JPH09316638A - 基板をつかみ、保持しおよび又は搬送するための装置 - Google Patents

基板をつかみ、保持しおよび又は搬送するための装置

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JPH09316638A
JPH09316638A JP3952897A JP3952897A JPH09316638A JP H09316638 A JPH09316638 A JP H09316638A JP 3952897 A JP3952897 A JP 3952897A JP 3952897 A JP3952897 A JP 3952897A JP H09316638 A JPH09316638 A JP H09316638A
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JP
Japan
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arm
substrate
gripper
turntable
displaced
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JP3952897A
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English (en)
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Stefan Kempf
シュテファン、ケンプフ
Eggo Sichmann
エゴー、ジッヒマン
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Singulus Technologies AG
Original Assignee
Singulus Technologies AG
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68707Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 出発場所3および基板2を受け取るための列
を成してあるいは円形に配置された工程場所4〜8が所
属し、これらの工程場所4〜8に基板2がアーム13に
配置されたグリッパ要素24を有する搬送装置1ないし
ターンテーブルを介して導かれ、それから基板2が一つ
あるいは複数の下ろし場所9、10に下ろされ、複数の
アームがターンテーブル12によって水平方向および又
は垂直方向に変位できるような基板をつかみ、保持しお
よびまたは搬送するための装置において、これを個々の
アームが唯一の駆動装置によって申し分なく変位でき、
アームができるだけ少数で済ませられるように配置され
るように形成する。 【解決手段】 グリッパ要素24を有する少なくとも一
つのアーム13″′がターンテーブル12によって別の
調整装置39を介してその都度一つの運動平面内で変位
でき、アーム13″′の運動平面がターンテーブル12
の回転軸線を直角に横切り、その場合このアームに双腕
状アーム46が付属されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、出発場所および基
板を受け取るための列を成してあるいは円形に配置され
た工程場所が付属し、基板がこれらの工程場所にアーム
に配置されたグリッパ要素を有する搬送装置ないしター
ンテーブルを介して導かれ、それから基板が一つあるい
は複数の下ろし場所に下ろされ、複数のアームがターン
テーブルによって水平方向および又は垂直方向に変位で
きるような基板をつかみ、保持しおよび又は搬送するた
めの装置に関する。
【0002】
【従来の技術】めっき装置に円板状基板を自動的にステ
ップ的に装填し取り出す方法とその装置は知られている
(ドイツ特許第4340522A1号明細書参照)。そ
の装置は定置回転軸を中心としてステップ的に回転でき
る回転円板付きのマガジンと、この回転円板上に円形に
等間隔で配置された多数の保持ピンとから成っている。
個々のグリッパアーム(以下単にアームと呼ぶ)は、例
えば基板を回転円板からマガジンにあるいはその逆に導
くために、垂直軸を中心として回動運動を実施するため
にしか適用されない。他の平面内におけるアームの変位
例えばアームの回転軸線の長手方向におけるアームの変
位はできない。
【0003】また基板をつかみ、保持しないし搬送する
ための駆動装置が既に知られている。この装置には出発
位置および周囲に配置された多数の工程場所が付属さ
れ、この装置によって個々の工程場所に到着できる。こ
の装置にはそのために個々の昇降シリンダを介して変位
できる多数のアームが付属され、これらのアームによっ
て基板が受け取られ、ないしは工程場所に下ろされる。
複雑な駆動装置ないし調整装置によって装置全体は複雑
で高価となっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、冒頭
に述べた形式の装置を、個々のアームの申し分ない変位
が唯一の駆動装置によって達成され、アームができるだ
け少数で済ませられるように配置されるように形成する
ことにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によればこの目的
は、 1) 出発場所および基板を受け取るための列を成して
あるいは円形に配置された工程場所が付属され、基板が
これらの工程場所にアームに配置されたグリッパ要素を
有する搬送装置ないしターンテーブルを介して導かれ、 2) 基板が一つあるいは複数の下ろし場所に下ろさ
れ、 3) 一つあるいは複数のアームが水平方向および又は
垂直方向に変位でき、 4) グリッパ要素を有する少なくとも一つのアームが
間接的にあるいは直接ターンテーブルによってその回転
軸線の長手方向および又はターンテーブルの回転方向に
変位できる、ことによって達成される。
【0006】有利に唯一の駆動装置が装備され回転可能
に支持されたターンテーブル上にグリッパ要素付きの個
々のアームを有利に配置することによって、すべてのア
ームはターンテーブルの回転軸線に関して水平方向およ
び垂直方向に変位できる。アームの一つの有利な配置に
よって、このアームをターンテーブルに関して水平平面
内で変位させることができ、このアームを介して二つの
下ろし位置に到達させることができる。同時にこのアー
ムの範囲に双腕状アームが設けられて、これにより品質
検査装置と基板のプリント装置との間での基板交換がコ
スト的に有利に行える。
【0007】更に、グリッパ要素を有する少なくとも一
つのアームが、ターンテーブルの回転軸線をほぼ直角に
横切っている運動平面内において変位でき、そのアーム
が調整装置を介してターンテーブルの運動方向にあるい
はその逆方向にそれぞれ水平運動平面内で変位できるこ
とが有利である。アームが両下ろし位置の範囲に配置さ
れ、ターンテーブルに対して水平方向にないしターンテ
ーブルの上側面に対して平行に変位できるので、二重検
査装置と両下ろし位置との間の基板交換が簡単に行え
る。
【0008】本発明の他の実施態様において、アームが
第4のアンロード用アームとして形成され、第1の下ろ
し場所と第2の下ろし場所との間を変位可能に配置され
ていることが有利である。
【0009】本発明の有利な実施態様において更に、ア
ームはその外側端ないし自由端に、少なくとも二つの基
板グリッパが配置されているほぼ直角形の支持腕を有し
ている。双腕状アームのL字状の形成によってその都度
二つの基板を唯一のアームを介してつかむことができ、
これによってこの下ろし場所あるいは他の下ろし場所
が、良品コンパクトディスクと不良品とを選別すること
ができるようにするために作動される。その場合、L字
状アームの前端は装填位置と走査位置との間でしか動か
ない。
【0010】本発明において特に、直角形の支持腕がこ
の支持腕の運動軌道半径ないし基板グリッパの外側限界
に相応した半径を有し、調整装置が一端がターンテーブ
ルに他端がアームにヒンジ結合されている偏心輪駆動装
置として形成されていることが有利である。
【0011】このために、アンロード用アームにターン
テーブルの外側に配置された第2のアームが付属され、
この第2のアームがターンテーブルと無関係の駆動装置
ないしステップモータを介して駆動され、第2のアーム
が両端にそれぞれグリッパ要素を有する双腕状アームと
して形成されていることが有利である。L字状アームお
よび双腕状アームの基板の両運動軌道は、それらが受渡
し位置の範囲ないし品質検査装置の範囲において重なり
合うように配置されている。これによって、設備全体を
コンパクトな構造にでき、品質検査装置と基板をプリン
トするためのターンテーブルの周辺に設けられたプリン
ト装置との間で申し分のない受渡しができる。
【0012】追加的な方式は本発明に基づく装置の発展
形態において、双腕状アームが受取り場所および又は下
ろし場所と二つの異なった休止位置との間で変位でき、
ターンテーブルによって動かされるグリッパ要素の運動
軌道の半径が、双腕状アームのグリッパ要素の運動軌道
の半径に突き当たるかこれと重なっていることにある。
双腕状アームは二つの異なった休止位置間で変位させら
れるので、双腕状アームと変位可能なL字状アームとの
衝突が避けられる。更にターンテーブルの周辺の範囲に
双腕状アームを良好に位置づけることによって、双腕状
アームが工程場所とプリント場所との間で変位する、検
査場所とプリント場所との間において迅速で問題のない
基板の受渡しが行われる。
【0013】本発明に基づく駆動装置の発展形態におけ
る補助的な方式は、双腕状アームがその第1の休止位置
から反時計方向にL字状アームの受渡し・走査位置に変
位され、プリント済みあるいはラッカー塗り済みの基板
を下し、双腕状アームの反対側端が受渡し・プリント位
置に回動でき、未プリント基板を下ろし、その後で双腕
状アームがこの位置を越えて第2の休止位置ないし第2
の中間位置に変位でき、双腕状アームが一つの中間位置
ないし休止位置から他の休止位置まで約240°以上の
経路を進むことにある。
【0014】本発明の他の実施形態において、双腕状ア
ームが駆動装置ないしカム伝動装置を介してその休止位
置あるいは受渡し位置間で、駆動装置の給電用電線を大
事に守るために振り子運動を実施し、基板がプリント過
程後にプリント場所から双腕状アームを介して、それに
続いて行われるL字状アームの回動運動後に走査位置に
揺動することが有利である。
【0015】更に、互いに独立して作動するグリッパ装
置がそのグリッパが交互に走査装置の範囲における同じ
受張り場所あるいは受渡し場所に置かれ、そのためにL
字状アームあるいは双腕状アームのいずれかがこの位置
から揺動され、その場合アームの過程制御によって基板
が一箇所で二回走査されることが有利である。
【0016】更に、数個のグリッパ要素がターンテーブ
ルによって一緒に水平方向および又は垂直方向に変位で
き、少なくとも一つのアームが他のアームと無関係に少
なくとも一つの運動方向に変位できることが有利であ
る。個々のグリッパ要素の有利な形成および配置によっ
てはじめて、陰極に付属されているグリッパ要素を含め
てほとんどすべてのグリッパ要素を変位することができ
るので、従来普通であったアームの個別調整は省ける。
このことは特に、陰極に付属されたアームが他のアーム
の昇降装置によって個々に変位できることによって達成
される。即ち第1の位置ないしグリッパ要素とめっき装
置のゲートとの間における基板の受渡し位置において基
板がゲートに入れられるとき、アームに配置された蓋が
真空密にゲート室上に当てられ、円板とアームとの切り
離しによってアームはいまや上向きに変位でき、その場
合ゲート内に生ずる差圧Pd=Pa−Pvが円板をゲー
トに押さえつける。アームに固く結合された円板および
グリッパ要素は個々の作業位置において基板を解放した
後で上昇過程によって上向きに変位され、これによって
基板はこの相応した位置からその都度の作業位置に変位
する。この作業過程の際に第1の位置における受取り場
所と第1のアームのグリッパ要素との間の基板交換は害
されない。ゲートが通気(fluten)されるときグリッパ
要素における相応した装置の円板が再び上向きに移動さ
れるので、アームが再びその出発位置あるいは開始位置
に戻される。
【0017】このために、一つないし第1のグリッパ要
素が少なくとも垂直運動方向において他のアームないし
グリッパ要素と無関係に変位できることが有利である。
【0018】また、グリッパ要素が少なくとも水平運動
方向に他のグリッパ要素および又はアームと無関係に変
位でき、その運動平面あるいは運動方向がターンテーブ
ルの運動平面あるいは上側面あるいは装置のスタンド面
に対してほぼ平行に延び、あるいはターンテーブルの回
転軸線をほぼ直角に横切っていることが有利である。
【0019】更に、一つないし第1のグリッパ要素が少
なくともアームの昇降運動の方向にアームの昇降運動と
無関係に変位でき、アームの昇降運動の際、蓋付きのグ
リッパ要素がゲート室内に形成された差圧(Pd)によ
って基板ホルダ内に位置するチャンバ蓋上あるいはコン
テナー蓋上に保持され、回転円板で受け取られた基板が
陰極に導かれることが有利である。第1のアームにおけ
るグリッパ要素とその蓋との切り離しによって、このア
ームは他のアームと一緒にターンテーブルを介して、第
1の円板がゲート室開口上に置かれたままであるので、
ゲート室が通気されることなしに、昇降運動することが
許される。これによって個々のアームを変位するための
駆動要素特に液圧シリンダが節約できる。
【0020】本発明に基づく方式の有利な実施態様にお
いて更に、基板ホルダないし蓋が一方向に差圧(Pd)
によって保持され、他方向に圧力媒体ないしばねの調整
力によって変位でき、他の基板ホルダないし蓋が少なく
とも一つの方向に調整部分ないし調整シリンダに結合さ
れたターンテーブルを介して一緒に変位できることを提
案する。
【0021】特に本発明において、第1の基板ホルダな
いし蓋が昇降装置を介して変位でき、この昇降装置にば
ねを収容するシリンダおよびこの中に案内されアームに
接続されたピストンが付属していることが重要である。
差圧を利用して第1のアームの円板を下側位置にゲート
が通気されるまでの間保持することによって、補助的な
駆動手段ないし個別シリンダは省かれる。
【0022】本発明に基づく形成および配置に関して、
基板ホルダないし蓋が、基板ホルダないし蓋をアームの
方向に引き寄せる少なくとも一つあるいは複数の昇降装
置を介して変位できること、および基板ホルダないし蓋
が基板を検出するための少なくとも一つのセンサを有し
ていることが有利である。
【0023】他の利点は従属請求項から理解できる。
【0024】本発明の他の利点および詳細は特許請求の
範囲および発明の詳細な説明の項に記載され、図面に示
されている。なおすべての特徴事項および個々の特徴事
項のすべての組合せが発明の本質を成している。
【0025】
【発明の実施の形態】以下図に示した実施例を参照して
本発明を詳細に説明する。
【0026】図1から明らかに分かるように、基板2は
グリッパアーム13(以下単にアームと呼ぶ)によっ
て、基板2をつかみ、保持しおよびまたは搬送するため
の装置1(以下、単に装置1という)を介して搬送され
る。基板2は導入ステーション3(出発場所ないし受渡
し場所3)の範囲で反時計方向に変位する基板グリッパ
すなわちアーム13によって受け取られ、そしてこれに
よって第1の処理ステーション4(工程場所ないし図面
に示されていない陰極が付属されている真空めっき装置
4)まで導かれる。アーム13は他のアーム13′〜1
3″′と同様にターンテーブル12上に固定して配置さ
れている。アーム13、13′、13″はそれぞれ一つ
の基板グリッパ24を有し、アーム13″′は二つのグ
リッパ24′、24″を備えている。
【0027】ターンテーブル12に固く結合された第2
のアーム13′は、ターンテーブル12が反時計方向に
変位した後、処理ステーション4においてめっき(蒸着
処理)済み基板2を基板グリッパ24によって受け取
る。アーム13′は、ターンテーブル12の時計方向へ
の運動によって基板2を処理ステーション(工程場所)
5に導き、処理ステーション5において基板2にラッカ
ーが塗られる。めっき済みないしラッカー塗り済みの基
板2は、処理ステーション5から反時計方向に回動する
アーム13″によって取り出され、次いで処理ステーシ
ョン(工程場所)6、すなわちラッカー乾燥装置に導か
れる。この作用を行うために、アーム13″は、まず処
理ステーション5に向かって回動して基板2を受け取
り、それから再び処理ステーション6に向かって回動
し、これにより基板2がラッカー乾燥装置6に送られ
る。基板2はアーム13″′により、処理ステーション
6(ラッカー乾燥装置)から検査位置すなわち走査位置
7に送られる。このためにL字状に形成されたアーム1
3″′はターンテーブル12によって反時計方向に回動
する。アーム13″′の基板グリッパ24は、処理ステ
ーション6において基板2を受け取り、それから検査な
いし走査位置7に回動する。
【0028】この位置7は、既に述べたように、検査場
所すなわち二重検査装置であり、位置7にはプリントス
テーション8が付設されている。
【0029】基板2は二重検査装置7によって上側面お
よび下側面が走査され、ラッカー品質およびプリント品
質が検査され、あらゆる欠陥例えばプリントの際に生ず
る掻き傷が検出される。
【0030】また、ディスク品質の欠陥の有無が検出さ
れるようになっており、そのためにCDは下側からも走
査される。この検査工程における特徴は、予め既に一度
走査されたCDが、プリント工程後にそのプリント工程
の際に生じた追加的な欠陥についてもう一度検査される
ことである。即ちこれによってプリンターが問題なく運
転されているかについても速やかに検査することができ
る。
【0031】処理ステーション7における二重検査の
後、基板2は、L字状アーム13″′により、欠陥のな
い完全なCDに対する第1の送出ステーション(下ろし
場所)9、または選別された低品質のCDに対する第2
の送出ステーション(下ろし場所)10に導かれる。
【0032】図2には特別に形成された第1のアーム1
3が示されている。このアーム13も同様にターンテー
ブル12により二つの処理ステーション3、4間を時計
方向あるいは反時計方向に変位することができる。アー
ム13が水平に変位できることに加えて、アーム13に
設けられた基板グリッパ24のグリッパ要素22がター
ンテーブル12の昇降運動と無関係に変位できる。この
ために図示されていないカム伝動装置(Kurvengetrieb
e)が使用される。
【0033】図2に示されているアーム13は、図示さ
れていないスパッタ4装置の導入機構である。アーム1
3はこの導入機構の一部をなし、図2において符号2が
付されている基板すなわちコンパクトディスク(CD)
はアーム13によって基板ホルダ52(図2参照)に導
かれる。基板はこの装置1によって処理ステーション4
に送られ、ここでめっきされる。
【0034】図2に示されているアーム13はこのため
に水平に延びる軸50を中心として揺動できる複数のグ
リッパ22を有している。この目的のため、これらグリ
ッパ22は円筒状ハウジング51内に配置されている。
このハウジング51は図示されていない電源装置に接続
される電磁石すなわちリング磁石67を収容するために
使用されている。電磁石すなわちリング磁石67は弾性
軸受68で支持されているグリッパ22を変位させるた
めに使用される。この目的のため、グリッパ22は二つ
のストッパ77,77’間で揺動できるようになってい
る。この実施例において上側磁石は符号Nで、下側磁石
は符号Sで示されている。リング磁石67を通電するこ
とにより、グリッパ22は両ストッパ77,77’間で
変位し、その場合図示されている(垂直)位置と、スト
ッパ77と当接した傾斜位置との間の経路をたどるよう
になっている。図2に示されている保持位置においてグ
リッパ22の長手軸線は基板ホルダすなわち(基板グリ
ッパ24の)蓋31の長手中心軸線36に対して平行に
延びている。この位置において、基板2は各グリッパ2
2の下端に設けられた溝状の窪み72を介して保持され
る。
【0035】図2では二つのグリッパ22しか見えな
い。しかし例えば三つのグリッパ22がそれぞれ120
°づつずらして配置されていることが好ましい。そして
これら3つの基板グリッパ22は、下側に配置された基
板ホルダ52に設けらられた複数の基板グリッパ25の
相互間の中間空間に入り込むとともに、そこで作用でき
るように構成されていることが好ましい。下側の基板ホ
ルダ52に有利に配置された前記中間空間により、両装
置24、52は互いに非常に接近でき、これによって両
装置24、52間の基板2の正確な受渡しを行うことが
できる。基板2の受渡しの際に、両装置24、52が出
合うときに上側のグリッパ22は一時的に下側の基板グ
リッパ25の中間空間に入り込む。
【0036】ドイツ特許出願第19605599.7号
明細書の図5(参考として本願に図5として添付した)
から明らかなように、グリッパの下端はグリッパの精確
な案内を保証する長孔開口92を通って延びている。ド
イツ特許出願第19605599.7号明細書の図4
(本願の図2および図4に対応する)に示すように、リ
ング磁石67のを所定の極性とすることによりグリッパ
22が揺動し、グリッパ22は左側ストッパ77’から
右側ストッパ77に移動し傾斜した解放位置を採る。こ
れにより窪み72が基板2の孔すなわち中央開口の縁領
域から遠ざけられ、基板2は第2の装置1への受渡しの
ためにグリッパ22から解放される。
【0037】しかしグリッパ要素ないしグリッパフィン
ガを吸引要素として形成すること、および基板2を上側
面でつかむこと、あるいはグリッパ要素が基板2を外縁
から取り囲んで継続搬送することもできる。
【0038】両基板グリッパ24、22の協働作用のさ
らなる詳細を知りたい場合には、同日のドイツ特許出願
のドイツ特許出願第19605598.9号および同第
19605599.7号明細書、とりわけその第20〜
21頁を参照することにより理解できる。
【0039】例えば基板2が上側装置ないしアーム13
により図2に概略的に示されている下側装置すなわち基
板ホルダ52に送られるとき、ゲート蓋31がパッキン
53′によってコンテナー蓋54の端面に気密に接す
る。その場合基板ホルダ52の上側面とゲート蓋31の
下側面との間にゲート室(ロックチャンバ)30が形成
され、このゲート室30は図面に示されていない配管を
介して、処理工程経過の要求に応じて通気(大気が充
填)または排気(真空吸引)される。コンテナー蓋54
は更にパッキン53により基板ホルダ52に対して密封
されている。
【0040】上側装置すなわちアーム13から下側装置
すなわち基板グリッパ25への基板2の受渡しは次のよ
うに行われる。
【0041】まず図面に示されていない弁が開かれ、ゲ
ート室30が図示されていないポンプにより排気され
る。これによって基板ホルダ52の上側面と下側面(通
常排気されている)との圧力が釣り合う。基板グリッパ
25はダイアフラム73の上下動に連動して基板2の中
央開口の縁を把持する位置と前記縁から離間した位置と
の間を揺動自在となっており、圧力の釣り合いが生じた
場合、ダイアフラム73が上昇することにより、基板グ
リッパ25は、外に向けて揺動してグリッパ22に導か
れた基板2を保持する位置をとる。(なお、本願明細書
に概略的に記載された基板グリッパ25は、一例として
本願明細書で引用するドイツ特許出願第1960559
9.7号明細書においては、ダイアフラム73が上側面
と下側面との圧力差に対応して上下動する際に、ダイア
フラム73上下動と連動して揺動する爪体として実現さ
れており、前述したように基板ホルダ52の上側面と下
側面との圧力が釣り合った場合、ダイアフラム73が上
昇し前記爪体が開き基板2の中央開口の縁を把持し、ゲ
ート室が通気された場合にはダイアフラム73が下降
し、前記爪体が基板2の中央開口の縁から離間して基板
2を解放するようになっている。) 基板グリッパ25が基板を保持すると同時にリング磁石
67が作動し、グリッパ22を傾斜位置に揺動させる。
この場合、グリッパ22の上端は対応したストッパ77
に突き当たり、基板2を釈放する。そうなると、基板ホ
ルダ52は、図2の右側に示されている下側位置に移動
し、その場合同時に円板ないし基板ホルダ52がダイア
フラムないし接続要素102を介して、基板ホルダ52
が回転円板100のストッパ101に突き当たるまで下
向きに案内される。いまや基板ホルダ52は基板2と共
に、基板ホルダ52と回転円板100との相対運動が生
ずることなしに回動運動を行える。
【0042】この作動工程の後に、図面に示されていな
い次の基板ホルダが上述の位置を採る。このために、基
板ホルダ52はパッキン53に接しゲート室30を閉鎖
するまで上向きに移動させられる。この変位過程におい
て、基板2は、図面に示されていない相応した弁が開か
れゲート室が通気されてゲート室が大気圧となるまでの
間、基板グリッパ25内にとどまる。これによって基板
ホルダ52の上側面(現時点で大気圧Paとなってい
る)と下側面(現時点で真空Pvとなっている)との間
に必要な差圧Pd(Pa−Pv)が生じ、ダイアフラム
73が更に真空室(基板ホルダの下側)の中に移動し、
基板グリッパ25は傾斜位置に揺動する。これによって
基板2は釈放される。そして同じ時点で上側装置のグリ
ッパ22も作動してグリッパ22は傾斜位置から垂直位
置に揺動し、基板2をつかむ。そして基板2が取り除か
れ、基板ホルダの回動によって次の基板が上述の位置に
置かれる。
【0043】図2の実施例において、基板グリッパ24
は、ターンテーブル12によって一緒に水平方向および
垂直方向に、他のアーム13′〜13″′と無関係に変
位することができる(図3の昇降装置参照)。
【0044】アーム13の水平に延びる運動平面すなわ
ちアーム13の運動方向は、運動平面すなわちターンテ
ーブル12の上側面あるいは装置1のベース面に対して
平行に延び、ターンテーブル12の回転軸線11をほぼ
直角に横切っている。中心軸線36の方向における基板
グリッパ24の変位は図3に概略的に示されている昇降
装置34により行われる。この昇降装置34は、アーム
13に接続された中空シリンダ35と、このシリンダ内
に収容され上端がストッパ55に下端がアーム13に接
しているばね32とから成り、シリンダ35の中にはピ
ストン56が案内されている。このピストン56は、下
端が基板グリッパ24の蓋31に固く結合されている。
ピストン56の上端も同様にストッパ57を有してい
る。
【0045】例えばターンテーブル12をすべてのアー
ム13〜13″′と一緒に持ち上げようとするとき、ア
ーム13の基板ホルダ31は図2に示されている位置に
とどまり、これによって下側基板ホルダ52が基板2を
処理ステーション4に搬送するとき(図1)、ゲート室
30内に必要な真空圧が保持される。即ちアーム13が
上向きに変位しなければならず、基板ホルダ31がゲー
ト室30を閉鎖する位置にとどまらねばならないとき、
昇降装置34によって基板ホルダ31とアーム13の他
の部分とが切り離される。
【0046】アーム13の上昇運動の際、基板ホルダ3
1は基板グリッパ24と共にその下側位置にとどまり、
その場合ゲート室30内に形成された差圧Pdによって
保持される。差圧Pdは基板ホルダすなわち蓋31に作
用し、これをコンテナー蓋ないしチャンバ蓋に押しつけ
るので、回転円板で受けられた基板2が陰極に導かれ
る。
【0047】しかしながら、ゲート室30が通気された
場合、基板ホルダすなわち蓋31は、一つあるいは複数
の昇降装置34によって変位する。その場合ばね32は
シリンダ35内に設けられたピストン56を自動的に上
向きに移動させるため、蓋31はアーム13の上側スト
ッパに接触する。従ってアーム13〜13″′の基板グ
リッパは、持ち上げられた位置にあり、ターンテーブル
12は個々のアーム13〜13″′を所望の次の処理ス
テーションに回転させることができ、これにより既に述
べたように新たな基板受渡しが行うことができる。
【0048】次の作業工程すなわち基板受渡しの際、蓋
31が再び基板ホルダ52に接近させられるとともに、
ゲート室30を相応して排気することにより基板ホルダ
52が下側位置に維持される。次いでアーム13を上向
きに新たに変位させたると、蓋31は一緒に動かず、こ
れによりばね32がアーム13により圧縮される。これ
によって蓄えられたばね32の調整力は、作業工程が終
了した後にゲート室30が再び通気されたとき、蓋31
を上向きに動かすのに十分なものとなる。
【0049】この有利な設計的構成によって、陰極に付
属するアーム13を、昇降装置によって、他のアームと
無関係に変位させることができる。即ち、既に述べたよ
うに、第1の位置、すなわちアーム13とめっき装置の
ゲート室30との間の基板の受渡し位置において基板が
ゲート室に入れられるとき、アームに配置された蓋31
が真空密封された状態でゲート室上にとどまり、円板と
アームとの切り離しによってアーム13だけが上向きに
変位することができ、その場合ゲート内に生ずる差圧P
d=Pa−Pvが円板をゲート室30上に保持する。
【0050】個々の作動位置にとどまる円板すなわち他
のアーム13′〜13″′に固く結合された基板グリッ
パ24も、持ち上げ工程により上向きに変位する。これ
により、これらはターンテーブル12によって回転で
き、これによってそれらの新たな作動位置に変位するこ
とができる。
【0051】この作業工程の際、個々の処理ステーショ
ンにおける基板の交換は害されない。第1のアーム13
のゲート室30が再び通気されたとき、円板31は昇降
装置のばね32によって上向きにはじかれるので、アー
ム13は再びその基準ないし初期位置(導入位置)3に
戻される。
【0052】図1におけるもう一つの実施例において、
処理ステーション7に存在する二重検査装置が示されて
いる。処理ステーション7の範囲に示されているL字状
に形成されたアーム13″′は一端がターンテーブル1
2に結合され、ターンテーブル12が上向きないし下向
きに移動されるとき、ターンテーブル12の回転軸線1
1に関して垂直方向にあるいはターンテーブル12の昇
降運動の方向に変位する。アーム13″′はその外側端
ないし自由端にほぼ直角に配置され円弧上に位置する支
持腕42を有している。この円弧の半径45は支持腕4
2の外側端の運動軌道ないし基板グリッパ24の軸の運
動軌道の半径にほぼ相応している。
【0053】既に述べたようにL字状アーム13″′は
ターンテーブル12と一緒に変位することができる。更
にアーム13″′は、適当な調整装置ないし偏心輪駆動
装置(Exzenterantriebsvorrichtung )39により、図
1に示されている第1の下ろし場所(送出場所)9(処
理ステーション9)と第2の下ろし場所(送出場所)1
0との間で変位することもできる。そのために液圧シリ
ンダが付設されている偏心輪駆動装置39は、一端が支
持腕42に結合され、他端がターンテーブル12に結合
されている。このようにしてアーム13″′は、基板を
検査場所7から受け取る図1に示されている位置から変
位し、アーム13″′の相応した回動運動に応じて良品
として検出された基板2を回転円板58上に下ろすため
に位置9即ち第1の下ろし場所に回動する。L字状アー
ム13″′は、偏心輪駆動装置39によって位置10す
なわち第2の下ろし場所にも回動でき、その場合基板2
は回転円板59上に下ろされる。
【0054】湾曲した支持腕42は、図1において、そ
れがラッカー層あるいは印刷を検査するために位置7で
示されている走査装置の支柱の周りを動き到達できるよ
うになっており、これらの両装置7、42の衝突が避け
られるように配置されている。例えばアーム13″′お
よびその基板グリッパ24により基板が、処理ステーシ
ョン(ラッカー乾燥装置)6から検査装置すなわち走査
位置7に変位するとき、図面に概略的に示されている走
査装置7によってまずラッカーの欠陥を検査することが
できる。先の走査過程において不良品として検出された
すべての基板2は既にこの位置においてアーム13″′
および協働する基板グリッパ24′によって受け取ら
れ、第2の下ろし場所10に導かれる。
【0055】L字状アーム13″′は、処理ステーショ
ン7と処理ステーション9ないし10との間で変位する
ことができる。このために支持腕42は、有利にその外
側端に第1の基板グリッパ24″を有し、内側端すなわ
ちアーム13″′の屈曲部に第2の基板グリッパ24′
を有している。基板グリッパ24″によって基板2は円
板58に送られ、基板グリッパ24′によって円板59
に送られる。
【0056】場所7において良品として検出されたCD
は、第1の休止位置60と第2の休止位置62並びに作
動位置63に揺動できる双腕状アーム46を介してつか
まれる。
【0057】基板グリッパ24を備えたアーム13〜1
3″′の外側端は半径45上を移動し(R45)、双腕
状アーム46の外側端は半径48上を移動する。図1か
ら理解できるように、両半径45、48は互いに交差す
るので、双腕状アーム46の不活動位置すなわち休止位
置60、62において、それらがアーム13″′ないし
基板グリッパ24′、24″と衝突しないようにするた
めに、双腕状アーム46は半径45の外側を動かねばな
らない。更に双腕状アーム46を位置63に変位する際
にL字状アーム13″′も時計方向に回動して逃げて、
双腕状アーム46が破線で示す位置に揺動できることが
重要である。双腕状アーム46がその中間位置にあると
きL字状アーム13″′は変位することができる。L字
状アーム13″′はラッカー検査装置において被検査C
Dを上から見ることができるようにするために、時計方
向にも変位できなければならない。即ち双腕状アーム4
6が実線で示されている第1の休止位置60から基板受
渡し位置すなわち作動位置63に変位することができ、
その場合約60°の角度だけ進む。双腕状アーム46の
基板グリッパ47が作動位置63において処理ステーシ
ョン7における基板2をつかみ、そこで既にラッカー欠
陥およびディスク品質を検査した良品基板2を、双腕状
アーム46の180°の回動に応じて処理ステーション
7から処理ステーション8に導く。この処理ステーショ
ン8には、プリント装置あるいは印刷装置が存在してい
る。第1の休止位置60から作動位置63への回動運動
およびそこから時計方向に180°だけ受渡し場所に回
動する運動の際、処理ステーション7で受けられた基板
2はプリント場所すなわち印刷場所8に送られ、同時に
既に印刷済みの基板2が双腕状アーム46の他端を介し
て導かれ、そこで下ろされる。この回動過程後に双腕状
アーム46は第2の休止位置62に置かれる(破線で図
示)。
【0058】基板の交換後にいまやプリント済み基板は
第2の面が検査でき、その場合申し分のないディスク品
質が存在するか否かが検出される。即ちCDの下側面も
検査が行われ、プリントの際に万一生じた掻き傷がない
かが検査される。
【0059】処理ステーション7と処理ステーション8
との間における基板2の第2の受渡しの際、基板の交換
はアーム46の逆向きの回動運動経過によって行われ
る。いまやアームは破線で示されている休止位置62か
ら時計方向に作動位置63に回動し、そこで処理ステー
ション7における基板2を受け取り、アームの他端が処
理ステーション8におけるプリント済み基板を受け取
る。そして基板グリッパ47は反時計方向に180°回
転し、その場合既に述べたように基板交換を行う。この
ようにして既にプリントされた基板が走査され、まだプ
リントされていない基板に印刷が行われる。
【0060】有利にターンテーブル12の周囲に配置さ
れている二重検査装置によって、工程時間を短縮するこ
とができ、また両処理ステーション7、8間における正
確な受渡しが行うことができる。さらに、同時に、基板
をアーム13″′により、下ろし場所9あるいは10に
導くことができる。
【0061】偏心輪駆動装置39も同様にターンテーブ
ル12上に配置され、既に述べたように下ろし場所9ま
たは10と走査場所7との間でアーム13″′を変位さ
せるために使用される。
【0062】図1に示す有利な装置によれば、既に述べ
たようにステップモータと接続されている図示されてい
ない伝動装置すなわちカム伝動装置によって、ターンテ
ーブルに対する回転運動および昇降運動が行うことがで
き、従って個々のアーム13〜13″′用の従来の普通
の液圧シリンダ(昇降シリンダ)を省くことができる。
基板グリッパ24を第1のアーム13から切り離すこと
によって、全アームの昇降運動は唯一の調整装置によ
り、即ちターンテーブル12によって行えるので、基板
交換は個々の処理ステーションにおいて支障なしに実施
できる。全体としてこの装置の場合、四つないし五つの
基板グリッパを設けるだけで済ますことができるため、
この装置は経済的に製造することができる。図1の実施
例において、ターンテーブル12は四つのアームしか備
えておらず、そのうちの三つは真っ直ぐに延びる部品か
ら成り、第4のアームはL字状部分から成っている。こ
れらのアーム13〜13″′によれば、基板を全部で七
つの異なった位置(出発位置3、めっき位置4、ラッカ
ー塗装位置5、乾燥位置6、走査位置7および二つの下
ろし位置9、10)に到達させることができる。これに
よってサイクル時間全体並びに調整要素の数を最小に減
少されることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】コンパクトディスク(CD)生産設備の概略平
面図。
【図2】簡単化のために図面に示されていないスパッタ
(めっき)装置に基板ないしコンパクトディスクを搬送
するための基板グリッパあるいはアームの断面図で、そ
のアームの下部にばねの調整力に抗して変位できるグリ
ッパ要素が配置されている。
【図3】アーム内に調整可能に支持されている基板ホル
ダ(基板グリッパ)の部分図。
【図4】本願明細書で引用されるドイツ特許出願196
05599.7号明細書の図4を示す図。
【図5】本願明細書で引用されるドイツ特許出願196
05599.7号明細書の図5を示す図。
【符号の説明】
1 基板を搬送するための搬送装置 2 基板=コンパクトディスク(CD) 3 出発位置=受渡し場所=受取り場所、基板の導入ス
テーション 4 処理ステーション、加工装置=真空めっき装置 5 処理ステーション、ラッカー塗装 6 処理ステーション、ラッカー乾燥(UV) 7 処理ステーション、品質検査装置、走査装置 8 処理ステーション、プリント装置、サテライト場所 9 第1の下ろし場所 10 第2の下ろし場所 11 ターンテーブルの回転軸線 12 ターンテーブル 13 アーム(グリッパアーム) 13′ アーム(グリッパアーム) 13″ アーム(グリッパアーム) 13″′アーム(グリッパアーム、L字状アーム) 24 基板グリッパ=グリッパ要素 24′ 基板グリッパ(良品用) 24″ 基板グリッパ(不良品用) 25 基板グリッパ 30 ゲート室 31 蓋(基板グリッパ24の蓋) 32 ばね 34 昇降装置 35 シリンダ 36 基板ホルダないし蓋(31)の中心軸線 37 基板(2)を検出するためのセンサ 39 調整装置、昇降シリンダ、偏心輪駆動装置 42 支持腕 45 グリッパ−運動軌道/円板31の半径 46 双腕アーム(グリッパアーム) 47 双腕アームの基板グリッパ 48 双腕アームの半径(R48) 50 グリッパ22の軸線 51 グリッパ22のハウジング 52 基板ホルダ/コンテナー蓋 53 パッキン 53′ パッキン 55 ばね32のストッパ 56 ピストン 57 ピストン56のストッパ 58 円板 59 円板 60 アーム46の第1の休止位置 61 アーム46の第2の休止位置 62 作動位置 67 電磁石、リング磁石 68 弾性軸受 72 窪み(グリッパ)、溝 73 ダイアフラム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エゴー、ジッヒマン ドイツ連邦共和国ゲルンハウゼン、ドイチ ュオルデンシュトラーセ、31

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】1) 出発場所(3)および基板(2)を
    受け取るための列を成してあるいは円形に配置された工
    程場所(4〜8)が付属し、基板(2)がこれらの工程
    場所(4〜8)にアーム(13)に配置されたグリッパ
    要素(24)を有する搬送装置(1)ないしターンテー
    ブル(12)を介して導かれ、 2) 基板(2)が一つあるいは複数の下ろし場所
    (9、10)に下ろされ、 3) 一つあるいは複数のアーム(13)が水平方向お
    よび又は垂直方向に変位でき、 4) グリッパ要素(24)を有する少なくとも一つの
    アーム(13)が間接的にあるいは直接ターンテーブル
    (12)によってその回転軸線(11)の長手方向およ
    び又はターンテーブル(12)の回転方向に変位でき
    る、ことを特徴とする基板をつかみ、保持しおよび又は
    搬送するための装置。
  2. 【請求項2】グリッパ要素(24)を有する少なくとも
    一つのアーム(13″′)が、ターンテーブル(12)
    の回転軸線(11)をほぼ直角に横切っている運動平面
    内において変位でき、そのアーム(13″′)が調整装
    置(39)を介してターンテーブル(12)の運動方向
    にあるいはその逆方向にそれぞれ水平運動平面内で変位
    できることを特徴とする請求項1記載の装置。
  3. 【請求項3】アーム(13″′)がアンロード用アーム
    (13″′)として形成され、第1の下ろし場所(9)
    と第2の下ろし場所(10)との間に変位可能に配置さ
    れていることを特徴とする請求項1又は2記載の装置。
  4. 【請求項4】アーム(13″′)がその外側端ないし自
    由端に、少なくとも二つの基板ホルダ(24′、2
    4″)が配置されているほぼ直角形の支持腕(42)を
    有していることを特徴とする請求項1記載の装置。
  5. 【請求項5】直角形の支持腕(42)が、この支持腕
    (42)の運動軌道半径ないし基板グリッパ(24)の
    外側限界に相応した半径(45)を有していることを特
    徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の装
    置。
  6. 【請求項6】調整装置(39)が一端がターンテーブル
    (12)に他端がアーム(13″′)にヒンジ結合され
    ている偏心輪駆動装置(39)として形成されているこ
    とを特徴とする請求項1記載の装置。
  7. 【請求項7】アンロード用アーム(13″′)にターン
    テーブル(12)の外側に配置された第2のアーム(4
    6)が付属され、この第2のアーム(46)がターンテ
    ーブル(12)と無関係の駆動装置ないしステップモー
    タを介して駆動されることを特徴とする請求項1ないし
    6のいずれか1つに記載の装置。
  8. 【請求項8】第2のアーム(46)が両端にそれぞれグ
    リッパ要素(47)を有する双腕状アームとして形成さ
    れていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか
    1つに記載の装置。
  9. 【請求項9】双腕状アーム(46)が受取り場所および
    又は下ろし場所(63)と二つの異なった休止位置(6
    0、62)との間で変位でき、ターンテーブル(12)
    によって動かされるグリッパ要素(24)の運動軌道の
    半径(45)が、双腕状アーム(46)のグリッパ要素
    (47)の運動軌道の半径(48)に突き当たるかこれ
    と重なっていることを特徴とする請求項1ないし8のい
    ずれか1つに記載の装置。
  10. 【請求項10】双腕状アーム(46)がその第1の休止
    位置(60)から反時計方向にL字状アーム(1
    3″′)の受渡し・走査位置(7)に変位され、プリン
    ト済みあるいはラッカー塗り済みの基板(2)を下し、
    双腕状アーム(46)の反対側端が受渡し・プリント位
    置(8)に回動でき、未プリント基板(2)を下ろし、
    その後で双腕状アーム(46)がこの位置を越えて第2
    の休止位置(62)ないし第2の中間位置に変位できる
    ことを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1つに記
    載の装置。
  11. 【請求項11】双腕状アーム(46)が一つの中間位置
    ないし休止位置(60あるいは62)から他の休止位置
    まで約240°以上の経路を進むことを特徴とする請求
    項1ないし10のいずれか1つに記載の装置。
  12. 【請求項12】双腕状アーム(46)が駆動装置ないし
    カム伝動装置を介してその休止位置(60あるいは6
    2)あるいは受渡し位置(63)間で、駆動装置の給電
    用電線を大事に守るために振り子運動を実施することを
    特徴とする請求項1ないし11のいずれか1つに記載の
    装置。
  13. 【請求項13】基板(2)がプリント過程後にプリント
    場所(8)から双腕状アーム(46)を介して、それに
    続いて行われるL字状アーム(13″′)の回動運動後
    に走査位置(7)に回動されることを特徴とする請求項
    1ないし12のいずれか1つに記載の装置。
  14. 【請求項14】互いに無関係に作動する二つのグリッパ
    装置(13″′と46)がそれらのグリッパが交互に走
    査装置(7)の範囲における同じ受取り位置あるいは受
    渡し位置に置かれ、そのためにL字状アーム(1
    3″′)あるいは双腕状アーム(46)のいずれかがこ
    の位置から回動され、その場合アームの過程制御によっ
    て基板(2)が一箇所で二回走査されることを特徴とす
    る請求項1ないし13のいずれか1つに記載の装置。
  15. 【請求項15】数個のグリッパ要素(24)がターンテ
    ーブル(12)によって一緒に水平方向および又は垂直
    方向に変位でき、少なくとも一つのアーム(13)が他
    のアーム(13′〜13″′)と無関係に少なくとも一
    つの運動方向に変位できることを特徴とする請求項1記
    載の装置。
  16. 【請求項16】一つないし第1のグリッパ要素(24)
    が少なくとも垂直運動方向に他のアーム(13)ないし
    グリッパ要素(24)と無関係に変位できることを特徴
    とする請求項1記載の装置。
  17. 【請求項17】グリッパ要素(24)が少なくとも水平
    運動方向において他のグリッパ要素(24)および又は
    アーム(13)と無関係に変位でき、その運動平面ある
    いは運動方向がターンテーブル(12)の運動平面ある
    いは上側面あるいは装置(1)のスタンド面に対してほ
    ぼ平行に延びているか、あるいはターンテーブル(1
    2)の回転軸線(11)をほぼ直角に横切っていること
    を特徴とする請求項1又は2記載の装置。
  18. 【請求項18】一つないし第1のグリッパ要素(24)
    が少なくともアーム(13)の昇降運動方向にアーム
    (13)の昇降運動と無関係に変位できることを特徴と
    する請求項1記載の装置。
  19. 【請求項19】アーム(13)の昇降運動の際、蓋(3
    1)付きのグリッパ要素(24)がゲート室(30)内
    に形成された差圧(Pd)によって基板ホルダ(31)
    内に位置するチャンバ蓋上あるいはコンテナー蓋上に保
    持され、回転円板で受け取られた基板(2)が陰極に導
    かれることを特徴とする請求項1ないし18のいずれか
    1つに記載の装置。
  20. 【請求項20】基板ホルダないし蓋(31)が一方向に
    差圧(Pd)によって保持され、他方向に圧力媒体ない
    しばね(32)の調整力によって変位でき、他の基板ホ
    ルダないし蓋(31)が少なくとも一つの方向に調整部
    分ないし調整シリンダに結合されたターンテーブル(1
    2)を介して一緒に変位できることを特徴とする請求項
    1記載の装置。
  21. 【請求項21】第1の基板ホルダないし蓋(31)が昇
    降装置(34)を介して変位でき、この昇降装置(3
    4)にばね(32)を収容するシリンダ(35)および
    この中に案内されアーム(13)に接続されたピストン
    (56)が付属していることを特徴とする請求項1ない
    し20のいずれか1つに記載の装置。
  22. 【請求項22】基板ホルダないし蓋(31)がこれをア
    ーム(13)の方向に引き寄せる少なくとも一つあるい
    は複数の昇降装置(34)によって変位できることを特
    徴とする請求項1ないし21のいずれか1つに記載の装
    置。
  23. 【請求項23】基板ホルダないし蓋(31)が基板
    (2)を検出するための少なくとも一つのセンサ(3
    7)を有していることを特徴とする請求項1ないし8の
    いずれか1つに記載の装置。
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