JPS63243048A - 新しい液晶化合物 - Google Patents
新しい液晶化合物Info
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- JPS63243048A JPS63243048A JP7676587A JP7676587A JPS63243048A JP S63243048 A JPS63243048 A JP S63243048A JP 7676587 A JP7676587 A JP 7676587A JP 7676587 A JP7676587 A JP 7676587A JP S63243048 A JPS63243048 A JP S63243048A
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新しい液晶性化合物に関する。
更に詳しくは1本発明は一般式CI)
〔式中 pi、 R2はそれぞれ独立してC2乃至CH
6の直鎖アルキル基を示し、Xは、 co−o、 0−
co、 0−CHz又はCH2−0を示す。〕で表され
る光学活性化合物又はそのラセミ体及び該化合物を含有
する液晶組成物に関する。
6の直鎖アルキル基を示し、Xは、 co−o、 0−
co、 0−CHz又はCH2−0を示す。〕で表され
る光学活性化合物又はそのラセミ体及び該化合物を含有
する液晶組成物に関する。
従来、液晶化合物は3種々の電子光学的表示装置に液晶
材料として用いられている。最適な液晶物質の性質はそ
れぞれの表示方式により異なるが。
材料として用いられている。最適な液晶物質の性質はそ
れぞれの表示方式により異なるが。
水分、熱、空気、光及び電場等に対して、物理的。
化学的且つ電気的に安定であることが要求される。
加えて、液晶の温度範囲が広いこと、駆動電圧の低いこ
と5応答速度の速いこと1時分割特性の良好なこと、視
野角の広いこと等も要求される。
と5応答速度の速いこと1時分割特性の良好なこと、視
野角の広いこと等も要求される。
しかし、単一化合物でこれらの諸条件を満足するものは
今のところ得られておらず、実用的には個々に優れた性
質をもつ数種類の液晶化合物又は非液晶化合物を混合し
て液晶組成物としである程度の使用に耐え得る材料を得
ているのか現状である。
今のところ得られておらず、実用的には個々に優れた性
質をもつ数種類の液晶化合物又は非液晶化合物を混合し
て液晶組成物としである程度の使用に耐え得る材料を得
ているのか現状である。
本発明の目的は、実用的性能に優れた液晶組成物の累月
として有利な化合物を提供することにある。本発明者ら
はこの目的で化合物中に光学活性な2−フェノキシプロ
ピルアルコール骨格を有するものを多数合成し1本発明
化合物を見出すに至った。
として有利な化合物を提供することにある。本発明者ら
はこの目的で化合物中に光学活性な2−フェノキシプロ
ピルアルコール骨格を有するものを多数合成し1本発明
化合物を見出すに至った。
本発明の化合物は、純粋な状態では無色乃至淡黄色であ
り、化学的に安定であって、広い液晶温度範囲を有する
。更に他の液晶物質9例えば、既存のヒフェニル系、フ
ェニルシクロヘキザン系。
り、化学的に安定であって、広い液晶温度範囲を有する
。更に他の液晶物質9例えば、既存のヒフェニル系、フ
ェニルシクロヘキザン系。
安息香酸フェニルエステル系、シクロヘキサンカルボン
酸フェニルエステル系、シッフ塩基系、アゾキシ系、フ
ェニルピリミジン系及びフェニルメタジオキサン系等と
の相溶性に優れており、これらの液晶物質との混合によ
って液晶温度範囲を広く、応答特性の優れた液晶組成物
を構成する有用な成分であることを見出した。
酸フェニルエステル系、シッフ塩基系、アゾキシ系、フ
ェニルピリミジン系及びフェニルメタジオキサン系等と
の相溶性に優れており、これらの液晶物質との混合によ
って液晶温度範囲を広く、応答特性の優れた液晶組成物
を構成する有用な成分であることを見出した。
本発明の化合物は種々の方法で製造できるが。
例えば以下の方法によって製造される。
+l)4”n−アルキルオキシ−4−ハロメチル−ビフ
ェニルと、4((2−n−アルキルオキシ−1−メチル
−エチル)オキシ〕フェノールの塩基存在下でのエーテ
ル化。
ェニルと、4((2−n−アルキルオキシ−1−メチル
−エチル)オキシ〕フェノールの塩基存在下でのエーテ
ル化。
(2)4’−n−アルキルオキシ−4−ヒドロキシ−ビ
フェニルと、4−C(2−n−アルキルオキシ−1−メ
チル−エチル)オキシ〕ヘンシルハライドの塩基存在下
でのエーテ ル化。
フェニルと、4−C(2−n−アルキルオキシ−1−メ
チル−エチル)オキシ〕ヘンシルハライドの塩基存在下
でのエーテ ル化。
(3)4’−n−アルキルオキシ−4−ビフェニルカル
ボン酸の酸ハライド−と、4−((2−n−アルキルオ
キシ−1−メチル−エチル)オキシ〕フェノールの反応
によるエ ステル化。
ボン酸の酸ハライド−と、4−((2−n−アルキルオ
キシ−1−メチル−エチル)オキシ〕フェノールの反応
によるエ ステル化。
(4)4’−n−アルキルオキシ−4−ヒドロキシ−ビ
フェニルと、4−[:(2−n−アルキルオキシ−1−
メチル−エチル)オキシ〕安息香酸ハライドの反応によ
るエステル化等が挙げられるQ以下1実施例を挙げて更
に本発明の詳細な説明するが1本発明はこれらによって
限定されるものではない。
フェニルと、4−[:(2−n−アルキルオキシ−1−
メチル−エチル)オキシ〕安息香酸ハライドの反応によ
るエステル化等が挙げられるQ以下1実施例を挙げて更
に本発明の詳細な説明するが1本発明はこれらによって
限定されるものではない。
〔実施例1〕
n
光学活性な4−n−ヘキシルオキシ−41−〔4−(1
−メチル−2−n−ヘキシルオキシ−エトキシ)フェノ
キシコメチルビフェニルの製造。
−メチル−2−n−ヘキシルオキシ−エトキシ)フェノ
キシコメチルビフェニルの製造。
光学活性な4−(1−メチル−2−ヘキシルオ牛ジェト
キシ〕フェノール253mg (〔α、l、 +3.0° (c=1. クロロホ
ルム))に、炭酸カリウム215mg、4″−n−ヘキ
シルオキシ−4−クロロメチルビフェニル300mg及
びアセトニトリル10m1を加え、32時間加熱還流し
た。反応液に水30m1.クロロポルム30m1を加え
分液し、クロロホルム層を水洗後濃縮して得られた粗製
物をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで分離精製し光
学活性な4−n−ヘキシルオキシ−4’−(4−(1−
メチル−2−n−へキシルオキシ−エトキシ)フェノキ
シコメチルビフェニル190mg(収率37%)を得た
。
キシ〕フェノール253mg (〔α、l、 +3.0° (c=1. クロロホ
ルム))に、炭酸カリウム215mg、4″−n−ヘキ
シルオキシ−4−クロロメチルビフェニル300mg及
びアセトニトリル10m1を加え、32時間加熱還流し
た。反応液に水30m1.クロロポルム30m1を加え
分液し、クロロホルム層を水洗後濃縮して得られた粗製
物をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで分離精製し光
学活性な4−n−ヘキシルオキシ−4’−(4−(1−
メチル−2−n−へキシルオキシ−エトキシ)フェノキ
シコメチルビフェニル190mg(収率37%)を得た
。
〔α)o +4.8° (c =0.93. クロロ
ホルム))IR(KBr) : 2900,1600,
1500.1230.800cm −’NMR(CDC
l2) 66.8〜7.6 (m、!211)、 5.00(s
、2H)。
ホルム))IR(KBr) : 2900,1600,
1500.1230.800cm −’NMR(CDC
l2) 66.8〜7.6 (m、!211)、 5.00(s
、2H)。
3.4〜4.5 (m、7H)、 0.9〜1.9(m
、2511)。
、2511)。
MS(m/e) :51B(M”、 2) 、 37
6 (1) 、 267 (1,00) 、 183
(20)相転移温度: 〔実施例2〜4〕 実施例1と同様にして次の化合物を製造した。
6 (1) 、 267 (1,00) 、 183
(20)相転移温度: 〔実施例2〜4〕 実施例1と同様にして次の化合物を製造した。
〔α〕。 +5.3° (c =0.76、クロロホル
ム))IR(KBr) : 2950.1610,15
10,1245.810cm −’NMR(CDCI3
) δ6.8〜7.6 (m、12H)、 4.98(s、
211)。
ム))IR(KBr) : 2950.1610,15
10,1245.810cm −’NMR(CDCI3
) δ6.8〜7.6 (m、12H)、 4.98(s、
211)。
3.3−4.5 (m、711)、 0.9〜2.0(
m、2711)。
m、2711)。
MS(m/e) :532(M” 、2)、376(
2)、267(100)、183(18)相転移温度: 69.8°C92,2°C105,0°C〔α)D
+4.7° (c=1.02.クロロボルムム))IR
(KIlr) : 2900,1610,1240.8
10cm −’NMR(CDCl :+) 66.8〜7.6 (m、128)、 5.02(s、
211)。
2)、267(100)、183(18)相転移温度: 69.8°C92,2°C105,0°C〔α)D
+4.7° (c=1.02.クロロボルムム))IR
(KIlr) : 2900,1610,1240.8
10cm −’NMR(CDCl :+) 66.8〜7.6 (m、128)、 5.02(s、
211)。
3、.3〜4.5 (m、711)、 0.9〜1 、
9 (l11.291+) 。
9 (l11.291+) 。
MS(m/e) : 546(M” 、2)、295
(100)、183(16)相転移温度: 33.5°C83,6°C104,9°C〔α)D
+4.6° (c =1.14. クロロポルム))I
R(KBr) : 2900,1605,1510,1
240.810cm −’NMR(CDC13) 66.8−7.6 (m、1211)、 5.00
(s、211)。
(100)、183(16)相転移温度: 33.5°C83,6°C104,9°C〔α)D
+4.6° (c =1.14. クロロポルム))I
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240.810cm −’NMR(CDC13) 66.8−7.6 (m、1211)、 5.00
(s、211)。
3.3〜4.5 (m、7H)、 0.9 〜1.
9(m、33H)。
9(m、33H)。
MS(m/e) : 574(M” 、2)、29
5(100)、183(17)相転移温度: 34.8’C81,4°C101,2°C〔実施例5〕 光学活性な4′−n−オクチルオキシ−4−ビフェニル
カルボン酸−4−(1−メチル−2−n−ブトキシ−エ
トキシ)フェニルエステルの製造。
5(100)、183(17)相転移温度: 34.8’C81,4°C101,2°C〔実施例5〕 光学活性な4′−n−オクチルオキシ−4−ビフェニル
カルボン酸−4−(1−メチル−2−n−ブトキシ−エ
トキシ)フェニルエステルの製造。
4’−n−オクチルオキシ−4−ビフェニルカルボン酸
326mgに、塩化チオニル5mlを加え。
326mgに、塩化チオニル5mlを加え。
3時間加熱還流した。過剰の塩化チオニルを減圧上留去
した後、ピリジン3.5ml及び光学活性な4−(1−
メチル−2−n−ブトキシ−エトキシ)フェノール (〔α〕。 +2.4° (c =1.0.クロロボル
ム))224rngを加え、50°Cで18時間撹拌し
た。
した後、ピリジン3.5ml及び光学活性な4−(1−
メチル−2−n−ブトキシ−エトキシ)フェノール (〔α〕。 +2.4° (c =1.0.クロロボル
ム))224rngを加え、50°Cで18時間撹拌し
た。
次に、10%塩酸水溶液20m1及びクロロホルム20
m1を加え分液し、クロロポルム層を水洗後濃縮して得
られた粗製物をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで分
離精製し光学活性な4’−n−オクチルオキシ−4−ビ
フェニルカルボン酸−4−(1−メチル−2−n−ブト
キシーエ!・キシ)フェニルエステル290mg (収
率55%)ヲ得り。
m1を加え分液し、クロロポルム層を水洗後濃縮して得
られた粗製物をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで分
離精製し光学活性な4’−n−オクチルオキシ−4−ビ
フェニルカルボン酸−4−(1−メチル−2−n−ブト
キシーエ!・キシ)フェニルエステル290mg (収
率55%)ヲ得り。
〔α)、 +4.5° (c =1.17. クロロ
ボルム))IR(KBr) : 2950,1730.
1605,1505,1190.1075m −’NM
R(CDCI 3) δ 6.’J−8,2(m、 12H) 、 3.3〜
4.5 (m、 7H) 。
ボルム))IR(KBr) : 2950,1730.
1605,1505,1190.1075m −’NM
R(CDCI 3) δ 6.’J−8,2(m、 12H) 、 3.3〜
4.5 (m、 7H) 。
0.8〜2.0(m、2511>。
MS(m/e) :532(M′″、 8) 、 3
09 (100) 、 253 (7)相転移温度: 26.7’C75,0°C139,9°C〔実施例6] 実施例5と同様にして次の化合物を製造した。
09 (100) 、 253 (7)相転移温度: 26.7’C75,0°C139,9°C〔実施例6] 実施例5と同様にして次の化合物を製造した。
〔α)n +5.0° (c =0.9]、 クロロ
ホルム))IR(KBr) : 2900,1730,
1600,1505,1190.1075cm −’N
MR(CDCl2) 66.9〜8.2 (m、1211)、 3.4〜4.
5 (m、711L0.8〜2.0(m、2911)。
ホルム))IR(KBr) : 2900,1730,
1600,1505,1190.1075cm −’N
MR(CDCl2) 66.9〜8.2 (m、1211)、 3.4〜4.
5 (m、711L0.8〜2.0(m、2911)。
MS(m/e) : 560(M” 、6)、309
(100)、197(3)相転移温度:
(100)、197(3)相転移温度:
Claims (2)
- (1)一般式〔 I 〕: ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 〔式中、R^1、R^2はそれぞれ独立してC_2乃至
C_1_6の直鎖アルキル基を示し、Xは、CO−O、
O−CO、O−CH_2又はCH_2−Oを示す。〕で
表される光学活性化合物又はそのラセミ体。 - (2)一般式〔 I 〕: ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 〔式中、R^1、R^2はそれぞれ独立してC_2乃至
C_1_6の直鎖アルキル基を示し、Xは、CO−O、
O−CO、OCH_2又はCH_2−Oを示す。〕で表
される光学活性化合の1種又は2種以上を含有すること
を特徴とする液晶組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7676587A JPH07116090B2 (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | 新しい液晶化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7676587A JPH07116090B2 (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | 新しい液晶化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63243048A true JPS63243048A (ja) | 1988-10-07 |
JPH07116090B2 JPH07116090B2 (ja) | 1995-12-13 |
Family
ID=13614690
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7676587A Expired - Lifetime JPH07116090B2 (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | 新しい液晶化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07116090B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307837A (ja) * | 1986-09-08 | 1988-12-15 | Daicel Chem Ind Ltd | 光学活性化合物 |
JPS6450835A (en) * | 1987-08-21 | 1989-02-27 | Takasago Perfumery Co Ltd | Liquid crystal compound |
EP0350510A1 (en) * | 1988-01-05 | 1990-01-17 | Chisso Corporation | Ferroelectric liquid crystal composition |
-
1987
- 1987-03-30 JP JP7676587A patent/JPH07116090B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307837A (ja) * | 1986-09-08 | 1988-12-15 | Daicel Chem Ind Ltd | 光学活性化合物 |
JPS6450835A (en) * | 1987-08-21 | 1989-02-27 | Takasago Perfumery Co Ltd | Liquid crystal compound |
EP0350510A1 (en) * | 1988-01-05 | 1990-01-17 | Chisso Corporation | Ferroelectric liquid crystal composition |
US5021190A (en) * | 1988-01-05 | 1991-06-04 | Chisso Corporation | Ferroelectric liquid crystal composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07116090B2 (ja) | 1995-12-13 |
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