JPS63307274A - 工作物を被覆室へ供給及び搬出するための装置 - Google Patents
工作物を被覆室へ供給及び搬出するための装置Info
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- JPS63307274A JPS63307274A JP63117167A JP11716788A JPS63307274A JP S63307274 A JPS63307274 A JP S63307274A JP 63117167 A JP63117167 A JP 63117167A JP 11716788 A JP11716788 A JP 11716788A JP S63307274 A JPS63307274 A JP S63307274A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/139—Associated with semiconductor wafer handling including wafer charging or discharging means for vacuum chamber
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、扁平な工作物を真空にされた被覆室に供給及
び搬出するための装置であって、工作物表面を処理する
ための被覆源の区分内へ工作物を導きかつ被覆源の区分
から戻す形式のものに関する。
び搬出するための装置であって、工作物表面を処理する
ための被覆源の区分内へ工作物を導きかつ被覆源の区分
から戻す形式のものに関する。
前記形式の公知の装置（ＵＳ−Ｐｓ 第３８７４５２
５号）は被覆室を有しており、この被覆室内では２腕状
のつかみ工具が垂直な軸を中心として回転可能に支承さ
れている。このような２腕状の工具は互いに直径方向に
向いた端部にフォークを有しており、フォークが駆動モ
ータを備えたラック伝動装置を用いて垂直な平面内で互
いに逆向きに運動させられる。さらに２つの支えが被覆
室内に設けられており、一方の支えは被覆室のカバーの
ロックゲートの下側に配置されており、他方の支えはロ
ックゲートの下側の支えに相対する側で電子ガンの下側
に配置されている。
５号）は被覆室を有しており、この被覆室内では２腕状
のつかみ工具が垂直な軸を中心として回転可能に支承さ
れている。このような２腕状の工具は互いに直径方向に
向いた端部にフォークを有しており、フォークが駆動モ
ータを備えたラック伝動装置を用いて垂直な平面内で互
いに逆向きに運動させられる。さらに２つの支えが被覆
室内に設けられており、一方の支えは被覆室のカバーの
ロックゲートの下側に配置されており、他方の支えはロ
ックゲートの下側の支えに相対する側で電子ガンの下側
に配置されている。
公知の装置においては欠点として、２腕状のつかみ工具
は比較的高価な構造を有し、作動が不確かである。それ
というのは駆動が複雑な歯車伝送装置によって生ぜしめ
られるからである。さらに、工作物がフォーク状の工具
によって十分につかまれず、傾いて受容されるが、完全
に工具から外れ、被覆室の底面に落下し、これは装置全
体の故障につながる。さらに公知の装置は大きな構成高
さを必要とし、被覆室の容積が不都合に大きくなる。
は比較的高価な構造を有し、作動が不確かである。それ
というのは駆動が複雑な歯車伝送装置によって生ぜしめ
られるからである。さらに、工作物がフォーク状の工具
によって十分につかまれず、傾いて受容されるが、完全
に工具から外れ、被覆室の底面に落下し、これは装置全
体の故障につながる。さらに公知の装置は大きな構成高
さを必要とし、被覆室の容積が不都合に大きくなる。
従って本発明の課題は、扁平な工作物を真空にされた被
覆室に供給及び搬出する装置が確実に作動し、被覆室に
とってわずかな容積しか必要とせずかつ、たわみ変形可
能な材料から成る薄く傷付き易い工作物のためにも適し
ているようにすることである。
覆室に供給及び搬出する装置が確実に作動し、被覆室に
とってわずかな容積しか必要とせずかつ、たわみ変形可
能な材料から成る薄く傷付き易い工作物のためにも適し
ているようにすることである。
本発明の前記課題を解決するために本発明の構成では、
被覆室の区分に配置された被覆装置が単数若しくは複数
のカバー状の工作物支持体を備えており、工作物支持体
を用いて工作物が被覆室の１つの開口に隣接する位置へ
移されるようになっており、この位置から開口が一方で
は工作物支持体によってかつ他方では行程円板によって
閉鎖されるようになっており、行程円板が被覆室内に回
転可能に支承された回転円板に保持されかつ案内されて
おり、工作物支持体が被覆装置に支えられた行程シリン
ダによって被覆室のカバーの開口に、かつ行程円板が底
部プレートに取り付けられた行程装置によって圧着され
るようになっている。
被覆室の区分に配置された被覆装置が単数若しくは複数
のカバー状の工作物支持体を備えており、工作物支持体
を用いて工作物が被覆室の１つの開口に隣接する位置へ
移されるようになっており、この位置から開口が一方で
は工作物支持体によってかつ他方では行程円板によって
閉鎖されるようになっており、行程円板が被覆室内に回
転可能に支承された回転円板に保持されかつ案内されて
おり、工作物支持体が被覆装置に支えられた行程シリン
ダによって被覆室のカバーの開口に、かつ行程円板が底
部プレートに取り付けられた行程装置によって圧着され
るようになっている。
有利には、被覆室のカバーの第１の開口が回転円板の回
転軸に対して、被覆室のカバーの、ターゲットを上に配
置される第２の開口と回転軸との間の距離に相応する距
離を有している。
転軸に対して、被覆室のカバーの、ターゲットを上に配
置される第２の開口と回転軸との間の距離に相応する距
離を有している。
さらに有利には、被覆室のカバーの第１の開口がカバー
に不動に配置された供給リングによって制限されており
、供給リングが段付き孔を有しており、段付き孔の径の
大きい段部が工作物支持体に向いた側に設けられており
、工作物支持体が循環するフランジ状の縁部を有してお
り、縁部が寸法を開口を閉鎖するために供給リングの段
部に接触するように決められている。
に不動に配置された供給リングによって制限されており
、供給リングが段付き孔を有しており、段付き孔の径の
大きい段部が工作物支持体に向いた側に設けられており
、工作物支持体が循環するフランジ状の縁部を有してお
り、縁部が寸法を開口を閉鎖するために供給リングの段
部に接触するように決められている。
供給の際に工作物を工作物支持体から確実に分離しかつ
真空の損失を最小にするために、被覆室のカバーに不動
に配置された供給リングが半径方向に延びる単数若しく
は複数の通路を有しており、この通路がポンプ吸込導管
若しくはポンプ接続部に接続された孔と連通していて、
工作物支持体及び行程円板の供給リングに載せられた場
合に供給リングの開口の、工作物支持体と行程円板とに
よって形成された中間室若しくは間隙の部分に通じてい
る。
真空の損失を最小にするために、被覆室のカバーに不動
に配置された供給リングが半径方向に延びる単数若しく
は複数の通路を有しており、この通路がポンプ吸込導管
若しくはポンプ接続部に接続された孔と連通していて、
工作物支持体及び行程円板の供給リングに載せられた場
合に供給リングの開口の、工作物支持体と行程円板とに
よって形成された中間室若しくは間隙の部分に通じてい
る。
有利には、被覆装置が被覆室のカバーの上側に堅く配置
された旋回モータを有しており、旋回モータの駆動軸が
駆動軸に対して横方向に延びる旋回アームに回動不能に
結合されており、少なくとも一方の旋回アーム端部に行
程モータ若しくは行程シリンダが配置されており、行程
モータの駆動軸若しくは行程シリンダのピストンロッド
が被覆室の面に対して垂直に延びていて工作物支持体と
作用結合している。
された旋回モータを有しており、旋回モータの駆動軸が
駆動軸に対して横方向に延びる旋回アームに回動不能に
結合されており、少なくとも一方の旋回アーム端部に行
程モータ若しくは行程シリンダが配置されており、行程
モータの駆動軸若しくは行程シリンダのピストンロッド
が被覆室の面に対して垂直に延びていて工作物支持体と
作用結合している。
被覆室の底部プレートに配置された行程装置が有利には
磁気的に、液力的に若しくは空気力的に駆動可能なモー
タから成っており、モータがピストンロッド若しくは押
し棒を駆動するようになっており、ピストンロッド若し
くは押し棒がシール状態で底部プレートを通して案内さ
れ、走出行程中にピンに作用するようになっていて、回
転円板の切欠き内に降下可能な行程円板の一部分である
。
磁気的に、液力的に若しくは空気力的に駆動可能なモー
タから成っており、モータがピストンロッド若しくは押
し棒を駆動するようになっており、ピストンロッド若し
くは押し棒がシール状態で底部プレートを通して案内さ
れ、走出行程中にピンに作用するようになっていて、回
転円板の切欠き内に降下可能な行程円板の一部分である
。
工作物を被覆室内のロックゲートステイションへ確実か
つ迅速に供給するために、回転円板の上側と下側とが面
平行に構成されていて、カバー及び底部ブレー；・の内
側に対して距離を置いて延びており、回転円板とカバー
との間でカバーの内面にシール条片が不動に配置されて
いて、回転円板とカバーとの間に残る間隙状の空間を２
つの区分に分割して、一方の区分から他方の区分へのガ
スのオーバフロをほぼ防止するさらに有利な構成が請求
項８以下に記載しである。
つ迅速に供給するために、回転円板の上側と下側とが面
平行に構成されていて、カバー及び底部ブレー；・の内
側に対して距離を置いて延びており、回転円板とカバー
との間でカバーの内面にシール条片が不動に配置されて
いて、回転円板とカバーとの間に残る間隙状の空間を２
つの区分に分割して、一方の区分から他方の区分へのガ
スのオーバフロをほぼ防止するさらに有利な構成が請求
項８以下に記載しである。
次ぎに図面を用いて本発明の実施例を具体的に説明する
。
。
第１図に示すように、ケース状の機械フレーム１は複数
の桁２〜７によって構成されており、下側の桁３上には
真空ボン／８及び水バッテリ１３が保持されており、真
空ポンプは測定管９、空気流入フィルタＩＯ及び圧力ス
イッチｌｌから成る真空制御ユニット１２を有している
。桁６．７によって形成された中央のフレーム上には空
気力式の両方の駆動ユニッ１−１４．１−１２＝ ５、支え１６及びトーション緩衝装置１７から成る旋回
モータ１８が支持されている。垂直に延びる桁２には圧
縮空気を異なるユニットに供給するための弁ブロック１
９が配置されている。桁５によって形成された上側のフ
レーム２０は被覆室２１を支持しており、この被覆室の
下側には被覆装置２２及び陰極室２３が配置されている
。被覆装置に所属して工作物供給装置２４が配置されて
いる。工作物供給装置は図示の実施例では保持アーム２
６、保持ビン２７及びライトバリア２５から成っている
が、搬送ベルト若しくは自動的に作動する装置から構成
され・ていてよい。
の桁２〜７によって構成されており、下側の桁３上には
真空ボン／８及び水バッテリ１３が保持されており、真
空ポンプは測定管９、空気流入フィルタＩＯ及び圧力ス
イッチｌｌから成る真空制御ユニット１２を有している
。桁６．７によって形成された中央のフレーム上には空
気力式の両方の駆動ユニッ１−１４．１−１２＝ ５、支え１６及びトーション緩衝装置１７から成る旋回
モータ１８が支持されている。垂直に延びる桁２には圧
縮空気を異なるユニットに供給するための弁ブロック１
９が配置されている。桁５によって形成された上側のフ
レーム２０は被覆室２１を支持しており、この被覆室の
下側には被覆装置２２及び陰極室２３が配置されている
。被覆装置に所属して工作物供給装置２４が配置されて
いる。工作物供給装置は図示の実施例では保持アーム２
６、保持ビン２７及びライトバリア２５から成っている
が、搬送ベルト若しくは自動的に作動する装置から構成
され・ていてよい。
機械フレームｌの横には制御キャビネット２８を配置し
てあり、制御キャビネットは電気的な制御部材（図示せ
ず）を収容している。制御キャビネット２８の上側には
垂直に延びる支承管２９が設けられており、この支承管
に旋回可能及び高さ調節可能なジブクレーン３０が支承
されている。ジブクレーンは吊り下げ部３１、圧縮空気
貯蔵部３２．３３及びジブクレーンの駆動のための圧縮
空気モータ３４を備えている陰極室２３は冷却媒体供給
及び排出部３６を受容するための上側部分３５及び電気
的な接続部（図示せず）を有している。陰極室２３の下
側部分３７にはターゲット３９を備えた陰極３８が保持
されている。、さらに、ガスを調節供給するための装置
４０ （第２図）及び水コツク４１が設けられている。
てあり、制御キャビネットは電気的な制御部材（図示せ
ず）を収容している。制御キャビネット２８の上側には
垂直に延びる支承管２９が設けられており、この支承管
に旋回可能及び高さ調節可能なジブクレーン３０が支承
されている。ジブクレーンは吊り下げ部３１、圧縮空気
貯蔵部３２．３３及びジブクレーンの駆動のための圧縮
空気モータ３４を備えている陰極室２３は冷却媒体供給
及び排出部３６を受容するための上側部分３５及び電気
的な接続部（図示せず）を有している。陰極室２３の下
側部分３７にはターゲット３９を備えた陰極３８が保持
されている。、さらに、ガスを調節供給するための装置
４０ （第２図）及び水コツク４１が設けられている。
ＰＶＤ一方法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐ
ｏｓｉｔｉｏｎ ）のために適した被覆源として構成さ
れた陰極３８は部分的にシ′ニード４２によって取り囲
まれ（第４図）、下方に対しマスク４３によって被覆室
２１から仕切られている。マスク４３はシェード４２と
一緒に被覆室２１のウェブ１０２に保持され、底部プレ
ート４７の距離制御装置１０６に支えられており、この
場合マスク４３及びシェード４２を保持するフランジ４
５は冷却通路４６によって貫通されている。
ｏｓｉｔｉｏｎ ）のために適した被覆源として構成さ
れた陰極３８は部分的にシ′ニード４２によって取り囲
まれ（第４図）、下方に対しマスク４３によって被覆室
２１から仕切られている。マスク４３はシェード４２と
一緒に被覆室２１のウェブ１０２に保持され、底部プレ
ート４７の距離制御装置１０６に支えられており、この
場合マスク４３及びシェード４２を保持するフランジ４
５は冷却通路４６によって貫通されている。
被覆室２１内のカバー４４と底部プレート４７との間で
、回転円板４８が旋回モータ１８の軸４９に配置されて
いる。回転円板４８ （第５図）は上側に行程円板５２
．５３を保持するための切欠き５０．５１を備えており
、行程円板はピン５４．５５を介して、底部プレート４
７に取り付けられた行程装置５８．５９の押し棒５６．
５７と合致している。
、回転円板４８が旋回モータ１８の軸４９に配置されて
いる。回転円板４８ （第５図）は上側に行程円板５２
．５３を保持するための切欠き５０．５１を備えており
、行程円板はピン５４．５５を介して、底部プレート４
７に取り付けられた行程装置５８．５９の押し棒５６．
５７と合致している。
被覆室２１の底部プレート４７は先導体貫通案内６０．
６１及び真空ポンプ接続部６２を有しており、真空ポン
プ接続部は第７図に、カバー４４に取り付けられた供給
リング６３と一緒に詳細に示しである。さらに、底部プ
レート４７は両方の真空ポンプ８４．８５を保持してい
る。
６１及び真空ポンプ接続部６２を有しており、真空ポン
プ接続部は第７図に、カバー４４に取り付けられた供給
リング６３と一緒に詳細に示しである。さらに、底部プ
レート４７は両方の真空ポンプ８４．８５を保持してい
る。
カバー４４に配置された被覆装置２２は第３図に詳細に
示してあって、軸６５゛を備えた旋回モータ６４、旋回
アーム６６、両方の工作物支持体６７．６８及び、ホー
ス導管７７．７８を介して弁ブロック１９に接続された
空気力式に駆動可能な行程シリンダ６９．７０から成っ
ている。各工作物支持体６７．６８は吸引ノズル７１．
７２を備えており、吸引ノズルは室７３、通路７４及び
接続管７５を介して、弁ブロック１９のホース導管７６
．７９に接続されている。さらに、被覆室２１のカバー
４４には工作物支持体６７．６８の位置を信号化するラ
イトバリア８０が取り付けられている。
示してあって、軸６５゛を備えた旋回モータ６４、旋回
アーム６６、両方の工作物支持体６７．６８及び、ホー
ス導管７７．７８を介して弁ブロック１９に接続された
空気力式に駆動可能な行程シリンダ６９．７０から成っ
ている。各工作物支持体６７．６８は吸引ノズル７１．
７２を備えており、吸引ノズルは室７３、通路７４及び
接続管７５を介して、弁ブロック１９のホース導管７６
．７９に接続されている。さらに、被覆室２１のカバー
４４には工作物支持体６７．６８の位置を信号化するラ
イトバリア８０が取り付けられている。
被覆装置２２は次のように作動する：工作物供給装置２
４の保持ピン２７上に工作物１０３（例えば円形プレー
ト状のプラスチック保持体、サブストレート若しくはウ
ェーハ（Ｗａｆｅｒ））が載せられると、ライトバリア
２５が電気的な信号を電気的な制御ユニット （図示せ
ず）に送り、制御ユニットが行程シリンダを作動させ、
行程シリンダが工作物支持体６８を工作物１０３まで降
下させられ（下側の位置）、吸引装置７１から７４が工
作物１０３を受は取る。次いで、工作物支持体６８が工
作物１０３と一緒に上側の位置に移動し、旋回モータ６
４によって駆動される旋回アーム６６の旋回運動が生ぜ
しめられ、その結果工作物支持体６８が陰極３８に向い
た第２の位置を占める。第２の位置に達した後に、行程
シリンダ７０がそれぞれの工作物支持体６８若しくは６
７を下方へ運動させ、工作物支持体（工作物支持体の降
下させられた位置は第３図に示しである）が循環する縁
部８１若しくは８２で供給リング６３の段部８３に直接
に接触する（第７図）。この段階中に、行程円板５３が
上側の位置で行程装置５９の押し棒５７によって直接に
下側から供給リング６３の下側８９に圧着され、開口９
０を閉じている。真空ポンプ接続部６２及び真空ポンプ
接続部と連通する孔９１．９２を介して行程円板５３の
上側９１と工作物支持体６８の下側との間の間隙内の空
気が吸引されることによって、工作物支持体６８の降下
の後に直ちに真空が生ぜしめられ、円板状の工作物１０
３が工作物支持体６８から分離されかつ行程円板５３の
くぼめられた上側に堆積される。次の作業サイクルで行
程円板５３が空気力式の行程装置５９によって降下させ
られ、切欠き５Ｉの底部表面９６に接触し、この場合行
程円板５３の上側が回転円板４８の上側９７と正確に合
致する。行程装置５９の押し棒５７が下側の位置を占め
た後に（第６図）、旋回モータ１８が作動し、回転円板
４８の第６図で左側の部分を右側の位置へ旋回させ、す
なわち回転円板４８のピン５５が押し棒５６と合致する
。この位置で行程装置５８が押し棒５６及びピン５５を
介して行程円板５３を上側へ運動させ、行程円板５３の
上に載っている工作物１０３がマスク４３の下側８９に
接触し、この場合ピン９９が中心孔を備えた工作物１０
３ （図示せず）を正確に位置決めする。次の作業段階
で、工作物１０３がターゲット３９を介してスパッタリ
ング（すなわち、被覆）され、この場合切欠き１００及
び１０１を備えた円板状のマスク４３及びシェード４２
が陰極室２３の下側３７の内面と回転円板４８との望ま
しくない被覆を防止する。引き続く作業サイクルで（工
作物１０３の被覆の行われた後に）行程円板５３が再び
降下させられ（これは第４図において行程円板５２の実
施例で一点鎖線によって示しである）、次いで回転円板
４８の１８０度の旋回によって第６図に示す位置に移さ
れる。今や、行程装置５９を用いて行程円板５３が持ち
上げられ、供給リング６３の下側８９に接触させられる
。供給開口９０を上側から閉鎖する工作物支持体６８と
下側から供給リング６３に圧着された行程円板５３との
間の間隙の吸引が遮断させられ、従って第３図に工作物
支持体６７の実施例で示した吸引ノズル７１７２が工作
物１０３を受容でき、次いで工作物支持体６８が行程シ
リンダ７０によって持ち上げられ、出発位置へ旋回させ
られ（これは第１図及び第３図に示しである）、この出
発位置で行程シリンダ７０が工作物１．０３を再び保持
ピン２７に下ろす。工作物支持体６８の実施例で述べた
作用形式は工作物支持体６７にとっても当てはまり、図
面から明らかなように、運転中宮に交互に一方の工作物
支持体６７若しくは他方の工作物支持体６８が保持ピン
２７若しくは供給リング６３上にある。さらに図面から
明らがなように、回転円板４８も旋回アーム６６の運動
に同期的な作業サイクルで一方の位置から他方の位置へ
運動させられる。
４の保持ピン２７上に工作物１０３（例えば円形プレー
ト状のプラスチック保持体、サブストレート若しくはウ
ェーハ（Ｗａｆｅｒ））が載せられると、ライトバリア
２５が電気的な信号を電気的な制御ユニット （図示せ
ず）に送り、制御ユニットが行程シリンダを作動させ、
行程シリンダが工作物支持体６８を工作物１０３まで降
下させられ（下側の位置）、吸引装置７１から７４が工
作物１０３を受は取る。次いで、工作物支持体６８が工
作物１０３と一緒に上側の位置に移動し、旋回モータ６
４によって駆動される旋回アーム６６の旋回運動が生ぜ
しめられ、その結果工作物支持体６８が陰極３８に向い
た第２の位置を占める。第２の位置に達した後に、行程
シリンダ７０がそれぞれの工作物支持体６８若しくは６
７を下方へ運動させ、工作物支持体（工作物支持体の降
下させられた位置は第３図に示しである）が循環する縁
部８１若しくは８２で供給リング６３の段部８３に直接
に接触する（第７図）。この段階中に、行程円板５３が
上側の位置で行程装置５９の押し棒５７によって直接に
下側から供給リング６３の下側８９に圧着され、開口９
０を閉じている。真空ポンプ接続部６２及び真空ポンプ
接続部と連通する孔９１．９２を介して行程円板５３の
上側９１と工作物支持体６８の下側との間の間隙内の空
気が吸引されることによって、工作物支持体６８の降下
の後に直ちに真空が生ぜしめられ、円板状の工作物１０
３が工作物支持体６８から分離されかつ行程円板５３の
くぼめられた上側に堆積される。次の作業サイクルで行
程円板５３が空気力式の行程装置５９によって降下させ
られ、切欠き５Ｉの底部表面９６に接触し、この場合行
程円板５３の上側が回転円板４８の上側９７と正確に合
致する。行程装置５９の押し棒５７が下側の位置を占め
た後に（第６図）、旋回モータ１８が作動し、回転円板
４８の第６図で左側の部分を右側の位置へ旋回させ、す
なわち回転円板４８のピン５５が押し棒５６と合致する
。この位置で行程装置５８が押し棒５６及びピン５５を
介して行程円板５３を上側へ運動させ、行程円板５３の
上に載っている工作物１０３がマスク４３の下側８９に
接触し、この場合ピン９９が中心孔を備えた工作物１０
３ （図示せず）を正確に位置決めする。次の作業段階
で、工作物１０３がターゲット３９を介してスパッタリ
ング（すなわち、被覆）され、この場合切欠き１００及
び１０１を備えた円板状のマスク４３及びシェード４２
が陰極室２３の下側３７の内面と回転円板４８との望ま
しくない被覆を防止する。引き続く作業サイクルで（工
作物１０３の被覆の行われた後に）行程円板５３が再び
降下させられ（これは第４図において行程円板５２の実
施例で一点鎖線によって示しである）、次いで回転円板
４８の１８０度の旋回によって第６図に示す位置に移さ
れる。今や、行程装置５９を用いて行程円板５３が持ち
上げられ、供給リング６３の下側８９に接触させられる
。供給開口９０を上側から閉鎖する工作物支持体６８と
下側から供給リング６３に圧着された行程円板５３との
間の間隙の吸引が遮断させられ、従って第３図に工作物
支持体６７の実施例で示した吸引ノズル７１７２が工作
物１０３を受容でき、次いで工作物支持体６８が行程シ
リンダ７０によって持ち上げられ、出発位置へ旋回させ
られ（これは第１図及び第３図に示しである）、この出
発位置で行程シリンダ７０が工作物１．０３を再び保持
ピン２７に下ろす。工作物支持体６８の実施例で述べた
作用形式は工作物支持体６７にとっても当てはまり、図
面から明らかなように、運転中宮に交互に一方の工作物
支持体６７若しくは他方の工作物支持体６８が保持ピン
２７若しくは供給リング６３上にある。さらに図面から
明らがなように、回転円板４８も旋回アーム６６の運動
に同期的な作業サイクルで一方の位置から他方の位置へ
運動させられる。
図面は本発明の実施例を示すものであって、第１図は円
板状の工作物を被覆するための装置の側面図、第２図は
第１図の装置の部分平面図、第３図は第１図の供給装置
の拡大部分図、第４図は第１図の陰極室の下側部分の拡
大部分断面図、第５図は被゛覆室の回転円板の縦断面図
、第６図は円板状の工作物を持ち上げるだめの行程装置
の拡大断面図及び、第７図は供給リングの縦断面図であ
る。 ｌ・・機械フレーム、２〜７・・桁、８・・真空ポンプ
、９・・測定管、ＩＯ・・空気流入フィルタ、ｌｌ・・
圧力スイッチ、１２・・真空制御ユニット、１３・・水
バッテリ、■４及び１５・・駆動ユニット、１６・・支
え、１７・・トーション緩衝装置、１８・・旋回モータ
、１９・・弁ユニット、２１・・被覆室、２２・・供給
装置、２３・・陰極室、２４・・工作物供給装置、２７
・・保持ピン、２９・・支承管、３２・・圧縮空気貯蔵
部、３６・・冷却媒体供給部、３８′・・陰極、３９・
・ターゲット、４１・・水コツク、４３・・マスク、４
４・・カバー、４７・・底部プレート、４８・・回転円
板、４９・・駆動軸、５０及び５１・・切欠き、５２及
び５３・・行程円板、５４及び５５・・ピン、５６及び
５７・・押し棒、５８及び５９・・行程装置、６２・・
ポンプ接続部、６３・・供給リング、６４・・旋回モー
タ、６５・・旋回軸、６６・・旋回アーム、６７及び６
８・・工作物保持体、６９及び７０・・行程シリンダ、
８３・・段部、９０・・開口、９２・・通路、９７・・
上側、９９・・センタリングピン、１０３・・工作物、
１０４・・回転軸、１０６及び１０７・・スペーサ、１
０８及び１０９・・ピストンロッド、１１０・・下側、
Ｉｌｌ・・シール条片、１１２及び１１３・・アーム、
１１４・・中心区分
板状の工作物を被覆するための装置の側面図、第２図は
第１図の装置の部分平面図、第３図は第１図の供給装置
の拡大部分図、第４図は第１図の陰極室の下側部分の拡
大部分断面図、第５図は被゛覆室の回転円板の縦断面図
、第６図は円板状の工作物を持ち上げるだめの行程装置
の拡大断面図及び、第７図は供給リングの縦断面図であ
る。 ｌ・・機械フレーム、２〜７・・桁、８・・真空ポンプ
、９・・測定管、ＩＯ・・空気流入フィルタ、ｌｌ・・
圧力スイッチ、１２・・真空制御ユニット、１３・・水
バッテリ、■４及び１５・・駆動ユニット、１６・・支
え、１７・・トーション緩衝装置、１８・・旋回モータ
、１９・・弁ユニット、２１・・被覆室、２２・・供給
装置、２３・・陰極室、２４・・工作物供給装置、２７
・・保持ピン、２９・・支承管、３２・・圧縮空気貯蔵
部、３６・・冷却媒体供給部、３８′・・陰極、３９・
・ターゲット、４１・・水コツク、４３・・マスク、４
４・・カバー、４７・・底部プレート、４８・・回転円
板、４９・・駆動軸、５０及び５１・・切欠き、５２及
び５３・・行程円板、５４及び５５・・ピン、５６及び
５７・・押し棒、５８及び５９・・行程装置、６２・・
ポンプ接続部、６３・・供給リング、６４・・旋回モー
タ、６５・・旋回軸、６６・・旋回アーム、６７及び６
８・・工作物保持体、６９及び７０・・行程シリンダ、
８３・・段部、９０・・開口、９２・・通路、９７・・
上側、９９・・センタリングピン、１０３・・工作物、
１０４・・回転軸、１０６及び１０７・・スペーサ、１
０８及び１０９・・ピストンロッド、１１０・・下側、
Ｉｌｌ・・シール条片、１１２及び１１３・・アーム、
１１４・・中心区分
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、扁平な工作物を真空にされた被覆室に供給及び搬出
するための装置であって、工作物表面を処理するための
被覆源（３８）の区分内へ工作物（１０３）を導きかつ
被覆源の区分から戻す形式のものにおいて、被覆室（２
１）の区分に配置された被覆装置（２２）が単数若しく
は複数のカバー状の工作物支持体（６７、６８）を備え
ており、工作物支持体を用いて工作物（１０３）が被覆
室（２１）の１つの開口（９０）に隣接する位置へ移さ
れるようになっており、この位置から開口（９０）が一
方では工作物支持体（６７、６８）によってかつ他方で
は行程円板（５２、５３）によって閉鎖されるようにな
っており、行程円板が被覆室（２１）内に回転可能に支
承された回転円板（４８）に保持されかつ案内されてお
り、工作物支持体（６７、６８）が被覆装置（２２）に
支えられた行程シリンダ（６９、７０）によって被覆室
（２１）のカバー（４４）の開口（９０）に、かつ行程
円板（５２、５３）が底部プレート（４７）に取り付け
られた行程装置（５８、５９）によって圧着されるよう
になっていることを特徴とする、工作物を被覆室へ供給
及び搬出するための装置。 ２、被覆室のカバーの第１の開口（９０）が回転円板の
回転軸（１０４）に対して、被覆室のカバーの、ターゲ
ットを上に配置される第２の開口と回転軸（１０４）と
の間の距離（Ｂ）に相応する距離（Ａ）を有している請
求項１記載の装置。 ３、被覆室のカバーの第１の開口がカバーに不動に配置
された供給リング（６３）によって制限されており、供
給リングが段付き孔を有しており、段付きの孔の径の大
きい段部（８３）が工作物支持体（６７、６８）に向い
た側に設けられており、工作物支持体が循環するフラン
ジ状の縁部（８１、８２）を有しており、縁部が寸法を
開口（９０）を閉鎖するために供給リングの段部（８３
）に接触するように決められている請求項１又は２記載
の装置。 ４、被覆室のカバーに不動に配置された供給リング（６
３）が半径方向に延びる単数若しくは複数の通路（９２
）を有しており、この通路がポンプ吸込導管若しくはポ
ンプ接続部（６２）に接続された孔（９１）と連通して
いて、工作物支持体及び行程円板（５２、５３）の供給
リングに載せられた場合に供給リングの開口（９０）の
、工作物支持体と行程円板とによって形成された中間室
若しくは間隙の部分に通じている請求項１から３までの
いずれか１項記載の装置。 ５、被覆装置（２２）が被覆室のカバーの上側に堅く配
置された旋回モータ（６４）を有しており、旋回モータ
の駆動軸（６５）が駆動軸に対して横方向に延びる旋回
アーム（６６）に回動不能に結合されており、少なくと
も一方の旋回アーム端部に行程モータ若しくは行程シリ
ンダ（６９、７０）が配置されており、行程モータの駆
動軸若しくは行程シリンダのピストンロッド（１０８、
１０９）が被覆室の面に対して垂直に延びていて工作物
支持体と作用結合している請求項１から４までのいずれ
か１項記載の装置。 ６、被覆室の底部プレート（４７）に配置された行程装
置（５８、５９）が磁気的に、液力的に若しくは空気力
的に駆動可能なモータから成っており、モータがピスト
ンロッド若しくは押し棒（５６、５７）を駆動するよう
になっており、ピストンロッド若しくは押し棒がシール
状態で底部プレート（４７）を通して案内され、走出行
程中にピン（５４、５５）に作用するようになっていて
、回転円板（４８）の切欠き（５０、５１）内に降下可
能な行程円板（５２、５３）の一部分である請求項１か
ら６までのいずれか１項記載の装置。 ７、回転円板（４８）の上側（９７）と下側とが面平行
に構成されていて、カバー（４４）及び底部プレート（
４７）の内側に対して距離（Ｃ、Ｄ）を置いて延びてお
り、回転円板とカバーとの間でカバーの内面にシール条
片（１１１）が不動に配置されていて、回転円板とカバ
ーとの間に残る間隙状の空間を２つの区分に分割して、
一方の区分から他方の区分へのガスのオーバフロをほぼ
防止する請求項１から６までのいずれか１項記載の装置
。 ８、ターゲット（３９）と回転円板（４８）との間の陰
極室（２３）の区分で被覆室（２１）のカバーに開口が
設けられており、この開口に冷却通路（４６）によって
貫通されたフランジ（４５）がさしはめられており、フ
ランジにつば状のマスク（４３）を不動に配置してあり
、マスクが半径方向で内側に向かって延びる単数若しく
は複数のアーム（１１２、１１３）を有しており、アー
ムが共通の中心区分（１１４）を形成しており、中心区
分が回転円板の方に向かって延びるセンタリングピン（
９９）を保持している請求項１から７までのいずれか１
項記載の装置。 ９、ターゲット（３９）と回転円板との間でカバー（４
４）にさしはめられたリング若しくはフランジ（４５）
がシェード（４２）を有しており、シェードがほぼ中空
円筒として構成されていて陰極（３８）を少なくとも部
分的に取り囲んでいる請求項１から８までのいずれか１
項記載の装置。 １０、カバー内にさしはめられたフランジが回転円板と
カバーとの間に配置されたシール条片（１１１）に支え
られかつこのシール条片にねじ結合されている請求項１
から９までのいずれか１項記載の装置。 １１、カバーと底部プレートとの間に単数若しくは複数
のスペーサ（１０６、１０７）が配置してあり、カバー
にさしはめられたフランジ（４５）が少なくとも１つの
スペーサに支えられ保持されている請求項１から１０ま
でのいずれか１項記載の装置。 １２、カバーと底部プレートとの間に配置された回転円
板が旋回モータ（１８）の、底部プレート（４７）をシ
ール状態で通された駆動軸（４９）に回動不能に結合さ
れており、回転円板が少なくとも行程円板（５２、５３
）の厚さに相応する単数若しくは複数の切欠き（５０、
５１）を有しており、切欠きが回転円板の上側（９７）
に形成されており、切欠きの部分にピン（５４、５５）
を受容する孔（１１５、１１６）が設けられており、ピ
ンが切欠き（５０、５１）内に案内され保持された行程
円板（５２、５３）に結合されている請求項１から１１
までのいずれか１項記載の装置。 １３、回転円板の孔（１１５、１１６）が段付きの孔と
して構成されており、ピン（５４、５５）が頭部若しく
はつば部（１１７、１１８）を有しており、この頭部若
しくはつば部にピンのシャフト部分を取り囲む圧縮ばね
（１１９、１２０）が支えられていてかつ他方で孔（１
１５、１１６）の小さい方の段部に当接して所属の行程
円板（５２、５３）を回転円板の対応する切欠き（５０
、５１）内へ負荷するようになっている請求項１から１
２までのいずれか１項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3716498A DE3716498C2 (de) | 1987-05-16 | 1987-05-16 | Vorrichtung zum Ein- und Ausschleusen von Werkstücken in eine Beschichtungskammer |
| DE3716498.8 | 1987-05-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63307274A true JPS63307274A (ja) | 1988-12-14 |
| JP2672328B2 JP2672328B2 (ja) | 1997-11-05 |
Family
ID=6327737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63117167A Expired - Lifetime JP2672328B2 (ja) | 1987-05-16 | 1988-05-16 | 工作物を被覆室へ供給及び搬出するための装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4820106A (ja) |
| EP (1) | EP0291690B1 (ja) |
| JP (1) | JP2672328B2 (ja) |
| CA (1) | CA1300367C (ja) |
| DE (2) | DE3716498C2 (ja) |
Families Citing this family (45)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| DE4009603A1 (de) * | 1989-03-30 | 1990-10-04 | Leybold Ag | Vorrichtung zum ein- und ausschleusen eines werkstuecks in eine vakuumkammer |
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-
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