第二発明の誘導体のほかに、必要に応じて補強剤、充填
剤、可塑剤、加硫助剤(例えば金属の酸化物、水酸化物
、炭酸塩及び有機酸塩など)。
老化防止剤、安定剤などの通常の配合剤をロールまたは
バンバリーミキサ−のような通常の混合機によって混合
することによって調製される。この組成物を通常100
〜180Cで数分ないし数時間加熱することにより加硫
物が得られる。
バンバリーミキサ−のような通常の混合機によって混合
することによって調製される。この組成物を通常100
〜180Cで数分ないし数時間加熱することにより加硫
物が得られる。
本発明のゴム組成物は、加硫速度が大きく、しかも、そ
の加硫物は、圧縮永久ひずみが低いばかりです<、エビ
クロルヒドリンープロピレンオキシト系共重合体ゴム加
硫物の有する耐油性、耐屈曲性、耐熱性、耐寒性及び動
的オゾン性が綜合的に優れているので、自動車のホース
カバー等のほか、特にダストカバーブーツやベルトなど
の動的特性を必要とする部品に有用である。
の加硫物は、圧縮永久ひずみが低いばかりです<、エビ
クロルヒドリンープロピレンオキシト系共重合体ゴム加
硫物の有する耐油性、耐屈曲性、耐熱性、耐寒性及び動
的オゾン性が綜合的に優れているので、自動車のホース
カバー等のほか、特にダストカバーブーツやベルトなど
の動的特性を必要とする部品に有用である。
(実施例)
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
。なお、実施例、比較例中の部及び係はとくに断りのな
いかぎり重量基準である〇実施例1 有機アルミニウム化合物系重合触媒を用いて公知の溶液
重合法により調製したエピクロルヒドリン(30モル係
)−プロピレンオキシド(67モル係)−アリルグリシ
ジルエーテル(5モル係)三元共重合体ゴムを下記の配
合処方に従って他の配合剤とともに冷却ロールで混合し
、得られたゴム組成物のムーニースコーチ時間を測定し
た0次いで170Cで15分間加圧、加熱することによ
り加硫物を調製し念。この加硫物の特性なJ工5K−6
301に従って測定した。結果を第1表に示す。
。なお、実施例、比較例中の部及び係はとくに断りのな
いかぎり重量基準である〇実施例1 有機アルミニウム化合物系重合触媒を用いて公知の溶液
重合法により調製したエピクロルヒドリン(30モル係
)−プロピレンオキシド(67モル係)−アリルグリシ
ジルエーテル(5モル係)三元共重合体ゴムを下記の配
合処方に従って他の配合剤とともに冷却ロールで混合し
、得られたゴム組成物のムーニースコーチ時間を測定し
た0次いで170Cで15分間加圧、加熱することによ
り加硫物を調製し念。この加硫物の特性なJ工5K−6
301に従って測定した。結果を第1表に示す。
配合処方
三元共重合体ゴム 100(部)ステ
アリン酸 5HAF’カーボン
ブラツク 40酸化マグネシウム
32.4.(S−トリメルカプト−a−
トリアジン 0.9ニツケル
ジブチルジチオカーバイト1.5第四級アンモニウム塩
5.08X10 モル実施例2 第四級ホスホニウム塩を用いたほかは実施例1と同様の
試験を行った。結果を第2表に示す。
アリン酸 5HAF’カーボン
ブラツク 40酸化マグネシウム
32.4.(S−トリメルカプト−a−
トリアジン 0.9ニツケル
ジブチルジチオカーバイト1.5第四級アンモニウム塩
5.08X10 モル実施例2 第四級ホスホニウム塩を用いたほかは実施例1と同様の
試験を行った。結果を第2表に示す。
実施例3
実施例1に同様に下記の配合処方にて試験を行った。結
果を第3表に示す。
果を第3表に示す。
配合処方
三元共重合体ゴム 100(部)ス
テアリン酸 3.5HAFカ
ーボンブラツク 40酸化マグネシウ
ム 32.4.6−)ジメルカプ
ト−8−トリアジン 0.
9ニツクIにンノチ九6七たナカーヅ(メート1.5シ
クロヘキシルチオフタルイミド
0.5第5表 実施例4 ジまたはトリチオール−8−トリアジン化合物として、
2−ジブチルアミノ−4,6−ジメルカブトーa−トv
アジンを1.4部用いたほかは実施例1と同様の実験を
行った0結果を第4表に示す。
テアリン酸 3.5HAFカ
ーボンブラツク 40酸化マグネシウ
ム 32.4.6−)ジメルカプ
ト−8−トリアジン 0.
9ニツクIにンノチ九6七たナカーヅ(メート1.5シ
クロヘキシルチオフタルイミド
0.5第5表 実施例4 ジまたはトリチオール−8−トリアジン化合物として、
2−ジブチルアミノ−4,6−ジメルカブトーa−トv
アジンを1.4部用いたほかは実施例1と同様の実験を
行った0結果を第4表に示す。
第4表
実施例5
エピクロルヒドリン(30モル%)−フロピレンオキシ
ド(70モル優)共重合体ゴムを下記の配合処方に従っ
て、実施例1と同様の試験を行った。結果を第5表に示
す。
ド(70モル優)共重合体ゴムを下記の配合処方に従っ
て、実施例1と同様の試験を行った。結果を第5表に示
す。
配合処方
共重合体ゴム 100(部)ステア
リン酸 6FEFカーボンブラ
ツク 40酸化マグネシウム
32.4.6−ドリメルカブトー日−トリアジ
ン 0.9ニツケルジブチルジチオカーバ
メート1.5第四級アンモニウム塩5.08X10−6
4ル第5表 実施例6 下記の配合処方に従ったほかは実施例1と同様の実験を
行った。結果を第6表に示す。
リン酸 6FEFカーボンブラ
ツク 40酸化マグネシウム
32.4.6−ドリメルカブトー日−トリアジ
ン 0.9ニツケルジブチルジチオカーバ
メート1.5第四級アンモニウム塩5.08X10−6
4ル第5表 実施例6 下記の配合処方に従ったほかは実施例1と同様の実験を
行った。結果を第6表に示す。
配合処方
三元共重合体ゴム 100(部)ソル
ビタン・モノステアレート 3HAFカ
ーボンブラツク 30酸化マグネシウム
6トリアジン誘導体
第6表参照ニッケルジブチルジチオカーバメート
1.5実施例7 実施例6と同様に下記の配合処方にて試験を行った。結
果を第7表に示す。
ビタン・モノステアレート 3HAFカ
ーボンブラツク 30酸化マグネシウム
6トリアジン誘導体
第6表参照ニッケルジブチルジチオカーバメート
1.5実施例7 実施例6と同様に下記の配合処方にて試験を行った。結
果を第7表に示す。
配合処方
三元共重合体ゴム 100(部)ンル
ビタンモノステアレート 5HAPカー
ボンブラツク 45酸化マグネシウム
3ニツケルジブチルジチオカーバ
メート 1.5第7表 $1 2.4.6−ドリメルカブトーs−トリアジン*
22−テトラプロピルアンモニウム−4,6−ジメルカ
ブトー8−トリアジン
ビタンモノステアレート 5HAPカー
ボンブラツク 45酸化マグネシウム
3ニツケルジブチルジチオカーバ
メート 1.5第7表 $1 2.4.6−ドリメルカブトーs−トリアジン*
22−テトラプロピルアンモニウム−4,6−ジメルカ
ブトー8−トリアジン
Claims (2)
- (1)エピクロルヒドリン、プロピレンオキシド及び所
望により不飽和エポキシドよりなる共重合体ゴムに、[
1]ジまたはトリチオール−s−トリアジン化合物並び
に[2]第四級アンモニウム塩及び/または第四級ホス
ホニウム塩を配合してなることを特徴とする加硫特性の
優れたゴム組成物。 - (2)エピクロルヒドリン、プロピレンオキシド及び所
望により不飽和エポキシドよりなる共重合体ゴムに、ジ
またはトリチオール−s−トリアジンの第四級アンモニ
ウム塩及び/または第四級ホスホニウム塩誘導体を配合
してなることを特徴とする加硫特性の優れたゴム組成物
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4101688A JPS63314271A (ja) | 1987-02-25 | 1988-02-24 | 加硫特性の優れたゴム組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4213187 | 1987-02-25 | ||
JP62-42131 | 1987-02-25 | ||
JP4101688A JPS63314271A (ja) | 1987-02-25 | 1988-02-24 | 加硫特性の優れたゴム組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63314271A true JPS63314271A (ja) | 1988-12-22 |
Family
ID=26380542
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4101688A Pending JPS63314271A (ja) | 1987-02-25 | 1988-02-24 | 加硫特性の優れたゴム組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63314271A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58222129A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-23 | Nippon Zeon Co Ltd | 含ハロゲンエラストマ−の架橋方法 |
JPS6065048A (ja) * | 1983-09-21 | 1985-04-13 | Nippon Zeon Co Ltd | 共架橋性フツ素ゴム含有組成物 |
JPS6067149A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-17 | 日本ゼオン株式会社 | ゴム積層体の製造方法 |
JPS6099149A (ja) * | 1983-11-02 | 1985-06-03 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ゴム組成物 |
JPS61174258A (ja) * | 1985-01-28 | 1986-08-05 | Nok Corp | エラストマ−組成物 |
-
1988
- 1988-02-24 JP JP4101688A patent/JPS63314271A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58222129A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-23 | Nippon Zeon Co Ltd | 含ハロゲンエラストマ−の架橋方法 |
JPS6065048A (ja) * | 1983-09-21 | 1985-04-13 | Nippon Zeon Co Ltd | 共架橋性フツ素ゴム含有組成物 |
JPS6067149A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-17 | 日本ゼオン株式会社 | ゴム積層体の製造方法 |
JPS6099149A (ja) * | 1983-11-02 | 1985-06-03 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ゴム組成物 |
JPS61174258A (ja) * | 1985-01-28 | 1986-08-05 | Nok Corp | エラストマ−組成物 |
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