JPH0613258Y2 - 気相成長装置のサセプタ回転位置検出装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［考案の属する技術分野］ 本考案は気相成長装置のサセプタ上のウエハを自動的に
搬出入する等のためにサセプタの回転位置を検出する装
置に関する。

［従来技術］ 従来のサセプタ回転位置検出装置を第３図および第４図
により述べる。２は基台１上に固着されたベースプレー
ト、３はベルジャで、このベルジャ３をベースペレート
２に対して閉じることにより反応炉を形成するようにな
っている。４は円板上のサセプタで上面にウエハ５を第
４図に示すように多数載置するようになっている。この
サセプタ４は、耐熱および耐蝕性に優れかつ機械的強度
にも優れたＳｉ_３Ｎ_４などの材料で作られたサセプタ支
え６を介して回転軸７に取付けられている。なおサセプ
タ４とサセプタ支え６との間およびサセプタ支え６と回
転軸７との間は、回転止めピン８、９などにより一体的
に回転するように固定されている。回転軸７はギヤ１
０、１１などの回転伝達機構を介してＤＣモータ１２に
より回転を与えられるようになっている。なお、１３は
高周波加熱用コイルであり、１４はコイルカバーであ
る。

サセプタ４の外周面上の一個所には第４図に示すように
ほぼＶ字状の回転位置検出用の指標１５が設けてある。
また、サセプタ４の外方には、ベルジャ３を閉じたとき
反応炉の外になるようにサセプタ４から所定距離隔てた
位置に光源１６が設けられ、サセプタ４の外周面に光を
照射するようになっている。なお、前記光はレーザ光を
含み光源１６にはレーザ発信器を含む。またサセプタ４
の外方には指標１５からの反射光を検知するために集光
レンズ１７と光センサ１８などからなる検知手段１９が
設けられている。前記光源１６と検知手段１９はサセプ
タ４の外周面上に設けられた指標１５が、所定の回転位
置に達したとき光源１６からの光が指標１５に当り、指
標１５からの反射光が検知手段１９によって検知される
ように配置される。

サセプタ４に対するウエハ５の配列は指標１５を原点
（回転方向の原点）として該原点からの角度とサセプタ
４の中心からの距離とによって定められ、それらの位置
にウエハ５を受け入れるウエハ用ザグリ２０が設けられ
ている。

第５図は他の従来例の要部を示しており、光源２１から
通常の光をサセプタ４の外周面に照射し、かつその照射
方向を光によって指標１５が影（暗部）を形成するよう
にし、この影による明暗部をテレビカメラによる検知手
段２２で検知するようにしたものである。

第４図に示した従来のサセプタ回転位置検出装置は前述
したように、サセプタ４の外周面にほぼＶ字状の指標１
５を設け光源１６からの光が指標１５に当って反射光に
なり、検知手段１９が反射光を検出することによりサセ
プタ４を所定位置に停止させていた。ここでサセプタ４
の外周面は微細な凹凸を有しており、その面は気相成長
処理前後で異なる等変化し特に個々の凹凸の大きさが比
較的大きくなると、第６図に示すように乱反射をして指
標１５から検知手段１９に到達する光量は減少する。一
方光はサセプタ４の外周面を照射して常時反射光が検知
手段１９に入っているため、上記した指標１５からの反
射光との差は僅かである。サセプタ４の回転に伴う反射
光量の変化を線図として示したのが第７図であり急激に
立ち上った部分が検知を必要とする部分である。この僅
かな反射光量の差を検知するため検知手段のゲインを高
くすると動作が不安定になる欠点があった。また第５図
に示したテレビカメラで指標１５を検知する方式は、装
置が非常に高価になる欠点があった。

［考案の目的］ 本考案のこのような欠点を除去したものでその目的は、
光源からの光が指標により反射光になって検知手段に返
るとき従来は＋レベルで検知していたのに対し、反射光
を微量にするか或いは無反射にして指標の有無による光
量の変化を大きくすることにより、安定して検知するよ
うにした気相成長装置のサセプタ回転位置検出装置を提
供することにある。

［考案の要点］ 本考案は、回転するサセプタの外周面上に設けられた回
転位置検出用指標と、サセプタの外方にあってサセプタ
の外周面に光を照射する光源と、サセプタの外方にあっ
て前記指標からの反射光量の差により指標が所定の回転
位置に達したことを検知する検知手段とからなる気相成
長装置のサセプタ回転位置検出装置において、前記指標
は入口が狭く奥が広い凹形状に形成され、検出手段は受
光量の減少によって指標を検知するように構成されてい
ることを特徴としている。

［考案の実施例］ 以下本考案の一実施例を示した第１図および第２図につ
いて説明する。なお気相成長装置そのものは従来例とし
て述べた第３図と同一であるから説明を省略する。第１
図において４はサセプタであり、サセプタ４の外周の一
個所には入口が狭く奥が広いほぼ円形に切り込んだ指標
３１を設ける。指標３１に光源１６から光３２を照射す
ると第２図に示すように、光３２は指標３１内で反射し
検知手段１９に達する反射光３３は２次反射以上の反射
であるため、指標３１の無い通常時に比較すると明確に
光量は減少する。

サセプタ４の回転に伴う反射光量の変化を線図として示
したのが第８図であって、急激に落ち込んだ部分が検知
を必要とする部分である。

［考案の効果］ 本考案における気相成長装置のサセプタ回転位置検出装
置は以上説明したように、光によるサセプタ回転位置検
出装置において、サセプタの外周面上に設けた指標を、
入口が狭く奥が広い凹形状に形成し、入口から入射した
光がこの入口からほとんど外部へ漏れ出ないようにした
ため、反射光量の差が大きくなり、しかも、この反射光
量の差はサセプタの外周面上に気相成長に伴う反応生成
物が付着してもその影響をほとんど受けることがないた
め、検知手段のゲインを高くする必要がなくなり、サセ
プタの回転位置を安定して検知することが可能になる利
点を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本考案の一実施例を示し第１図は
要部の平面図、第２図は第１図の一部拡大図、、第３図
は気相成長装置の一例の断面図、第４図および第５図は
異なる形状の従来例の要部平面図、第６図は第４図の一
部拡大図、第７図は従来例のサセプタ回転に伴う反射光
量の変化を示す線図、第８図は本考案におけるサセプタ
回転に伴う反射光量の変化を示す線図である。 ４……サセプタ，１６……光源，１９……検知手段，３
１……指標，３２……光，３３……反射光。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】回転するサセプタの外周面上に設けられた
   回転位置検出用指標と、前記サセプタの外方にあって前
   記サセプタの外周面に光を照射する光源と、前記サセプ
   タの外方にあって前記指標からの反射光量の差により前
   記指標が所定の回転位置に達したことを検知する検知手
   段とからなる気相成長装置のサセプタ回転位置検出装置
   において、前記指標は入口が狭く奥が広い凹形状に形成
   され、検出手段は受光量の減少によって指標を検知する
   ように構成されていることを特徴とする気相成長装置の
   サセプタ回転位置検出装置。