JPS6324055A - 密着性および均質性に富む装飾品被膜のコ−テイング方法 - Google Patents
密着性および均質性に富む装飾品被膜のコ−テイング方法Info
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- JPS6324055A JPS6324055A JP16671186A JP16671186A JPS6324055A JP S6324055 A JPS6324055 A JP S6324055A JP 16671186 A JP16671186 A JP 16671186A JP 16671186 A JP16671186 A JP 16671186A JP S6324055 A JPS6324055 A JP S6324055A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、密着性および均質性に富む装飾品被膜のコ
ーティング方法に関し、とくに装飾品(洋食器類を含む
。以下同じ)の表面に、黄金色のTiN被膜や銀色のC
rN被膜を、イオンプレーティング処理によって密着性
および均質性良くコーティングしようとするものである
。
ーティング方法に関し、とくに装飾品(洋食器類を含む
。以下同じ)の表面に、黄金色のTiN被膜や銀色のC
rN被膜を、イオンプレーティング処理によって密着性
および均質性良くコーティングしようとするものである
。
(従来の技術)
近年、プラズマを用したコーティング技術が著しく進歩
し、各方面での利用が広まりつつある。
し、各方面での利用が広まりつつある。
かかるコーティング技術を利用した例としては、磁気記
録薄膜、光学用薄膜、各種耐摩耗性、耐食性コーティン
グおよび装飾用コーティングなどがある。特に最近では
工具用、時計用の外装部品、ライター、眼鏡フレーム、
万年筆ならびにボタン等のファツション性の強い小物の
装飾品を対象として、このコーティング技術がさかんに
利用されるようになって来ている。これらの装飾部材を
得る試みとして例えば特公昭59.43544号公報で
はチクンージルコニウム合金を蒸発物とする窒毒ガスを
含む雰囲気中でのイオンプレーティングにより素材表面
に白色系金色を有するチクンージルコニウム複合窒化物
被膜を形成させる技術が、また特公昭59−43545
号公報では素材表面にN1又はNi合金を被覆して不動
態化処理を行い、その後イオンプレーティングにより窒
化チタン被膜を形成させる技術がそれぞれ開示されて5
)る。
録薄膜、光学用薄膜、各種耐摩耗性、耐食性コーティン
グおよび装飾用コーティングなどがある。特に最近では
工具用、時計用の外装部品、ライター、眼鏡フレーム、
万年筆ならびにボタン等のファツション性の強い小物の
装飾品を対象として、このコーティング技術がさかんに
利用されるようになって来ている。これらの装飾部材を
得る試みとして例えば特公昭59.43544号公報で
はチクンージルコニウム合金を蒸発物とする窒毒ガスを
含む雰囲気中でのイオンプレーティングにより素材表面
に白色系金色を有するチクンージルコニウム複合窒化物
被膜を形成させる技術が、また特公昭59−43545
号公報では素材表面にN1又はNi合金を被覆して不動
態化処理を行い、その後イオンプレーティングにより窒
化チタン被膜を形成させる技術がそれぞれ開示されて5
)る。
また、特公昭59−45517号公報では、イオンプレ
ーティングにより素材表面に少なくとも1種の下地層と
、仕上げ層からなる多層の膜を形成させる技術が、さら
に特公昭59−45754号公報では素材表面に下地層
としてNi層を、このN1層の直上にCr層を、そして
Cr層の上に窒化チタン被膜を形成させる技術がそれぞ
れ開示されている。
ーティングにより素材表面に少なくとも1種の下地層と
、仕上げ層からなる多層の膜を形成させる技術が、さら
に特公昭59−45754号公報では素材表面に下地層
としてNi層を、このN1層の直上にCr層を、そして
Cr層の上に窒化チタン被膜を形成させる技術がそれぞ
れ開示されている。
さらに最近では、金型、ドリル等の工具のイオンプレー
ティングにおいて基板との密着性を改善するために、バ
イアス電圧を堆積される膜厚に応じて制御する方法(特
開昭60−96754号公報)や、膜厚に応じて基板温
度を制fIIする方法(特開昭57−104661号公
報)などが提案されている。
ティングにおいて基板との密着性を改善するために、バ
イアス電圧を堆積される膜厚に応じて制御する方法(特
開昭60−96754号公報)や、膜厚に応じて基板温
度を制fIIする方法(特開昭57−104661号公
報)などが提案されている。
その池素材に予め高融点金属めっきを行ってからイオン
プレーティングを行う手法も提案されている(特開昭5
9−178122号公報)。
プレーティングを行う手法も提案されている(特開昭5
9−178122号公報)。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら現在までのところ、根本的に密着性の向上
を実現したイオンプレーティング法はまだ開発されてい
ない。
を実現したイオンプレーティング法はまだ開発されてい
ない。
またこの発明でコーティングの対象とする装飾品におい
ては、表面外観がとりわけ重要視されるが、この点につ
いても十分に考慮が払われているわけではなかった。
ては、表面外観がとりわけ重要視されるが、この点につ
いても十分に考慮が払われているわけではなかった。
この発明は、上述した現状に鑑みて開発されたもので、
装飾品素材との密着性に優れ、しかも表面外観も美麗な
均質性に富む被膜を得ることができるイオンプレーティ
ングによるコーティング方法を提案することを目的とす
る。
装飾品素材との密着性に優れ、しかも表面外観も美麗な
均質性に富む被膜を得ることができるイオンプレーティ
ングによるコーティング方法を提案することを目的とす
る。
(問題点を解決するための半没)
すなわちこの発明は、装飾品素材の表面に、ホo−j)
ソード法(IIcD法)を用いたイオンプレーティング
処理によって TiNまたはCrN被膜をコーティング
するに際し、コーティング初期段階ではバイアス電圧を
50〜500vと高めに設定し、その後は5〜200v
と低目に設定するかまたは徐々に低下させ、かつ0.旧
〜1.0μm/minの蒸着速度でコーティングして、
(111)面(憂先方位をもつ被膜を形成させることか
ら成る、密着性および均質性に富む装飾品被膜のコーテ
ィング方法である。
ソード法(IIcD法)を用いたイオンプレーティング
処理によって TiNまたはCrN被膜をコーティング
するに際し、コーティング初期段階ではバイアス電圧を
50〜500vと高めに設定し、その後は5〜200v
と低目に設定するかまたは徐々に低下させ、かつ0.旧
〜1.0μm/minの蒸着速度でコーティングして、
(111)面(憂先方位をもつ被膜を形成させることか
ら成る、密着性および均質性に富む装飾品被膜のコーテ
ィング方法である。
以下この発明の基礎となった実験結果について説明する
。
。
C:0.015w”−%(以下車に%で示す) 、!、
4n:0.9%、Cr:16.8%および!、to:Q
、3%を含有するステンレス鋼の熱延板(2,3+nm
厚)1乙冷延・再結晶焼鈍を施した後、プレス加工によ
りスプーン、フォークおよび時計の外枠を作製した。そ
の後これらに超音波洗浄、フレオンガス洗浄を施した後
、表1に示す種々の条件下にTiNコーティング処理を
行った。
4n:0.9%、Cr:16.8%および!、to:Q
、3%を含有するステンレス鋼の熱延板(2,3+nm
厚)1乙冷延・再結晶焼鈍を施した後、プレス加工によ
りスプーン、フォークおよび時計の外枠を作製した。そ
の後これらに超音波洗浄、フレオンガス洗浄を施した後
、表1に示す種々の条件下にTiNコーティング処理を
行った。
なおこのT+N コーティングはいずれもHCD法を用
いて基板温度41〕O℃、2.5 μm厚にコーティン
グした。
いて基板温度41〕O℃、2.5 μm厚にコーティン
グした。
かくして得られたTiN コーティング被膜付き製品の
被膜密着性について調べた結果を、X線回折および走査
型電顕観察結果と共に表Iに示す。
被膜密着性について調べた結果を、X線回折および走査
型電顕観察結果と共に表Iに示す。
同表から明らかなように、(A>および(B)の条件、
すなわちコーティング初期段階でバイアス電圧を上げ、
その後低下あるいは徐々に低下させ、しかも蒸着速度を
0.2μm/min程度の比較的低速度で行った場合に
、密着性および表面の均−性共に良好なTAN被膜が得
られた。なお、このときのTiNのX線回折では(11
1)T、、のみが観察された。
すなわちコーティング初期段階でバイアス電圧を上げ、
その後低下あるいは徐々に低下させ、しかも蒸着速度を
0.2μm/min程度の比較的低速度で行った場合に
、密着性および表面の均−性共に良好なTAN被膜が得
られた。なお、このときのTiNのX線回折では(11
1)T、、のみが観察された。
これに対して(C)の、バイアス電圧のかけかたは(A
) と等しいものの蒸着速度を1.5μm/minと
比較的速くした条件下では、密着性は良好ではあったも
のの、表面の均一性は十分とは言い難く走査型電顕観察
では数多くの凹凸が観察された。またこのときのTiN
0X線回折では(111)TL、ピークが大ではあった
が、(200) TiNのピークも観察された。この(
200)、□、ピークはイオンプレーティングの蒸着速
度が速い場合に検出される。
) と等しいものの蒸着速度を1.5μm/minと
比較的速くした条件下では、密着性は良好ではあったも
のの、表面の均一性は十分とは言い難く走査型電顕観察
では数多くの凹凸が観察された。またこのときのTiN
0X線回折では(111)TL、ピークが大ではあった
が、(200) TiNのピークも観察された。この(
200)、□、ピークはイオンプレーティングの蒸着速
度が速い場合に検出される。
また蒸着全期間にわたってバイアス電圧を一定に保った
(D)の条件では、密着性、表面の均−性共に不良で、
この発明で対象とするファツション性の強い小物のTi
N コーティングには不向きであることが判明した。
(D)の条件では、密着性、表面の均−性共に不良で、
この発明で対象とするファツション性の強い小物のTi
N コーティングには不向きであることが判明した。
このようにコーティング処理の全期間にわたって高バイ
アスでコーティングを施した場合には、TiNの膜内で
の内部歪みが大きくなるため、密着性、表面の均−性共
に不良となると考えられる。
アスでコーティングを施した場合には、TiNの膜内で
の内部歪みが大きくなるため、密着性、表面の均−性共
に不良となると考えられる。
以上の実験結果から
■TIN コーティングの際には、初期段階ではバイア
ス電圧を大きくして基板との密着性を確保し、その後は
バイアス電圧を低くしてTiNの膜質を向上させること
、 ■コーティング速度に制限を加え(111)、、llの
優先方位をもつTiN被膜とすること が、これらファツション性の強い小物のコーティングに
際しては特に重要であることが究胡されたのである。
ス電圧を大きくして基板との密着性を確保し、その後は
バイアス電圧を低くしてTiNの膜質を向上させること
、 ■コーティング速度に制限を加え(111)、、llの
優先方位をもつTiN被膜とすること が、これらファツション性の強い小物のコーティングに
際しては特に重要であることが究胡されたのである。
(作 用)
この発明に従うイオンプレーティング処理において初期
段階のバイアス電圧は50〜500vで(好適範囲は1
00〜300V) 、一方後段のバイアス電圧は5〜2
00V (好適範囲は10〜50v)とする必要がある
。
段階のバイアス電圧は50〜500vで(好適範囲は1
00〜300V) 、一方後段のバイアス電圧は5〜2
00V (好適範囲は10〜50v)とする必要がある
。
またこのときのコーティング速度は0.01〜1μm/
min (好適範囲はO5旧〜0.5 μm#+in
)とすることが肝要である。
min (好適範囲はO5旧〜0.5 μm#+in
)とすることが肝要である。
なお上記の条件は黄金色のTiNをコーティングすると
きばかりでなく、銀色を有するCrNのコーティングの
場合にも有利に適用できることが確かめられている。
きばかりでなく、銀色を有するCrNのコーティングの
場合にも有利に適用できることが確かめられている。
(実施例)
実施例1
(::9.045%、Mn:0.35%、p:Q、 0
08%およびs:o、 009%を含有する低炭素鋼の
熱延板(2,8mm厚)を、冷延ついで再結晶焼鈍した
のちプレス加工によりスプーンを作成した。その後この
スプーンに超音波洗浄・フレオンガス洗浄を施した後、
HCD法によるイオンプレーティングによりCrlのコ
ーティング処理を行った。
08%およびs:o、 009%を含有する低炭素鋼の
熱延板(2,8mm厚)を、冷延ついで再結晶焼鈍した
のちプレス加工によりスプーンを作成した。その後この
スプーンに超音波洗浄・フレオンガス洗浄を施した後、
HCD法によるイオンプレーティングによりCrlのコ
ーティング処理を行った。
このときのCrNコーティング条件は、初期段階でバイ
アス電圧を150V (加速電圧:45V、電流=35
0A1蒸着速度: 0.3 μm/m1n)で0.5μ
mμmコニコーテイング後続きバイアス電圧を30v(
加速電圧:45Vst流: 350A、蒸着速度0.3
μm/m1n)に低下して3.0 μm厚までコーテ
ィングを行った。
アス電圧を150V (加速電圧:45V、電流=35
0A1蒸着速度: 0.3 μm/m1n)で0.5μ
mμmコニコーテイング後続きバイアス電圧を30v(
加速電圧:45Vst流: 350A、蒸着速度0.3
μm/m1n)に低下して3.0 μm厚までコーテ
ィングを行った。
かくして得られた製品の密着性は良好で、かつ走査型電
顕観察による表面の均一性も良好であった。またX線回
折では(111)。□のピークのみであった。
顕観察による表面の均一性も良好であった。またX線回
折では(111)。□のピークのみであった。
実施例2
C:0.1%、Mn:2.1%、Cr:18.6%およ
び!Jo:2,1%を含有するステンレス鋼の熱延板(
2,8mm厚)を、冷延ついで再結晶焼鈍後、プレス加
工により時計の伜を作成した。その後この枠に超音波洗
浄・フレオンガス洗浄を施した後、HCD法によるイオ
ンプレーティングによりT+Nのコーティング処理を行
った。
び!Jo:2,1%を含有するステンレス鋼の熱延板(
2,8mm厚)を、冷延ついで再結晶焼鈍後、プレス加
工により時計の伜を作成した。その後この枠に超音波洗
浄・フレオンガス洗浄を施した後、HCD法によるイオ
ンプレーティングによりT+Nのコーティング処理を行
った。
このときのTiN コーティング条1牛は、初期段階テ
バイアス電圧を250V (加速電圧=40V、電流4
00A、蒸着速度二0.2μm/m1n)で0.4μm
厚にコーテイング後、引続きバイアス電圧を50V
(加速電圧:40V。
バイアス電圧を250V (加速電圧=40V、電流4
00A、蒸着速度二0.2μm/m1n)で0.4μm
厚にコーテイング後、引続きバイアス電圧を50V
(加速電圧:40V。
電流:400A 、蒸着速度:0.15 μm/m1n
)に低下して3.5 μm”lftまでコーティング
を行った。
)に低下して3.5 μm”lftまでコーティング
を行った。
かくして得られた製品の密着性は良好で、かつ走査型電
顕観察による表面の均一性も良好であり、またX線回折
では(111)、iHのピークのみであった。
顕観察による表面の均一性も良好であり、またX線回折
では(111)、iHのピークのみであった。
(発明の効果)
かくしてこの発明によれば、装飾品素材に対し、密着性
に浸れ、しかも表面外観も美麗な均質性に富む被膜をコ
ーティングすることができ、装飾品の品質向上に役立つ
。
に浸れ、しかも表面外観も美麗な均質性に富む被膜をコ
ーティングすることができ、装飾品の品質向上に役立つ
。
特許出願人 川vI袈鉄株式会社
一3′。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、装飾品素材の表面に、ホローカソード法を用いたイ
オンプレーティング処理によってTiNまたはCrN被
膜をコーティングするに際し、コーティング初期段階で
はバイアス電圧を 50〜500Vと高めに設定し、その後は5〜200V
と低目に設定するかまたは徐々に低下させ、かつ0.0
1〜1.0μm/minの蒸着速度でコーティングして
、(111)面優先方位をもつ被膜を形成させることを
特徴とする密着性および均質性に富む装飾品被膜のコー
ティング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16671186A JPS6324055A (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | 密着性および均質性に富む装飾品被膜のコ−テイング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16671186A JPS6324055A (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | 密着性および均質性に富む装飾品被膜のコ−テイング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6324055A true JPS6324055A (ja) | 1988-02-01 |
Family
ID=15836340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16671186A Pending JPS6324055A (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | 密着性および均質性に富む装飾品被膜のコ−テイング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6324055A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02129360A (ja) * | 1988-11-07 | 1990-05-17 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 耐食耐摩耗性被覆鋼材及びその製造方法 |
JPH02175858A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-09 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 耐摩耗性被覆綱材及びその製造方法 |
JPH0364448A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-19 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 有色硬質被膜及びその形成方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6096754A (ja) * | 1983-10-28 | 1985-05-30 | Japan Atom Energy Res Inst | チタンカ−バイド厚膜の被覆方法 |
-
1986
- 1986-07-17 JP JP16671186A patent/JPS6324055A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6096754A (ja) * | 1983-10-28 | 1985-05-30 | Japan Atom Energy Res Inst | チタンカ−バイド厚膜の被覆方法 |
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