JPS63261268A - 正帯電型電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、電子写真特性及び耐久性に優れ喪正帯電型電
子写真感光体に関する。

（従来の技術） 光導電性物質を感光材料として利用する電子写真感光体
において光導電性物質としては、従来。

セレン、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化カドミウム等の無
機系光導電性が主に用いられてきた。しかし、これらの
多くは、一般に毒性が強く廃棄する方法にも問題がある
。

一方、有機光導電性化合物を使用した感光材料は。

無機系光導電性物質を使用する場合に比べて一般に毒性
が弱く、更に透明性、可撓性、軽量性１表面平滑性９価
格等の点において有利であるので、近年広く研究され、
実用化されつつある。その中で電荷の発生と輸送という
機能を分離した複合型感光体は、従来、有機光導電性化
合物を使用した感光体の大きな欠点であった感度を大幅
に向上させることができるため、近年急速な進歩を遂げ
つつある。このような複合型感光体は９例えば米国特許
第３，８３７，８５１号明細書、同第３．８７１，８８
２号明細書などに開示されている。

これらの複合型感光体をカールソン法による電子写真装
置に適用した場合には、まず感光体表面に静電潜像を形
成し９次に異符号に帯電した一般にトナーと称する現像
剤によシ現像し、トナー画像を他の基体１例えば紙等に
転写、定着し、コピーを得ることができる。

従来の有機光導電性化合物を使用した電子写真感光体は
、一般に導電層の上に電荷発生層及び正孔移動型電荷輸
送層を順次積層しているため、感光体表面を負に帯電し
て使用する。コロナ放電によシ負帯電を行うと、正帯電
の場合比べてオゾンの発生量が多く、帯電も不均一にな
シやすい。その点で、できれば正帯電で機能しうる感光
体、即ち正帯電型電子写真感光体が望ましい。正帯電型
電子写真感光体として、導電層の上に電子供与件の電荷
輸送性物質を含む電荷輸送層及び電荷発生層を順次積層
した感光体がある。一般にこの感光体の作像表面層すな
わち電荷発生層の膜厚は、たかだか１μｍ程度と非常に
薄い。しかるに、前記の電子写真装置では、現像、転写
後感光体表面に残存しているトナーを感光体表面に圧接
したブラシやブレード等で除去するため、感光体を繰り
返し使用した場合、感光体表面は、徐々に摩耗し損傷を
受ける。したがって作像表面層である電荷発生層の膜厚
がたかだか１μｍである前記の正帯電型感光体は、著し
く耐久性に欠け、早期に使用できなくなるという欠点が
ある。

この欠点を改良する方法として、電荷発生層の上に保護
層を設けることが考えられる。感光体の耐久性を向上さ
せるために、保護層を設けることは、すでに古くから知
られておシ９例えば、特公昭３８−１５４４６号公報、
特公昭３８−２０６９７号公報、米国特許第２，８６０
，０４８号公報、同ス８９２，７０８号公報、同２，９
０１，３４８号公報、特開昭５１−７８３３１号公報な
どでは、ポリスチレン、ポリ−ｎ−ブチルメタクリレー
ト、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリカ
ーボネート、ポリビニルホルマール、酢酸セルローズ等
からなる保護層が提案されている。また特開昭５０−１
３７７４０号公報、同５１−１５４４１号公報、同５１
−１５４４２号公報、同５１−５４４４１号公報、同５
１−６６８３４号公報。

同５２−７６９２８号公報、同５４−３５７２８号公報
、同５４−１４３６４４号公報などでは。

耐摩耗性を向上する方法として、架橋性保護層を採用す
ることも提案されている。

（発明が解決しようとする問題点） しかし、前記の提案のような、絶縁性の樹脂からなる保
護層は、膜厚が厚くなるにしたがって感度の低下及び残
留電位の増大を招きやすく、膜厚を厚くすることができ
ず、感光体に十分な耐久性を与えることができない。そ
のため、膜厚を厚くしても、電子写真特性を損わない保
護層の開発が望まれている。

本発明は上記の要求を満たす保護層を開発し。

−５＝ 電子写真特性及び耐久性に優れた正帯電型電子写真感光
体を提供することを目的とする。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、導電層の上に電子供与性の電荷輸送性物質を
含む電荷輸送層、電荷を発生する有機顔料を含む電荷発
生層及び保護層を順次積層した電子写真感光体において
、上記保護層が （ａ）　　数平均分子１ｔ１５００以下で、メラミン核
１個当りに結合ホルムアルデヒド数が２〜４個及びメチ
ロール基数が１〜２個であるブチルエーテル化メラミン
・ホルムアルデヒド樹脂。

（ｂ）　　電荷を発生する有機顔料 並びに （ｃ）　　電子受容性カルボン酸化合物及び／又は電子
受容性ポリカルボン酸無水物 を含有してなる正帯電型電子写真感光体に関する。

本発明において導電層とは、導電処理した紙又はプラス
チックフィルム、アルミニウムのよう女金属箔を積層し
たプラスチックフィルム、金属板等の導電体である。

電荷輸送層の主成分である電荷輸送性物質としては、ポ
リ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリ
ビニルベンゾチオフェン、ポリビニルピラゾリン等の高
分子化合物、カルノ（ゾール。

３−フェニルカルバゾール、２−フェニルインドール、
オキサジアゾール、１−フェニル−３−（４−ジエチル
アミノスチリル）−５−（４−ジエチルアミノフェニル
）ピラゾリン、ヒドラゾン。

２−フェニル−４−（４−ジエチルアミノフェニル）−
５−フェニルオキサゾール、トリフェニルアミン、イミ
ダゾール等の低分子化合物及びこれらの誘導体の電子供
与性化合物がある。

また、電荷輸送層には、電子写真感光体に通常使用され
る結合剤、可塑剤、流動性付与剤、ピンホール抑制剤等
の添加剤を必要に応じて添加することができる。結合剤
としては、シリコーン樹脂。

・ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂
、ポリアクリルアミド樹脂等が挙げられる。また、熱及
び／又は光によって架橋される熱硬化型樹脂及び光硬化
型樹脂も使用できる。いずれにしても絶縁性で通常の状
態で皮膜を形成しうる樹脂、並びに熱及び／又は光によ
って硬化し、皮膜を形成する樹脂であれば特に制限はな
い。可塑剤としては、ハロゲン化パラフィン。

ジメチルナフタリン、ジブチルフタレート等が挙げられ
る。流動性付与剤としては、モダフロー（モンサントケ
ミカル社製）、アクロナール４Ｆ（バスフ社製）等が挙
げられ、ピンホール抑制剤としては、ベンゾイン、ジメ
チルフタレート等が挙げられる。これらは適宜選択して
使用され、その量も適宜決定されればよい。

電荷輸送層中には、前記電荷輸送性物質が高分子化合物
である場合には、結合剤を用いなくてもよいが、＃高分
子化合物に杖して結合剤を４００重量−以下の量で使用
してもよい。結合剤の量が４００重量％を越えると、電
子写真特性が低下する。また、前記電荷輸送性物質が低
分子化合物である場合には、結合剤を該低分子化合物に
対して３０〜４００重景チ使用する。結合剤が３０重量
−未満であると、！荷輸送層の形成が困難になる傾向が
ちシ、４００重量％を越えると、電子写真特性が低下す
る傾向がある。また、可塑剤等の添加剤は、前記の電荷
輸送性物質に対して５重量−以下で適宜使用される。

電荷輸送層の膜厚は、５〜５０μｍが好ましく。

特に８〜２０μｍが好ましい。電荷輸送層の膜厚が５μ
ｍ未満では、帯電性が劣る傾向があシ、５０μｍを越え
ると感度が低下する傾向がある。

電荷輸送層を形成する場合には、必要な成分をア七トン
、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤。

テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、トルエン、キ
シレン等の芳香族系溶剤、塩化メチレン。

四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶剤、メタノール
、エタノール、プロパツール等のアルコール系溶剤に均
一に溶解させた後、導電層上に塗布し、乾燥する。

電荷発生層に含まれる電荷を発生する有機顔料としては
９例えば、アゾキシベンゼン系、ジスアソ系、トリスア
ゾ系、ベンズイミダゾール系、多環キノン系、インジゴ
イド系、キナクリドン系。

ペリレン系、メチン系等、電荷を発生することが知られ
ている任意の顔料を使用することができる。

これらの顔料は９例えば、特開昭４７−３７５４４号、
特開昭４７−１８５４３号、特開昭４７−１８５４４号
、特開昭４８−４３９４２号、特開昭４８−７０５３８
号、特開昭４９−１２３１号。

特開昭４９−１０５５３６号、特開昭５０−７５２１４
号、４！開昭５０−９２７３８号公報に開示されている
。特に、特開昭５８−１８２６４０号公報及゛びヨーロ
ッパ特許出願公開等９２２５５号公報に記載されている
τ、τ′、η及びη′型無金属フタロシアニン長波長に
まで高感度を有しダイオードレーザ−を搭載したプリン
ター用の電子写真感光体としても有効である。

このようなもののほか、光照射によシミ荷を発生する任
意の有機顔料を使用することができる。

電荷発生層にも電荷輸送層と同様な結合剤、可塑剤、流
動性付与剤、ピンホール抑制剤等を必要に応じて用いる
ことができる。

この中で結合剤は前記有機顔料に対して３００重量％以
下で使用する。３００重量％を越えると。

電子写真特性が低下する。その他の添加剤は、各々、有
機顔料に対して５重Ｉ１％以下が好ましい。

電荷発生層の膜厚は、０．００５〜３μｍが好ましく、
４！に０，０１〜１μｍが好ましい。電荷発生層の膜厚
が０．００５μｍ未満では感度が劣る傾向があシ、３μ
ｍを越えると残留電位が増加する傾向がある。

電荷発生層を形成する方法として、有機顔料のみを用い
る場合には、真空蒸着で行うこともできるが、有機顔料
、結合剤及び場合によシ添加剤をアセトン、メチルエチ
ルケトン、テトラヒドロフラン、トルエン、メタノール
、エタノール、キシレン、塩化メチレン、トリクロルエ
タン等の溶剤に均一に溶解又は１分散させた後、電荷輸
送層の上に塗布し乾燥して形成することもできる。

本発明の感光体は、導電層のすぐ上に薄い接着層又はバ
リヤ層を有していてもよい。

次に、保護層について説明する。

本発明の保護層は、特定のブチルエーテル化メラミン・
ホルムアルデヒド樹脂、電荷を発生する有機顔料並びに
電子受容性カルボン酸化合物及び／又は電子受容性ポリ
カルボン酸無水物の硬化皮膜によって主に形成されるが
、この硬化皮膜はこれらを含む塗膜を加熱により硬化さ
せて得ることができる。

本発明において用いられるブチルエーテル化メラミン・
ホルムアルデヒド樹脂の数平均分子量は１５００以下で
あシ、数平均分子量が１５００を越えると反応性が低下
する。また骸樹脂はメラミン核１個浩シ結合ホルムアル
デヒドを２〜４個有する。４個を越えると反応性が低下
し、２個未満では該樹脂の貯蔵安定性が悪くなシ、硬化
塗膜がもろくなる。更忙該樹脂はメラミン核１個あえり
メチロール基を１〜２個有するものである。メチ。

ロール基の数が２個を越えると該樹脂の貯蔵安定性が劣
シ、硬化塗膜がもろくなる。また、１個未満では反応性
が劣る。

このようなブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂は、メラミンをブタノールに溶解し、これにホル
ムアルデヒドを滴下することによって付加反応及びブチ
ルエーテル化反応を行う方法、或いはメラミン及びホル
ムアルデヒドをブタノールに溶解させ、この溶液を加熱
して付加反応及びブチルエーテル化反応を行う方法によ
って製造できる。これらの方法において反応は硝酸、塩
酸、硫酸、燐酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の酸性触媒
を添加し、酸性下、好ましくはｐＨ３〜６で行うのが好
ましく９反応温度はブタノールの還流温度、好ましくは
約９０〜１００℃であるのが好ましい。本発明において
は、メラミン１モルに対してブタノール４〜５モル及び
ホルムアルデヒド３〜７モルを使用して、前記の反応を
実施するのが好ましい。

本発明の保護層拠用いられるブチルエーテル化メラミン
・ホルムアルデヒド樹脂は、従来のメラミン樹脂に比べ
て低温硬化が可能になるため保護層形成前に電子写真感
光体を熱劣化させることなく、かつ、耐摩耗性の高い保
護層が形成できる。

本発明の保護層に含まれる電荷を発生する有機顔料とし
ては、前記の電荷発生層に周込る有機顔料を任意に使用
することができる。この場合、保護層に含まれる有機顔
料と、電荷発生層に含まれる有機顔料は、同じでもよく
、また異なってもよい。

保護層中において、有機顔料は、前記のブチルエーテル
化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂に対して、０．５〜
２５重量％の範囲内で使用するのが好ましく、特に１〜
１０重ｉ％の範囲が好ましい。

有機顔料が２５重量％を越えると、感度が低下し。

耐摩耗性も劣る。また、有機顔料が０．５重量％未満で
は、残留電位が増加する。

本発明の保護層に含まれる有機顔料は、光照射時に、電
荷を発生して、保護層の抵抗を低下させるため、保護層
を設けたことによる電子写真特性の低下、特に残留電位
の増加を小さくすることができる。

以上説明した。特定のブチルエーテル化メラミン・ホル
ムアルデヒド樹脂と、電荷を発生する有機顔料を含有し
てなる保護層でも、従来の保護層と比べると、保護層を
設けたことによる電子写真特性の低下が少なく、耐摩耗
性にも優れている。

しかし９本発明は、さらに電子受容性カルボン酸化合物
及び／又は電子受容性ポリカルボン酸無水物を使用する
ことによシ、下記の特長を付加するものである。

（１）電子受容性カルボン酸化合物及び／又は電子受容
性ポリカルボン酸無水物は、前記のブチルエーテル化メ
ラミン・ホルムアルデヒド樹脂の硬化反応を促進するの
で、よシ低温、短時間で、耐摩耗性に一層優れた保護層
が得られる。

（２）上記カルボン酸及び酸無水物は電子受容性である
ため、この性質が保護層に導入される。この結果として
電荷発生層から保護層への電子の注入が効率よく行われ
、感度の低下及び光照射後の残留電位の増加を極めて小
さくできる。従って。

保護層をさらに厚くすることができ、感光体の寿命をよ
シ長くすることができる。

前記電子受容性カルボン酸化合物としては、カルボキシ
ル基を１個以上有する化合物で、電子受容性を示す化合
物であシ、＃化合物中に、ニトロ基、ニトリル基、カル
ボニル基等の電子吸引基を有していてもよい。具体的に
は、酪酸、吉草酸。

ヘプタン酸、アクリル酸、メタクリル酸、チグリン酸、
コハク酸、アジピン酸、グルタル酸、セバシン酸、ウン
デカンニ酸、マレイン酸、グルタコン酸、プロパン−１
，２，３−）リカルボン酸、ブタン−１，１，４−トリ
カルボン酸、ペンタン−１，３，３゜５−テトラカルボ
ン酸、キノバ酸、フェニルプロピオン酸、フェニル酢酸
、安息香酸、フタル酸。

イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸。

ヘミメリット酸、トリメシン酸、メロファン酸。

ピロメリット酸、ケイ皮酸、シンナミリデン酸。

ベンジルアクリル酸、α−フェニルクロトン酸。

ベンザルプロピオン酸、ビフェニル−２−カルボン酸、
ジフェン酸、α−ナフトエ酸、β−ナフトエ酸、ナフタ
リン−１，２−ジカルボン酸、ナフタル酸、ナフタリン
−１，４，５−）リカルボン酸、ナフタリン−１，４，
５，８−テトラカルボン酸、アントラセン−１−カルボ
ン酸、アントラセン−１，９−ジカルボン酸、アントラ
セン−２，３−ジカルボン酸、フェナントレン−１−カ
ルボン酸、フェナントレン−９−カルボン酸、ジベンゾ
チオ７エンー１−カルボン酸、チアナフテンース３−ジ
カルボン酸、ペリレン−３，４，９，１０−テトラカル
ボン酸。

３−ニトロへブタン酸、２−ニトロアジピン酸。

４−ニトロ安息香酸、Ｚ３−ジニトロ安息香酸。

２．４．６−）リニトロ安息香酸、３−ニトロフタル酸
、４．６−シニトロイソフタル酸、２．６−シニトロテ
レフタル酸、４−シアノ安息香酸、４，６−ジシアツイ
ソフタル酸、ペンゾフエノンース２′−ジカルボン酸、
ベンゾフェノン−２，４，ｉ　４’−テトラカルボン酸
、４−ニトロ−２−ナフトエ酸、８−ニトロ−１−ナフ
トエ酸、アントロン−９−カルボン酸、２−ニトロ−ア
ントラセン−１−カルボン酸、２−カルボキシ−１，４
−ベンゾキノン、ｐ−ベンゾキノイル酢酸、５−カルボ
キシ−１，４−ナフトキノン、２−ニトロ−５−カルボ
キシ−１゜４−ナフトキノン、１−カルボキシ−アント
ラキノン、２−カルボキシ−４，７−シニトロフルオレ
ノンなどがある。

前記電子受容性ポリカルボン酸無水物とは、上記電子受
容性カルボン酸化合物のうち、カルボキシル基を２個以
上有するものの酸無水物であシ。

具体的には、コハク酸無水物、グルタル酸無水物。

マレイン酸無水物、フタル酸無水物、トリメリド酸無水
物、ピロメリト酸無水物、ナフタル酸無水物、ナフタリ
ン−１，４，５−）リカルボン酸無水物。

ナフタリン−１，４，５，８−テトラカルボン酸無水物
。

アントラセン−２，３−ジカルボン酸１１ｍ水物、３−
二トロフタル酸無水物などがある。

前記電子受容性カルボン酸化合物及び電子受容性ポリカ
ルボン酸無水物は、これらのうち１種以上が使用され、
その使用量は、前記ブチルエーテル化メラミン・ホルム
アルデヒド樹脂に対して０．１〜４０重１％が好ましく
、特に１〜２０重量−が好ましい。この使用量が少なす
ぎると前記特長を発揮しかたくなシやすく、多すぎると
保護層の耐湿性が低下する傾向がある。

本発明の保護層には、前記電荷輸送層の説明に記載した
添加剤を適宜含有させてもよい。

本発明の保護層の厚さは０．０１〜ｌＯμｍが好ましく
、特に０．１〜５μｍが好ましい。０．０１μｍ未満で
は保賎層としての効果が小さくなシやすく。

１０μｍを越えると感度の低下及び残留電位の増大の傾
向がある。

保護層を形成するには、前記のブチルエーテル化メラミ
ン・ホルムアルデヒド樹脂と電子受容性カルボン酸化合
物及び／又は電子受容性ポリカルボン酸、さらに場合に
より添加剤を溶剤に均一に溶解し、最後に電荷を発生す
る有機顔料を溶解又は分散した後、電荷発生層の上に塗
布し、加熱乾燥して行うことができる。加熱は９０〜１
４０℃になるようにされるのが好ましい。

本発明に係る電子写真感光体を用いて複写又は印刷を行
う場合には、従来と同様に表面に正帯電。

露光を施した後、現像を行い、普通紙等の被転写物上に
画像を転写し、定着すればよい。

（実施例） 次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが。

本発明はこれに限定されるものではない。

以下の例中に用いる各材料を次に列記する。括弧内には
、略号を示す。

（１）電荷輸送性物質 ２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−４−（ｐ−ジメ
チルアミノフェニル）−５−（０−クロロフェニル）−
１，３−オキサゾール　（ＯＸＺ）（２）電荷を発生す
る有機顔料 （１１τ型無金属フタロシアニン　（τ−ＨｇＰｃ）（
Ｉ＋）　　α型無金属′フタロシアニン　（α−Ｈｚ　
Ｐ　ｃ　）（３）結合剤 （Ａ）　　電荷輸送層用結合剤 ポリエステル樹脂：ハイロン２００ 〔東洋紡績■商品名〕 （Ｂ）　　電荷発生層用結合剤 ブチラール樹脂：エレツクスＢＭ−８ Ｃ積水化学工業■商品名〕 （４）保護層用樹脂 ブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂（Ｂ
ＭＦ） （ＢＭＦ−１の合成） 攪拌機、還流冷却器、温度計を装着したフラスコ中にメ
ラミン１２６ｇ、ｎ−ブタノール４４４９及び６１％硝
酸水溶液０．２ｇを入れ、１００℃に昇温した後、パラ
ホルムアルデヒド１６９ｇを３０分間に６回に分けて等
間隔で添加し、その後還流温度で３０分間反応させ、水
分を除去し、加熱残分が５０％になるように脱溶剤を行
った。得られた樹脂溶液の粘度は、ガードナー（２５°
Ｃ）でＢであった。

（ＢＭＰ−２の合成） ＢＭＦ−１の合成と同様の装置を用い、メラミン１２６
９．ｎ−ブタノール４４４９．６１％硝酸水溶液０．２
ｇ及びパラホルムアルデヒド１６９９を混合して仕込み
、１００℃に昇温後、３０分間反応させた。その後、還
流脱水を３０分行い。

水分を除去すると共に、加熱残分が５０％になるように
脱溶剤を行った。得られた樹脂溶液の粘度は、ガードナ
ー（２５℃）でＣであった。

（ＢＭＦ−３の合成） ＢＭＦ−１の合成と同様の装置を用い、パラホルムアル
デヒド２１７．５９．１１−ブタノール４４４９及びメ
ラミン１２６９を秤シ取ｊ）、９０〜１００℃で３０分
間付加反応を行った。その後４０〜４５℃に冷却しフタ
ル酸０，１ｇを加え、酸性条件下で還流脱水及び脱溶を
行った。この後、加熱残分が５０優になるよう調整した
。このときの粘度は（ガードナー／２５℃）Ｂであった
。

ＢＭＦ−１，ＢＭＦ−２及びＢＭＦ−３のメラミン核１
個当シの結合ホルムアルデヒド数、ブチルエーテル基数
及びメチロール基数並びに数平均分子量を下記の表１に
示す。

但し、結合ホルムアルデヒド数は、仕込み量と亜硫酸ソ
ーダ法による未反応ホルムアルデヒド量の測定によシ求
め、ブチルエーテル基数はブタノールの仕込み量と内部
標準液として５ｅｃ−ブチルアルコールを使用したガス
クロマトグラフィーＫ、よる未反応のブタノールの測定
によシ求め、メチロール基は、上記ブチルエーテル基数
とＮＭＲスペクトルから求めた。また、数平均分子量は
ゲル透過クロマトグラフィーによシ標準ポリスチレンの
検量線を利用して行った。

表１　ブチルエーテル化メラミン・ ホルムアルデヒド樹脂の特性 （５）カルボン酸及び酸無水物 Ｏピロメリト酸無水物 ０３−ニトロ７タル酸 ウナ７タリン−１，４，５，８−テトラカルボン酸比較
例１ ｏｘｚｓｇ及びポリエステル樹脂１２９をテトラヒドロ
フラン８０９に混合し、完全に溶解させた。得られた溶
液をアプリケーターによシアルミニウム板（厚さｏ、　
１１ｍ）上に塗工し、９０℃で２０分間乾燥して１５μ
ｍの電荷輸送層を形成した。

次にτ−Ｈ５Ｐｃ　１．６　ｇ、ブチラール樹脂２．４
ｇ及びメタノール８０９をボールミル（日本化学陶業製
３寸ボットミル）を用いて８時間混練した。得られた分
散液を前記の電荷輸送層の上にアプリケーターにより塗
工し、１００℃で１時間乾燥し。

厚さ約１７１ｍの電荷発生層を形成した。

比較例２〜５ 比較例１と同様な方法で作製した感光体の上にＢＭＦ−
３又はＢＭＦ−１，４０９（固形分で２０ｇ）及びイソ
プロパツール６０９からなる溶液をアプリケーターによ
シ塗工した。保護層の乾燥条件及び膜厚を表２に示す。

比較例６〜７ τ−）ｈＰｃｌｇ、　ＢＭＦ−１３８ｇ　（固形分で１
９９）及びインプロパツール６１９をボールミルで８時
間混練した。得られた分散液を比較例１と同様な方法で
作製した感光体の上にアプリケーターによシ塗工し、１
１０℃で１時間乾燥し。

表２に示す膜厚の保護層を形成した。

実施例１〜８ ボールミルで８時間混練して得られた９表２に示す組成
比率の分散液（溶剤にインプロパツールを使用）を、比
較例１と同様な方法で作製した感光体の上にアプリケー
ターによシ塗工し、加熱乾燥して保護層を形成した。保
護層の乾燥条件及び膜厚を表２に示す。

得られた電子写真感光体の電子写真特性を静電記録紙試
験装置（川口電機１１ｉＳＰ−４２８）を用いて測定し
た。結果を表３に示す。

なお表中の初期電位Ｖｏ（Ｖ）はダイナミック測定で正
５ＫＶのコロナを１０秒間放電したときの帯電電位を示
し、暗減衰ＶＫはその後暗所においで３０秒間放置した
ときの電位保持率を示し、　Ｅｓｏ、　Ｅπは１０／ｕ
ｘの白色光を照射し電位がそれぞれ５０チ、７５チ低下
するに要した光量値（Ｉ！ｘ−ｓ）を示す。残留電位Ｖ
ｉ（Ｖ）は１０Ｊｕｘの白色光を３０秒間照射したのち
の表面電位を示す。

また摩擦試験機（スガ試験機製）を用いて電子写真感光
体の表面をガーゼで摺動し１表面の摩耗傷が保護層を通
ってその下の層に達するまでの摺動回数で耐摩耗性を計
画した。尚、比較例１〜３の感光体の場合は、ガーゼの
繊維跡が目視で確認できるまでの摺動回数を測定した。

結果を表３に示す。

以下余白 表３　電子写真特性と耐摩耗性 比較例１の感光体は、正帯電で機能し電子写真特性も優
れているが、保護層が設けられていないため、耐摩耗性
２００回以下と極めて劣る。また。

比較例１の感光体の表面に本発明の範囲外のメラミン樹
脂（ＢＭＦ−３）単独からなる保護層を形成した場合（
比較例２．３）低温（１１０℃）。

短時間（１時間）の乾燥条件では硬化不足のため耐摩耗
性が低く（比較例２）、硬化条件を高温（１６０℃）、
長時間（３時間）とし、かつ保護層を厚膜化（３μｍ）
した場合、耐摩耗性はやや向上したが、電子写真特性の
低下が大きい（比較例３）。

比較例１の感光体の表面に本発明の範囲内のメラミン樹
脂（ＢＭＦ−１）単独からなる保護層を形成した場合（
比較例４．５）、低温短時間でも十分に硬化し、耐摩耗
性は大きく向上し、電子写真特性の低下も少ない（比較
例４）。しかし耐摩耗性を更に向上すべく保護層の膜厚
を３μｍと厚くするとやはシミ子写真特性が低下した（
比較例５）。

また比較例１の感光体の表面に本発明の範囲内にあるメ
ラミン樹脂（ＢＭＦ−１）と電荷を発生する有機顔料（
τ−Ｈ２Ｐ　ｃ　）からなる保護層を形成した場合（比
較例６，７）は、比較例８に比べて更に電子写真特性の
低下が小さく、比較例１の保護層がない場合とほぼ同等
の電子写真特性を示し。

かつ比較例８並みの耐摩耗性を維持しているが（比較例
６）、更に耐摩耗性を上げるぺ〈保護層の膜厚を厚くす
ると、やはシ比較例１に比べて。

電子写真特性が劣る（比較例７）。

しかるに９本発明になる実施例１〜８の感光体は、比較
例１の保護層を設けていない感光体と。

はぼ同等の電子写真特性を維持しながら耐摩耗性が著し
く高い特長を有している。特に比較例２〜７と比べてよ
シ低温短時間で保護層が形成でき。

かつ保護層の膜厚が同じ感光体同志を比較しても耐摩耗
性が向上していることがわかる。

また、比較例３，５及び７の場合にみられた保護層の厚
膜化に伴う電子写真特性の低下が本発明になる実施例に
は見られない。

勿論、膜厚を厚くした分だけ耐摩耗性も向上している。

（発明の効果） 本発明に係る表面に特定のブチルエーテル化メラミン・
ホルムアルデヒド樹脂、電荷を発生する有機顔料並びに
電子受容性カルボン酸化合物及び／又は電子受容性ポリ
カルボン酸無水物からなる硬化皮膜を有する電子写真感
光体は優れた電子写真特性を有し、耐久性に優れ耐刷寿
命も著しく高い。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、導電層の上に電子供与性の電荷輸送性物質を含む電
   荷輸送層、電荷を発生する有機顔料を含む電荷発生層及
   び保護層を順次積層した電子写真感光体において、上記
   保護層が （ａ）数平均分子量１５００以下でメラミン核１個当り
   に結合ホルムアルデヒド数が２〜４個及びメチロール基
   数が１〜２個であるブチルエーテル化メラミン・ホルム
   アルデヒド樹脂 （ｂ）電荷を発生する有機顔料 並びに （ｃ）電子受容性カルボン酸化合物及び／又は、電子受
   容性ポリカルボン酸無水物 からなる硬化膜を含有してなる正帯電型電子写真感光体
   。 ２、電荷発生層に含まれる電荷を発生する有機顔料が、
   τ、τ′、η及びη′型無金属フタロシアニンのうち少
   なくとも１種である特許請求の範囲第１項記載の正帯電
   型電子写真感光体。