JPS63299004A - 反射体 - Google Patents
反射体Info
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- JPS63299004A JPS63299004A JP62134517A JP13451787A JPS63299004A JP S63299004 A JPS63299004 A JP S63299004A JP 62134517 A JP62134517 A JP 62134517A JP 13451787 A JP13451787 A JP 13451787A JP S63299004 A JPS63299004 A JP S63299004A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、照明器具などにおける反射体に係り、可視光
反射赤外線吸収層を形成した反射体に関する。
反射赤外線吸収層を形成した反射体に関する。
（従来の技術）
店舗などにおいて、商品の陳列部または床面などを照明
する反射体を有する照明器具では、ランプから放射され
る熱線が可視光線とともに反射体にて反射して照射され
、この照射された熱線にて商品を熱変色させ、または熱
変形させたりするおそれがあるものがある。そこで、例
えば特開昭６０−９７５０２号公報に記載されているよ
うに、金属基体の表面に熱吸収層を形成し、この熱吸収
層の表面に赤外線を透過し可視光を反射するダイクロイ
ック層といわれる多ＩＩＩＩｍを形成し、被照射面に照
射される熱線が少なくなるようにした反射体が提案され
ている。
する反射体を有する照明器具では、ランプから放射され
る熱線が可視光線とともに反射体にて反射して照射され
、この照射された熱線にて商品を熱変色させ、または熱
変形させたりするおそれがあるものがある。そこで、例
えば特開昭６０−９７５０２号公報に記載されているよ
うに、金属基体の表面に熱吸収層を形成し、この熱吸収
層の表面に赤外線を透過し可視光を反射するダイクロイ
ック層といわれる多ＩＩＩＩｍを形成し、被照射面に照
射される熱線が少なくなるようにした反射体が提案され
ている。
またアルミニュームなどにて成型された略皿状の反射体
の表面の赤外線を透過し可視光を反射するダイクロイッ
ク層といわれる多層膜層は真空Ｗ１＠によりて形成する
ことが一般的である。この多層膜層のＷ＆着影形成、真
空蒸着炉内に蒸発金属の蒸発源から反射板体の金属基体
を前記蒸発源に向けて配置し、この金Ｉｉ！基体の表面
に蒸発源から発生した蒸発金属をｊ１＠する方法が採ら
れていた。
の表面の赤外線を透過し可視光を反射するダイクロイッ
ク層といわれる多層膜層は真空Ｗ１＠によりて形成する
ことが一般的である。この多層膜層のＷ＆着影形成、真
空蒸着炉内に蒸発金属の蒸発源から反射板体の金属基体
を前記蒸発源に向けて配置し、この金Ｉｉ！基体の表面
に蒸発源から発生した蒸発金属をｊ１＠する方法が採ら
れていた。
しかしながら反Ｑ４体の深さが［１開口に比して深い場
合には、金１ｉ１１基体の絞り加二［が困難であるばか
りでなく、蒸発源から蒸発される蒸発金属が反射体の金
ｍ基体の表面に当たる角度は、深い部分では傾斜状とな
り、蒸発金属の衝突エネルギーが小さくなるため、蒸発
金属の密着性が悪く、蒸着膜層の膜厚がばらつぎ易く、
照射光に色むらが生じるおそれがある問題があった。
合には、金１ｉ１１基体の絞り加二［が困難であるばか
りでなく、蒸発源から蒸発される蒸発金属が反射体の金
ｍ基体の表面に当たる角度は、深い部分では傾斜状とな
り、蒸発金属の衝突エネルギーが小さくなるため、蒸発
金属の密着性が悪く、蒸着膜層の膜厚がばらつぎ易く、
照射光に色むらが生じるおそれがある問題があった。
そこで、従来は第６図に示すように、真空蒸着炉１内で
反射体の金属基体２を蒸発金属の蒸発１３に対して傾斜
した回転軸４を中心として自転させながら蒸着すること
により、均等に蒸着膜が形成されるようにしている。
反射体の金属基体２を蒸発金属の蒸発１３に対して傾斜
した回転軸４を中心として自転させながら蒸着すること
により、均等に蒸着膜が形成されるようにしている。
（発明が解決しようとする問題点）
上記第６図に示す方法で反射体の表面に可視光反射赤外
線吸収層を蒸着形成するには、真空蒸着炉にて反射体の
金属基体を自転させなくてはならず、生産性が悪く、装
置が高価となる問題を有していた。
線吸収層を蒸着形成するには、真空蒸着炉にて反射体の
金属基体を自転させなくてはならず、生産性が悪く、装
置が高価となる問題を有していた。
そこで本発明者は、蒸着可視光反射赤外線吸収層の密着
性を良好にして金属基体に可視光反射赤外線吸収層が均
等に形成されるようにするには、金属基体の照射開口の
径に対する深さをを制約することにより解決されること
に着目し、本発明者は蒸発金属が金ｆｆｌ基体に当たる
角度が略５５°以上であるとＭＷ可視光反射赤外線吸収
層の密着性が良いことを経験的に知得し、反射体の成型
が容易で、金ＪＡＭ体を真空蒸着炉で回転させなくても
可視光反射赤外線吸収層の密着性が良好で、可視光反射
赤外線吸収層が全面均等に形成され、照射光に色むらが
発生するおそれがなく、装置が簡単になり、生産性が向
上され、安価に製造できる反射体を提供することを目的
としたものである。
性を良好にして金属基体に可視光反射赤外線吸収層が均
等に形成されるようにするには、金属基体の照射開口の
径に対する深さをを制約することにより解決されること
に着目し、本発明者は蒸発金属が金ｆｆｌ基体に当たる
角度が略５５°以上であるとＭＷ可視光反射赤外線吸収
層の密着性が良いことを経験的に知得し、反射体の成型
が容易で、金ＪＡＭ体を真空蒸着炉で回転させなくても
可視光反射赤外線吸収層の密着性が良好で、可視光反射
赤外線吸収層が全面均等に形成され、照射光に色むらが
発生するおそれがなく、装置が簡単になり、生産性が向
上され、安価に製造できる反射体を提供することを目的
としたものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明の反射体は、前面に照射開口を有する略皿状に形
成された金属基体と、この金属基体に蒸着形成され可視
光反射赤外線吸収層とからなり、上記金属基体の照射開
口の径「゛とこの照射開口から頂部までの深ざｈとの関
係をｈ／ｒ＝１／１．５以下としたことを特徴としたも
のである。
成された金属基体と、この金属基体に蒸着形成され可視
光反射赤外線吸収層とからなり、上記金属基体の照射開
口の径「゛とこの照射開口から頂部までの深ざｈとの関
係をｈ／ｒ＝１／１．５以下としたことを特徴としたも
のである。
（作用）
本発明の反射体は、反射体の照射開口の径ｒとこの照射
開口から頂部までの深さｈとの関係をｈ／ｒ・・１／１
．５ＩＸ下としたため、金属基体は照［１０の径に比し
て比較的に深さが浅く、真空蒸着炉内で、蒸発金属の蒸
発源に対向させた金属基体の表面に当たる蒸発金属の当
たる角度は略５５′″以上となり、蒸着される蒸発金属
の密着性が高められ、均等な厚みの可視光反射赤外線吸
収層は均等となり、照射光は色むらが発生するおそれが
なく、また反射体の金属基体は絞りプレス加工などにて
容易に成型でき、この反射体にて反射される照射光の熱
線が低下される。
開口から頂部までの深さｈとの関係をｈ／ｒ・・１／１
．５ＩＸ下としたため、金属基体は照［１０の径に比し
て比較的に深さが浅く、真空蒸着炉内で、蒸発金属の蒸
発源に対向させた金属基体の表面に当たる蒸発金属の当
たる角度は略５５′″以上となり、蒸着される蒸発金属
の密着性が高められ、均等な厚みの可視光反射赤外線吸
収層は均等となり、照射光は色むらが発生するおそれが
なく、また反射体の金属基体は絞りプレス加工などにて
容易に成型でき、この反射体にて反射される照射光の熱
線が低下される。
（実施例）
本発明の反射体の一実施例の構成を図面第１図および第
２図について説明する。
２図について説明する。
１０はアルミニューム板、ステンレス板、鉄板などの金
ｊｉＩＭ体で例えば、略皿状の回転二次曲面体に成型さ
れ、この金属基体１０の板面と同一・面の頂部にこの頂
部を切り欠いてこの板面と開口縁が平坦面のランプを挿
入する貫通孔１１を形成し、この金属基体１０の下側照
射開口１２の緑部には環状の鍔部１３が形成されている
。そして金属基体１０の照−射開口１２の径ｒとこの照
射開口１２から頂部までの深さｈとの関係をｈ／ｒ−１
／１．５以下とし、好マシクハ、そのｍ係をｈ／ｒ−１
／１．５〜１／３の範囲とする。またこの金ＷＡ基体１
０の表面には例えば、熱吸収性が良好な金属の黒色の酸
化物層１４を形成し、この金ａｍ化物層１４の表面を平
滑に処理した後、この金属酸化物ｌＩ！１４の表面に二
酸化けい素（ＳｉＯｚ）と二酸化チタン（ＴｉＯｚ）と
を交互に蒸着積層し、またはフッ化マグネシウム（ＨＯ
Ｆｚ）と二酸化チタン（Ｔｉ０２）とを交互に蒸着積層
する工程により可視光反射特性を有するとともに赤外線
吸収特性を有する多層１１１層１５を形成して、この金
Ｂ基体１０とこの金属基体１０に形成した熱吸収の金ａ
酸化物１１ｉ１４および多層膜［９１５からなる可視光
反射赤外線吸収層とにて反射体１６が形成される。
ｊｉＩＭ体で例えば、略皿状の回転二次曲面体に成型さ
れ、この金属基体１０の板面と同一・面の頂部にこの頂
部を切り欠いてこの板面と開口縁が平坦面のランプを挿
入する貫通孔１１を形成し、この金属基体１０の下側照
射開口１２の緑部には環状の鍔部１３が形成されている
。そして金属基体１０の照−射開口１２の径ｒとこの照
射開口１２から頂部までの深さｈとの関係をｈ／ｒ−１
／１．５以下とし、好マシクハ、そのｍ係をｈ／ｒ−１
／１．５〜１／３の範囲とする。またこの金ＷＡ基体１
０の表面には例えば、熱吸収性が良好な金属の黒色の酸
化物層１４を形成し、この金ａｍ化物層１４の表面を平
滑に処理した後、この金属酸化物ｌＩ！１４の表面に二
酸化けい素（ＳｉＯｚ）と二酸化チタン（ＴｉＯｚ）と
を交互に蒸着積層し、またはフッ化マグネシウム（ＨＯ
Ｆｚ）と二酸化チタン（Ｔｉ０２）とを交互に蒸着積層
する工程により可視光反射特性を有するとともに赤外線
吸収特性を有する多層１１１層１５を形成して、この金
Ｂ基体１０とこの金属基体１０に形成した熱吸収の金ａ
酸化物１１ｉ１４および多層膜［９１５からなる可視光
反射赤外線吸収層とにて反射体１６が形成される。
次にこの反射体１６を用いた照明器具を図面第３図およ
び第４図について説明する。
び第４図について説明する。
１１は前−に照射０１８を開口し例えば、金属で形成さ
れた略円筒状の筐体で、この筐体１７の背面は複数の放
熱孔１９が形成されている。またこの筐体１７の上面内
側にねじ２０にて上端が固定される例えば、金属にて形
成された取付は枠２１にはランプソケット２２が取付け
られ、この取付は枠２１の先端に前記筺体１７内に配設
される前記反射体１６の頂部が固定されている。そして
この反射体１６の貫通孔″１１から前記ランプソケット
２２に取付けたハロゲンランプなどのランプ２３の発光
部が前記反射体１６内に配設されるようになっている。
れた略円筒状の筐体で、この筐体１７の背面は複数の放
熱孔１９が形成されている。またこの筐体１７の上面内
側にねじ２０にて上端が固定される例えば、金属にて形
成された取付は枠２１にはランプソケット２２が取付け
られ、この取付は枠２１の先端に前記筺体１７内に配設
される前記反射体１６の頂部が固定されている。そして
この反射体１６の貫通孔″１１から前記ランプソケット
２２に取付けたハロゲンランプなどのランプ２３の発光
部が前記反射体１６内に配設されるようになっている。
またこの反射体１６の鍔部１３は前記筺体１７の照射口
１８の縁部に当接され、前記筺体１７の照射口１８部に
弾性的に嵌合した弾性を有するバッフル２５の内周に突
設されている係止突部２６にて保持されている。
１８の縁部に当接され、前記筺体１７の照射口１８部に
弾性的に嵌合した弾性を有するバッフル２５の内周に突
設されている係止突部２６にて保持されている。
次にこの実施例の作用を説明する。
ランプ２３から反射体１６に入射された光の内、可視光
は多層Ｉｌ１層１５にて反射されて″出射され、この多
ｌｌ！膜層１５を透過した赤外線は金属基体１０の熱伝
導率の高い酸化物層１４の熱吸収層にて吸収され、赤外
線はほとんど反射されることなく、熱線反射が少なく、
反射光は低温となり、また金属基体１０の酸化物層１４
にて吸収された赤外線は金ＪｉｌＸ体１０に熱伝導され
、さらにこの金属基体１０が放熱面となり、また反射体
１Ｇには貫通孔１１のみで筒状部が形成されていないた
め、輻射熱が貫通孔１１から抜は出るとともに取付は枠
２１などに熱伝導により放熱するので、金属基体１０の
温度上昇は低く抑えられる。
は多層Ｉｌ１層１５にて反射されて″出射され、この多
ｌｌ！膜層１５を透過した赤外線は金属基体１０の熱伝
導率の高い酸化物層１４の熱吸収層にて吸収され、赤外
線はほとんど反射されることなく、熱線反射が少なく、
反射光は低温となり、また金属基体１０の酸化物層１４
にて吸収された赤外線は金ＪｉｌＸ体１０に熱伝導され
、さらにこの金属基体１０が放熱面となり、また反射体
１Ｇには貫通孔１１のみで筒状部が形成されていないた
め、輻射熱が貫通孔１１から抜は出るとともに取付は枠
２１などに熱伝導により放熱するので、金属基体１０の
温度上昇は低く抑えられる。
また前記反射体１６の金ＩＩＭ体１Ｇは照射ｊ１１コ１
２の径ｒとこの照射開口１２から頂部までの深さｈとの
関係をｈ／ｒ＝１／１．５以下、好ましくは、ｈ／ｒ・
・１／１．５〜１／３の範囲としたため、金属基体１０
は照ｔＪ４ｙＵ口１２の径に比して比較的に深さが浅く
、第５図で示す真空蒸着炉２５内で蒸発金属の蒸発＋１
２６に対向させて等距離に並列に配置して金属酸化物層
１４および多層膜層１５を蒸着する場合、金属基体１０
の表面に当たる蒸発金属の当たる金属基体１０の全面に
対して角度αは略５５°以上で９０゜までの範囲となり
、蒸発金属が金属基体１０の表面には全面に略垂直に当
り、蒸発金属が金属基体１０に当たる衝突エネルギーが
大きく、蒸着される蒸発金属の密着性が高められ、均等
な厚みの金属酸化物層１４と多層膜１１ｉ１５は均等と
なり、照射光は色むらが発生するおそれがなく、また反
射体１６の金ａｍ体１０は絞りプレス加工などにて容易
に成型でき、この反射体にて反射される照射光の熱線が
低下される。
２の径ｒとこの照射開口１２から頂部までの深さｈとの
関係をｈ／ｒ＝１／１．５以下、好ましくは、ｈ／ｒ・
・１／１．５〜１／３の範囲としたため、金属基体１０
は照ｔＪ４ｙＵ口１２の径に比して比較的に深さが浅く
、第５図で示す真空蒸着炉２５内で蒸発金属の蒸発＋１
２６に対向させて等距離に並列に配置して金属酸化物層
１４および多層膜層１５を蒸着する場合、金属基体１０
の表面に当たる蒸発金属の当たる金属基体１０の全面に
対して角度αは略５５°以上で９０゜までの範囲となり
、蒸発金属が金属基体１０の表面には全面に略垂直に当
り、蒸発金属が金属基体１０に当たる衝突エネルギーが
大きく、蒸着される蒸発金属の密着性が高められ、均等
な厚みの金属酸化物層１４と多層膜１１ｉ１５は均等と
なり、照射光は色むらが発生するおそれがなく、また反
射体１６の金ａｍ体１０は絞りプレス加工などにて容易
に成型でき、この反射体にて反射される照射光の熱線が
低下される。
なお前記金属基体１０の酸化物ｌｉ！１４と多１Ｉｌｌ
ｌＩＷＡ１５とにて可視光反射赤外線反射層を形成した
が、多層膜１Ｉｉ１５の赤外線吸収率が高い場合には酸
化物層１４は必ずしも必要ではなく、また酸化物１ｉ１
１４と多層膜層１５との間に可視光反射層または透明保
護層などを介在することもできる。
ｌＩＷＡ１５とにて可視光反射赤外線反射層を形成した
が、多層膜１Ｉｉ１５の赤外線吸収率が高い場合には酸
化物層１４は必ずしも必要ではなく、また酸化物１ｉ１
１４と多層膜層１５との間に可視光反射層または透明保
護層などを介在することもできる。
本発明によれば、照射開口を有する略皿状に形成された
金属基体に形成され可視光反射赤外線吸収層からなる反
射体は、この反射体の照射開口の径ｒとこの照射開口か
ら頂部までの深さｈとの関係をｆｉ／ｒ−１／１．５以
下としたので、金属基体の表面に形成される可視光反射
赤外線吸収膜の密着性が良好で、層の厚みが均等に形成
され、層の形成が容易で、また反射体の深さは比較的浅
く、プレス絞り加工で容易に成型でき、安価に製造でき
、金ｍ基体の表面に形成した可視光反射赤外線吸収層に
て可視光を反射して赤外線を透過し、反射照射光は熱線
の反射が少なく、反射体の温度上昇が抑えられる。
金属基体に形成され可視光反射赤外線吸収層からなる反
射体は、この反射体の照射開口の径ｒとこの照射開口か
ら頂部までの深さｈとの関係をｆｉ／ｒ−１／１．５以
下としたので、金属基体の表面に形成される可視光反射
赤外線吸収膜の密着性が良好で、層の厚みが均等に形成
され、層の形成が容易で、また反射体の深さは比較的浅
く、プレス絞り加工で容易に成型でき、安価に製造でき
、金ｍ基体の表面に形成した可視光反射赤外線吸収層に
て可視光を反射して赤外線を透過し、反射照射光は熱線
の反射が少なく、反射体の温度上昇が抑えられる。
第１図は本発明の一実施例を示す反射体の縦断面図、第
２図は同上反射体の一部の拡大断面図、第３図は同上反
射体を用いた照明器具の一部を切り欠いた側面図、第４
図は同上分解斜視図、第５図は同上反射体の金属基体に
多層ａｍを蒸着する装置の説明図、第６図は従来の反射
体の金属基体に多層膜層を蒸着する装置の説明図である
。 １Ｇ・・金属基体、１２・・照射開口、１５・・可視光
反射赤外線吸収層を形成する多Ｗ４膜層。 “・。 ・ 歳ｅｖｒ
２図は同上反射体の一部の拡大断面図、第３図は同上反
射体を用いた照明器具の一部を切り欠いた側面図、第４
図は同上分解斜視図、第５図は同上反射体の金属基体に
多層ａｍを蒸着する装置の説明図、第６図は従来の反射
体の金属基体に多層膜層を蒸着する装置の説明図である
。 １Ｇ・・金属基体、１２・・照射開口、１５・・可視光
反射赤外線吸収層を形成する多Ｗ４膜層。 “・。 ・ 歳ｅｖｒ
Claims (1)
- （１）前面に照射開口を有する略皿状に形成された金属
基体と、この金属基体に蒸着形成され可視光反射赤外線
吸収層とからなり、 上記金属基体の照射開口の径ｒとこの照射開口から頂部
までの深さｈとの関係をｈ／ｒ＝１／１．５以下とした
ことを特徴とした反射体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62134517A JPH0682521B2 (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | 反射体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62134517A JPH0682521B2 (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | 反射体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7260418A Division JPH08212819A (ja) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | 照明器具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63299004A true JPS63299004A (ja) | 1988-12-06 |
| JPH0682521B2 JPH0682521B2 (ja) | 1994-10-19 |
Family
ID=15130175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62134517A Expired - Lifetime JPH0682521B2 (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | 反射体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0682521B2 (ja) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5684804A (en) * | 1979-12-11 | 1981-07-10 | Toshiba Electric Equip | Illuminator |
| JPS57140001U (ja) * | 1981-02-25 | 1982-09-02 | ||
| JPS59219701A (ja) * | 1983-05-30 | 1984-12-11 | Toshiba Corp | 光反射器 |
| JPS6010207U (ja) * | 1983-06-30 | 1985-01-24 | 松下電工株式会社 | 照明器具用反射鏡 |
| JPS60186829A (ja) * | 1984-03-06 | 1985-09-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 光源装置 |
| JPS61171119U (ja) * | 1985-04-13 | 1986-10-23 | ||
| JPS6224409U (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-14 |
-
1987
- 1987-05-29 JP JP62134517A patent/JPH0682521B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5684804A (en) * | 1979-12-11 | 1981-07-10 | Toshiba Electric Equip | Illuminator |
| JPS57140001U (ja) * | 1981-02-25 | 1982-09-02 | ||
| JPS59219701A (ja) * | 1983-05-30 | 1984-12-11 | Toshiba Corp | 光反射器 |
| JPS6010207U (ja) * | 1983-06-30 | 1985-01-24 | 松下電工株式会社 | 照明器具用反射鏡 |
| JPS60186829A (ja) * | 1984-03-06 | 1985-09-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 光源装置 |
| JPS61171119U (ja) * | 1985-04-13 | 1986-10-23 | ||
| JPS6224409U (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-14 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0682521B2 (ja) | 1994-10-19 |
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