JP2003183851A - 装飾品の表面処理方法、装飾品および時計 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 色調の経時的変化を抑え、かつ長期的な耐食
性に優れた金色光沢を有する美的外観に優れた装飾品を
提供すること、前記装飾品を提供することができる表面
処理方法を提供すること、および前記装飾品を備えた時
計を提供すること。 【解決手段】 本発明の装飾品の表面処理方法は、基材
２の表面の少なくとも一部に、第一の下地層４１を形成
する工程と、第二の下地層４２を形成する工程と、第三
の下地層４３を形成する工程と、第三の下地層４３の表
面の少なくとも一部に、乾式めっき法により、主として
Ａｕで構成され、かつＩｒ、Ｒｕ、Ｐｔから選択される
少なくとも一種の添加元素を含む材料で構成される被膜
層３を形成する工程とを有する。被膜層３中の前記添加
元素の含有量は０．１〜５wt%であることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、装飾品の表面処理
方法、装飾品および時計に関する。

【０００２】

【従来の技術】時計用外装部品のような装飾品における
金めっきは装飾的要素である色調と機能的要素である耐
食性・耐摩耗性が同時に要求される。この要求に応える
べく、従来の技術ではＴｉＮ系の金色化合物上に、Ａｕ
−Ｆｅ合金からなる金色被膜層を表面に形成させてき
た。しかし、金あるいは金合金からなる表層の成分には
Ｆｅが含まれているため、大気中の酸素と結合して酸化
鉄ができてしまうことがある。そのため、歳月が経過す
ると製品の色調が赤味を帯びた色になってしまい、製品
外観が金色の輝きを失ってしまうという問題があった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、色調
の経時的変化を抑え、かつ長期的な耐食性に優れた金色
光沢を有する美的外観に優れた装飾品を提供すること、
前記装飾品を提供することができる表面処理方法を提供
すること、および前記装飾品を備えた時計を提供するこ
とにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１２）の本発明により達成される。

【０００５】（１） 基材の表面の少なくとも一部に、
湿式めっき法または乾式めっき法により、主としてＡｕ
で構成され、かつＩｒ、Ｒｕ、Ｐｔから選択される少な
くとも一種の添加元素を含む材料で構成される被膜層を
形成する工程を有することを特徴とする装飾品の表面処
理方法。 （２） 基材の表面の少なくとも一部に、少なくとも一
層の下地層を形成する工程と、前記下地層の表面の少な
くとも一部に、主としてＡｕで構成され、かつＩｒ、Ｒ
ｕ、Ｐｔから選択される少なくとも一種の添加元素を含
む材料で構成される被膜層を形成する工程とを有するこ
とを特徴とする装飾品の表面処理方法。

【０００６】（３） 前記下地層を２層以上形成する上
記（２）に記載の装飾品の表面処理方法。 （４） 前記下地層のうち、前記被膜と接触する層が、
主としてＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａの窒化物、炭化物もし
くは、炭窒化物で構成されたものである上記（２）また
は（３）に記載の装飾品の表面処理方法。 （５） 前記下地層のうち少なくとも一層は、その一方
の面側と他方の面側との電位差を緩和する緩衝層である
上記（２）ないし（４）のいずれかに記載の装飾品の表
面処理方法。 （６） 前記下地層は、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎまたはこれらのうち
少なくとも一種を含む合金で構成されるものである上記
（２）ないし（５）のいずれかに記載の装飾品の表面処
理方法。

【０００７】（７） 前記被膜層中の前記添加元素の含
有量が０．１〜５wt%である上記（１）ないし（６）の
いずれかに記載の装飾品の表面処理方法。 （８） 前記被膜層の平均厚さは０．１〜５．０μmで
ある上記（１）ないし（７）のいずれかに記載の装飾品
の表面処理方法。 （９） 前記基材は、ステンレス鋼、純Ｔｉ、Ｔｉ合金
およびＣｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、またはこれらのうち少なくと
も一種を含む合金で構成されるものである上記（１）な
いし（８）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。 （１０） 前記基材は、その表面の少なくとも一部に、
鏡面加工、スジ目加工、梨地加工から選択される表面加
工が施されたものである上記（１）ないし（９）のいず
れかに記載の装飾品の表面処理方法。

【０００８】（１１） 上記（１）ないし（１０）のい
ずれかに記載の装飾品の表面処理方法を用いて製造され
たことを特徴とする装飾品。 （１２） 上記（１１）に記載の装飾品を備えたことを
特徴とする時計。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の装飾品の表面処理
方法、装飾品および時計の好適な実施形態について、添
付図面を参照しつつ説明する。

【００１０】図１は、本発明の第一実施形態の表面処理
方法により得られる装飾品の断面図である。図１に示す
ように、本実施形態の表面処理方法は、基材２の表面の
少なくとも一部に、湿式めっき法または、乾式めっき法
により、主としてＡｕで構成され、かつＩｒ、Ｒｕ、Ｐ
ｔから選択される少なくとも一種の添加元素を含む材料
で構成される被膜層３を形成する工程を有する。

【００１１】〈基材について〉基材２は、いかなる材料
で構成されるものであってもよいが、例えば、Ｆｅ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、
Ｓｎ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｍｎ、Ｍｏ等の各種金
属や、これらのうち少なくとも一種を含む合金等の金属
材料、プラスチック等で構成されるものである事が挙げ
られる。

【００１２】〈被膜層の形成〉基材２の表面に、主とし
てＡｕで構成され、かつＩｒ、Ｒｕ、Ｐｔから選択され
る少なくとも一種の添加元素を含む材料で構成される被
膜層３を形成する。このように本発明では被膜層を有す
ることに特徴を有する。このような被膜層を形成するこ
とにより、色調の経時的変化を抑え、かつ長期的な耐食
性に優れた金色光沢を有する美的外観に優れた装飾品を
得ることができる。

【００１３】被膜層３における添加元素の含有量は、特
に限定されないが、０．１〜５wt%であるのが好まし
く、１〜３wt%であるのがより好ましい。添加元素の含
有量が前記下限値未満であると、被膜層３の硬度が低く
なり、得られる装飾品１Ａの充分な耐摩耗性を確保でき
ない可能性がある。また、添加元素の含有量が少な過ぎ
ると、被膜層３の色調が赤味を帯びる傾向を示し、装飾
品１Ａの種類によっては、目的とする色調が得られない
場合がある。一方、添加元素の含有量が前記上限値を超
えると、被膜層３の内部応力が増加し、結果として、被
膜層３と基材２との密着性が低下し、クラックが発生し
易くなる。また、添加元素の含有量が多過ぎると、被膜
層３の色調が白味を帯びる傾向を示し、装飾品１Ａの種
類によっては、目的とする色調が得られない場合があ
る。

【００１４】被膜層３は、湿式めっき法または、乾式め
っき法（気相成膜法）により形成されるが、湿式めっき
法または、乾式めっき法を用いることにより、基材２と
の密着性に優れた被膜層３を得ることができる。その結
果、得られる装飾品１Ａは、耐久性に優れたものとな
る。また、被膜層３を湿式めっき法または、乾式めっき
法を用いて形成することにより、被膜層３は耐食性、耐
摩耗性にも優れたものとなる。

【００１５】湿式めっき法としては、電気めっき、乾式
めっき法としては、例えば、熱CVD、プラズマCVD、レー
ザーCVD等の化学蒸着法（CVD）、真空蒸着、スパッタリ
ング、イオンプレーティング、イオン注入等が挙げられ
るが、この中でも特に、スパッタリングが好ましい。

【００１６】スパッタリングを用いることにより、均質
で、かつ基材２との密着性が特に優れた被膜層３を比較
的容易に得ることができる。その結果、得られる装飾品
１Ａの耐久性は、さらに向上する。また、スパッタリン
グを用いることにより、被膜層３の耐久性、耐摩耗性
も、特に優れたものとなる。

【００１７】このようにして形成される被膜層３の厚さ
は、特に限定されないが、０．１〜５．０μmであるの
が好ましい。また、被膜層３は、図示の構成では基材２
の全面に形成されているが、基材２の表面の少なくとも
一部に形成されるものであればよい。

【００１８】以上、説明したような表面処理方法によ
り、本発明の装飾品１Ａが得られる。装飾品１Ａは、装
飾性を備えた物品であればいかなるものでもよいが、例
えば、置物等のインテリア、エクステリア用品、宝飾
品、時計ケース、時計バンド、文字盤、時計用針等の時
計用外装部品、メガネ、ネクタイピン、カフスボタン、
指輪、ネックレス、ブレスレット、ブローチ、ペンダン
ト、イヤリング、ピアス等の装身具、ライターまたはそ
のケース、ゴルフクラブ等のスポーツ用品、銘版、パネ
ル、賞杯、その他ハウジング等を含む各種機器部品、各
種容器等が挙げられる。この中でも特に、時計用外装部
品が好ましい。時計用外装部品は、装飾品としての外観
の美しさが要求されるとともに、実用品として、耐久
性、耐食性、耐摩耗性が要求されるが、本発明の表面処
理方法によれば、これらの要求を全て満足することがで
きる。

【００１９】また、本発明の時計は、上述したような本
発明の装飾品を備えたものである。上述したように、本
発明の装飾品は、美的外観に優れた金色光沢を有し、耐
食性に優れたものである。このため、このような装飾品
を備えた本発明の時計は、時計としての求められる要件
を十分に満足することができる。すなわち、本発明の時
計は、特に優れた審美性を長期間にわたって保持するこ
とができる。また、変色を生じにくいため、視認しやす
い状態を長期間にわたって維持することができる。特
に、本発明によれば、特別な気密構造を必要とすること
なく、上記のような効果が得られる点に特徴を有する。
なお、本発明の時計を構成する前記装飾品以外の部品と
しては、公知のものを用いることができる。

【００２０】次に、本発明の表面処理方法および装飾品
の第二実施形態について説明する。図２は、本発明の第
二実施形態の表面処理方法により得られる装飾品の断面
図である。

【００２１】以下、第二実施形態の表面処理方法、およ
び該方法を用いて製造される第二実施形態の装飾品につ
いて、前記第一実施形態との相違点を中心に説明し、同
様の事項については、その説明を省略する。

【００２２】図１に示すように、本実施形態の表面処理
方法は、基材２の表面の少なくとも一部に、下地層４０
を形成する工程と、下地層４０の表面の少なくとも一部
に、乾式めっき法により、主としてＡｕで構成され、か
つＩｒ、Ｒｕ、Ｐｔから選択される少なくとも一種の添
加元素を含む材料で構成される被膜層３を形成する工程
とを有する。

【００２３】すなわち、被膜層３の形成に先立ち、基材
２の表面の少なくとも一部に、下地層４０を形成する以
外は、前述した第一実施形態と同様である。

【００２４】以下、下地層４０について詳細に説明す
る。 〈下地層について〉下地層４０は、例えば、基材２と被
膜層３との電位差を緩和する緩衝層として機能する。こ
れにより、基材２と被膜層３との電位差による腐食（異
種金属接触腐食）の発生をより効果的に防止することが
可能となる。下地層４０の形成方法としては、例えば、
電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき
法、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸着法
(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティ
ング等の乾式めっき法、溶射、金属箔の接合等が挙げら
れるが、この中でも特に、湿式めっき法または乾式めっ
き法が好ましい。

【００２５】下地層４０の形成方法として、湿式めっき
法または乾式めっき法を用いることにより、形成される
下地層４０は、基材２との密着性に特に優れたものとな
る。その結果、得られる装飾品２Ａの長期耐久性は特に
優れたものとなる。

【００２６】下地層４０の標準電位は、基材２の標準電
位と被膜層３の標準電位との間の値であるのが好まし
い。すなわち、下地層４０は、その標準電位が、基材２
の構成材料の標準電位と、被膜層３の構成材料の標準電
位との間の値である材料で構成されたものであるのが好
ましい。これにより、基材２と被膜層３との電位差によ
る腐食（異種金属接触腐食）の発生をより効果的に防止
することが可能となる。

【００２７】下地層４０の構成材料は、基材２を構成す
る材料または被膜層３を構成する材料のうち少なくとも
一種を含むものであるのが好ましい。これにより、基材
２、被膜層３との密着性がさらに向上する。下地層４０
の構成材料は、基材２の構成材料等により異なるが、例
えば、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａ
ｇ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｉｒなどの金属材料や、これらのうち
少なくとも一種を含む合金等の金属材料が挙げられる。

【００２８】下地層４０の平均厚さは、特に限定されな
いが、例えば０．１〜２０．０μmであるのが好まし
く、０．５〜１０．０μmであるのがより好ましい。下
地層４０の平均厚さが前記下限値未満であると、下地層
４０の効果が充分に発揮されない可能性がある。一方、
下地層４０の平均厚さが前記上限値を超えると、下地層
４０の各部位における膜厚のバラツキが大きくなる傾向
を示す。また、下地層４０の内部応力が高くなり、クラ
ックが発生しやすくなる。

【００２９】以上説明したように、基材２の表面に、下
地層４０を形成することにより、基材２と被膜層３との
密着性、装飾品２Ａの耐食性がさらに優れたものとな
る。その結果、装飾品は、特に耐久性に優れたものとな
る。なお、下地層４０は、図示の構成では基材２の全面
に形成されているが、基材２の表面の少なくとも一部に
形成されるものであればよい。

【００３０】また、下地層４０は、緩衝層として機能す
るものに限定されない。例えば、下地層４０は、基材２
と被膜層３との密着性を向上させる機能や、基材２の
孔、キズ等をレベリングにより補修する機能、保管時
（被膜層３の形成の工程までの間）等に腐食が発生する
のを防止する機能等を有するものであってもよい。

【００３１】次に、本発明の表面処理方法および装飾品
の第三実施形態について説明する。図３は、本発明の第
三実施形態の表面処理方法により得られる装飾品の断面
図である。

【００３２】以下、第三実施形態の表面処理方法および
該方法を用いて製造される第三実施形態の装飾品につい
て、前記第一、第二実施形態との相違点を中心に説明
し、同様の事項の説明については、その説明を省略す
る。

【００３３】図３に示すように、本実施形態の表面処理
方法は、基材２の表面の少なくとも一部に、下地層（基
材から順に、第一の下地層４１、第二の下地層４２、第
三の下地層４３）を形成する工程と、前記下地層の表面
の少なくとも一部に、乾式めっき法により、主としてＡ
ｕで構成され、かつＩｒ、Ｒｕ、Ｐｔから選択される少
なくとも一種の添加元素を含む材料で構成される被膜層
３を形成する工程とを有する。

【００３４】すなわち、被膜層３の形成に先立ち、基材
２の表面の少なくとも一部に、第一の下地層４１、第二
の下地層４２、第三の下地層４３をこの順で積層する以
外は前述した第一実施形態と同様である。

【００３５】以下、第一の下地層４１、第二の下地層４
２、第三の下地層４３について順に説明する。

【００３６】〈第一の下地層〉基材２の表面に、第一の
下地層４１を形成する。第一の下地層４１は、例えば、
基材２と第二の下地層４２との密着性を向上させる機能
や、基材の孔、キズ等をレベリング（ならし）により補
修する機能等を有する。

【００３７】第一の下地層４１の形成法としては、例え
ば、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式め
っき法、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸
着法、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティン
グ等の乾式めっき法、溶射、金属箔の結合等が挙げられ
るが、この中でも特に、湿式めっきまたは乾式めっき法
が好ましい。

【００３８】第一の下地層４１の形成法として、湿式め
っき法または乾式めっき法を用いることにより、形成さ
れる第一の下地層４１は、基材２との密着性に特に優れ
たものとなる。その結果、得られる装飾品３Ａの長期耐
久性は、特に優れたものとなる。

【００３９】第一の下地層４１の構成材料は、基材２を
構成する材料または第二の下地層４２を構成する材料の
うち少なくとも一種を含むものであるのが好ましい。こ
れにより、基材２、第二の下地層４２との密着性がさら
に向上する。第一の下地層４１の構成材料は、基材２の
構成材料や後述する第二の下地層の構成材料により異な
るが、例えば、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｉｎな
どの金属材料や、これらのうち少なくとも一種を含む合
金等の金属材料が挙げられる。

【００４０】第一の下地層４１の平均厚さは、特に指定
されないが、例えば０．１〜２０．０μmであるのが好
ましく、０．５〜１０．０μmであるのがより好まし
い。第一の下地層４１の平均厚さが前記下限値未満であ
ると、第一の下地層４１の効果が充分に発揮されない可
能性がある。一方、第一の下地層４１の平均厚さが前記
上限値を超えると、第一の下地層４１の各部位における
膜厚のバラツキが大きくなる傾向を示す。また、第一の
下地層４１の内部応力が高くなり、クラックが発生しや
すくなる。

【００４１】なお、図示の構成では、第一の下地層４１
は、基材２の全面に形成されているが、基材２の表面の
少なくとも一部に形成されるものであればよい。

【００４２】また、第一の下地層４１の各部位における
組成は、一定であっても、一定でなくてもよい。例え
ば、第一の下地層４１は、その厚さ方向に沿って、組成
が順次変化するもの（傾斜材料）であってもよい。

【００４３】〈第二の下地層〉次に、第一の下地層４１
の表面に、第二の下地層４２を形成する。第二の下地層
４２は、例えば、その一方の面側（第一の下地層４１）
と他方の面側（第三の下地層４３）との電位差を緩和す
る緩衝層として機能する。これにより、第二の下地層４
２の一方の面側（第一の下地層４１）と他方の面側（第
三の下地層４３）との電位差の腐食（異種金属接触腐
食）の発生をより効果的に防止することが可能となる。

【００４４】第二の下地層４２の形成方法としては、例
えば、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式
めっき法、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学
蒸着法（CVD）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプ
レーティング等の乾式めっき法、溶射、金属箔の接合等
が挙げられるが、この中でも特に、湿式めっき法または
乾式めっき法が好ましい。

【００４５】第二の下地層４２の形成方法として、湿式
めっき法を用いることにより、形成される第二の下地層
４２は、第一の下地層４１との密着性に特に優れたもの
となる。その結果、得られる装飾品３Ａの長期耐久性は
特に優れたものとなる。

【００４６】第二の下地層４２の標準電位は、第一の下
地層４１の標準電位と、第三の下地層４３の標準電位と
の間の値であることが好ましい。すなわち、第二の下地
層４２は、その標準電位が、第一の下地層４１の構成材
料の標準電位と、第三の下地層４３の構成材料の標準電
位との間の値である材料で構成されたものであるのが好
ましい。これにより、第二の下地層４２の一方の面側
（第一の下地層４１）と他方の面側（第三の下地層４
３）との電位差による腐食（異種金属接触腐食）の発生
をより効果的に防止することが可能となる。

【００４７】第二の下地層４２の構成材料は、第一の下
地層４１を構成する材料または第三の下地層４３を構成
する材料のうち少なくとも一種を含むものであるのが好
ましい。これにより、第一の下地層４１、第三の下地層
４３との密着性がさらに向上する。第二の下地層４２の
構成材料は、第一の下地層４１の構成材料や第三の下地
層４３の構成材料等により異なるが、例えば、Ｃｕ、Ｓ
ｎ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｔｉなどの
金属材料、これらのうち少なくとも一種を含む合金（例
えばＣｕ−Ｓｎ合金等）や、前記金属元素のうち少なく
とも一種を含む化合物（例えば、窒化物、炭化物、炭窒
化物等）等が挙げられる。

【００４８】第二の下地層４２の平均厚さは、特に限定
されないが、例えば０．１〜２０．０μmであるのが好
ましく、０．５〜１０．０μmであるのがより好まし
い。第二の下地層４２の平均厚さが前記下限値未満であ
ると、第二の下地層４２の効果が十分に発揮されない可
能性がある。一方、第二の下地層４２の平均厚さが前記
上限値を超えると、第二の下地層４２の各部位における
膜厚のバラツキが大きくなる傾向を示す。また、第二の
下地層４２の内部応力が高くなり、クラックが発生し易
くなる。

【００４９】なお、図中の構成では、第二の下地層４２
は、第一の下地層４１の全面に形成されているが、第一
の下地層４１の表面の少なくとも一部に形成されるもの
であればよい。また、第二の下地層４２の各部位におけ
る組成は、一定であっても、一定でなくてもよい。例え
ば、第二の下地層４２は、その厚さ方向に沿って、組成
が順次変化するもの（傾斜材料）であってもよい。

【００５０】〈第三の下地層〉さらに、第二の下地層４
２の表面に、第三の下地層４３を形成する。第三の下地
層４３は、例えば、第二の下地層４２と被膜層３との密
着性を向上させる機能や、保管時（被膜層３の形成の工
程までの間）等に腐食が発生するのを防止する機能等を
有する。

【００５１】第三の下地層４３の形成方法としては、例
えば、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式
めっき法、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学
蒸着法（CVD）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプ
レーティング等の乾式めっき法、溶射、金属箔の接合等
が挙げられるが、この中でも特に、湿式めっき法または
乾式めっき法が好ましい。

【００５２】第三の下地層４３の形成方法として、湿式
めっき法、または乾式めっき法を用いることにより、形
成される第三の下地層４３は、第二の下地層４２との密
着性に特に優れたものとなる。その結果、得られる装飾
品３Ａの長期耐久性は、特に優れたものとなる。

【００５３】第三の下地層４３の構成材料は、第二の下
地層４２を構成する材料または被膜層３を構成する材料
のうち少なくとも一種を含むものであるのが好ましい。
これにより、第二の下地層４２、被膜層３との密着性が
さらに向上する。第三の下地層４３の構成材料は、第二
の下地層４２の構成材料や被膜層３の構成材料等により
異なるが、例えば、Ｎｉ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｆ
ｅ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｒｕ等の金属材
料、これらのうち少なくとも一種を含む合金等や、前記
金属元素のうち少なくとも一種を含む化合物（例えば、
窒化物、炭化物、炭窒化物等）等が挙げられる。

【００５４】この中でも第三の下地層４３が主としてＴ
ｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａの窒化物、炭化物もしくは、炭窒
化物で構成されたものである場合、被膜層３の表面硬度
が向上し、結果として、得られる装飾品３Ａの耐摩耗性
が向上する。

【００５５】第三の下地層４３の平均厚さは、特に限定
されないが、例えば０．１〜２０μmであるのが好まし
く、１．０〜３．０μmであるのがより好ましい。第三
の下地層４３の平均厚さが前記下限値未満であると、第
三の下地層４３の効果が十分に発揮されない可能性があ
る。一方、第三の下地層４３の平均厚さが前記上限値を
超えると、第三の下地層４３の各部位における膜厚のバ
ラツキが大きくなる傾向を示す。また、第三の下地層４
３の内部応力が高くなり、クラックが発生し易くなる。

【００５６】なお、図示の構成では、第三の下地層４３
は、第二の下地層４２の全面に形成されているが、第二
の下地層４２の表面の少なくとも一部に形成されるもの
であればよい。また、第三の下地層４３の各部位におけ
る組成は、一定であっても、一定でなくてもよい。例え
ば、第三の下地層４３は、その厚さ方向に沿って、組成
が順次変化するもの（傾斜材料）であってもよい。

【００５７】以上説明したように、基材２の表面に、第
一の下地層４１と、第二の下地層４２、第三の下地層４
３とを、この順に積層することにより、基材２と被膜層
３との密着性、装飾品の耐食性がさらに優れたものとな
る。その結果、装飾品３Ａは、特に耐久性に優れたもの
となる。なお、第一の下地層４１、第二の下地層４２、
第三の下地層４３は、それぞれ前述したような機能を有
するものに限定されず、他の効果を有するものであって
もよい。

【００５８】以上、本発明の装飾品の表面処理方法およ
び装飾品の好適な実施形態について説明したが、本発明
は、これらに限定されるものではない。

【００５９】例えば、前述した第二実施形態において
は、一層の下地層を形成しており、また、第三実施形態
においては三層の下地層（第一の下地層、第二の下地
層、第三の下地層）を形成しているが、形成する下地層
は、二層または四層以上であってもよい。この場合、下
地層の少なくとも一層がその片方の面側と他方側との電
位差を緩和する作用を有するものであるのが好ましい。

【００６０】また、装飾品の表面の少なくとも一部に
は、耐食性、耐光性、耐久性、耐油性、耐摩耗性、耐変
色性を付与し、防錆、防汚、防曇、防傷等の効果を向上
する保護層等が形成されていてもよい。

【００６１】

【実施例】次に、本発明の具体的実施例について説明す
る。

【００６２】１．装飾品の製造 （実施例１）以下に示すような表面処理を施すことによ
り、装飾品（腕時計評価部品）を製造した。

【００６３】まず、SUS304材を用いて、圧延・切断によ
り平面形状を有する、２０mm×４０mm×２mmの腕時計評
価部品（テストピース）を作成し、その後、表面を研磨
し、鏡面仕上げに仕上げた。

【００６４】次にこの基材を洗浄した。基材の洗浄とし
ては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次い
で、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和
を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行っ
た。このようにして洗浄を行った基材の表面に、Ａｕと
Ｉｒとで構成される被膜層を形成した。

【００６５】被膜層の形成は、以下に説明するようなス
パッタリングにより行った。まず、基材をスパッタリン
グ装置に取付け、その後スパッタリング装置内を５．０
×１０^-４Paまで排気（減圧）した。その後、アルゴン
流量８．８cc/minで、スパッタリング装置内の雰囲気ガ
ス（アルゴンガス）の圧力を１×１０^-１Paとした後、
ターゲットとしては、金、イリジウムを用いて、金とイ
リジウムの成膜電力を１８８:１７の比でスパッタリン
グを行い、ＡｕとＩｒとで構成された被膜層を形成する
ことにより、装飾品を得た。

【００６６】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｉｒの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９７．
７７wt%、Ｉｒ２．２３wt%であった。

【００６７】（実施例２）金とイリジウムの成膜電力を
１８６:２３の比でスパッタリングを行った以外は、実
施例１と同様にしてＡｕとＩｒとで構成された被膜層を
形成することにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造
した。

【００６８】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｉｒの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９７．
０３wt%、Ｉｒ２．９７wt%であった。

【００６９】（実施例３）金とイリジウムの成膜電力を
１８２:３２の比でスパッタリングを行った以外は、実
施例１と同様にしてＡｕとＩｒとで構成された被膜層を
形成することにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造
した。

【００７０】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｉｒの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９４．
４wt%、Ｉｒ５．６wt%であった。

【００７１】（実施例４）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造し
た。

【００７２】まず、SUS304材を用いて、圧延・切断によ
り平面形状を有する、２０mm×４０mm×２mmの腕時計評
価部品（テストピース）を作成し、その後表面を研磨
し、鏡面仕上げに仕上げた。

【００７３】次にこの基材を洗浄した。基材の洗浄とし
ては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次い
で、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和
を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行っ
た。このようにして洗浄を行った基材の表面に、Ａｕと
Ｒｕとで構成される被膜層を形成した。

【００７４】被膜層の形成は、以下に説明するようなス
パッタリングにより行った。まず、基材をスパッタリン
グ装置に取付け、その後スパッタリング装置内を５．０
×１０^-４Paまで排気（減圧）した。その後、アルゴン
流量８．８cc/minで、スパッタリング装置内の雰囲気ガ
ス（アルゴンガス）の圧力を１．０×１０^{- １}Paとした
後、ターゲットとしては、金、ルテニウムを用いて、金
とルテニウムの成膜電力を１８４:２３の比でスパッタ
リングを行い、ＡｕとＲｕとで構成された被膜層を形成
することにより、装飾品を得た。

【００７５】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｒｕの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９７．
５５wt%、Ｒｕ２．４５wt%であった。

【００７６】（実施例５）金とルテニウムの成膜電力を
１８２:２８の比でスパッタリングを行った以外は、実
施例４と同様にしてＡｕとＲｕとで構成された被膜層を
形成することにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造
した。

【００７７】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｒｕの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９６．
３３wt%、Ｒｕ３．６７wt%であった。

【００７８】（実施例６）金とルテニウムの成膜電力を
１９２:３の比でスパッタリングを行った以外は、実施
例４と同様にしてＡｕとＲｕとで構成された被膜層を形
成することにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造し
た。

【００７９】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｒｕの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９９．
９２wt%、Ｒｕ０．０８wt%であった。

【００８０】（実施例７）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造し
た。

【００８１】まず、SUS304材を用いて、圧延・切断によ
り平面形状を有する、２０mm×４０mm×２mmの腕時計評
価部品（テストピース）を作成し、その後表面を研磨
し、鏡面仕上げに仕上げた。

【００８２】次にこの基材を洗浄した。基材の洗浄とし
ては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次い
で、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和
を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行っ
た。このようにして洗浄を行った基材の表面に、Ａｕと
Ｐｔとで構成される被膜層を形成した。

【００８３】被膜層の形成は、以下に説明するようなス
パッタリングにより行った。まず、基材をスパッタリン
グ装置に取付け、その後スパッタリング装置内を５．０
×１０^-４Paまで排気（減圧）した。その後、アルゴン
流量９．０cc/minで、スパッタリング装置内の雰囲気ガ
ス（アルゴンガス）の圧力を１．０×１０^{- １}Paとした
後、ターゲットとしては、金、プラチナを用いて、金と
プラチナの成膜電力を２００:１４の比でスパッタリン
グを行い、Ａｕ、Ｐｔで構成された被膜層を形成するこ
とにより、装飾品を得た。

【００８４】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｐｔの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９６．
５wt%、Ｐｔ３．５wt%であった。

【００８５】（実施例８）金とプラチナの成膜電力を１
９８:１８の比でスパッタリングを行った以外は、実施
例７と同様にしてＡｕとＰｔとで構成された被膜層を形
成することにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造し
た。

【００８６】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｐｔの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９５．
９wt%、Ｐｔ４．１wt%であった。

【００８７】（実施例９）金とプラチナの成膜電力を１
９６:２１の比でスパッタリングを行った以外は、実施
例７と同様にしてＡｕとＰｔとで構成された被膜層を形
成することにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造し
た。

【００８８】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｐｔの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９４．
３７wt%、Ｐｔ５．６３wt%であった。

【００８９】（実施例１０）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造し
た。

【００９０】まず、SUS304材を用いて、圧延・切断によ
り平面形状を有する、２０mm×４０mm×２mmの腕時計評
価部品（テストピース）を作成し、その後表面を研磨
し、鏡面仕上げに仕上げた。

【００９１】次にこの基材を洗浄した。基材の洗浄とし
ては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次い
で、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和
を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行っ
た。このようにして洗浄を行った基材の表面に、Ａｕ、
ＩｒおよびＲｕで構成される被膜層を形成した。

【００９２】被膜層の形成は、以下に説明するようなス
パッタリングにより行った。まず、基材をスパッタリン
グ装置に取付け、その後スパッタリング装置内を５．０
×１０^-４Paまで排気（減圧）した。その後、アルゴン
流量９．０cc/minで、スパッタリング装置内の雰囲気ガ
ス（アルゴンガス）の圧力を１．０×１０^{- １}Paとした
後、ターゲットとしては、金、イリジウムおよびルテニ
ウムを用いて、金とイリジウムとルテニウムの成膜電力
を１９２:１１:９の比でスパッタリングを行い、Ａｕ、
ＩｒおよびＲｕで構成された被膜層を形成することによ
り、装飾品を得た。

【００９３】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、ＩｒおよびＲｕ
の含有量をICP分光分析により求めたところ、それぞれ
Ａｕ９７．２５wt%、Ｉｒ１．５３wt%およびＲｕ１．２
２wt%であった。

【００９４】（実施例１１）金、イリジウムおよびプラ
チナの成膜電力を１９０:１０：１２の比でスパッタリ
ングを行った以外は、実施例１０と同様にしてＡｕ、Ｉ
ｒおよびＰｔで構成された被膜層を形成することによ
り、装飾品（腕時計評価部品）を製造した。

【００９５】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、ＩｒおよびＰｔ
の含有量をICP分光分析により求めたところ、それぞれ
Ａｕ９７．８６wt%、Ｉｒ１．３４wt%およびＰｔ０．８
wt%であった。

【００９６】（実施例１２）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造し
た。

【００９７】まず、SUS304材を用いて、圧延・切断によ
り平面形状を有する、２０mm×４０mm×２mmの腕時計評
価部品（テストピース）を作成し、その後、表面を研磨
し、鏡面仕上げに仕上げた。

【００９８】次にこの基材を洗浄した。基材の洗浄とし
ては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次い
で、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和
を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行っ
た。次に洗浄された基材の表面に、Ｎｉで構成される下
地層を形成した。

【００９９】下地層の形成は、電解めっき（ストライク
めっき）により、浴温：６０℃、電流密度：３A/dm^２、
時間：１分間という条件で行った。このようにして形成
された下地層の平均厚さは０．５μmであった。そし
て、下地層が形成された基材を洗浄した後、ＡｕとＩｒ
とで構成された被膜層を形成した。この洗浄としては、
まず、アルカリ浸漬脱脂を２０秒間行った。その後、中
和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を５秒間行っ
た。

【０１００】被膜層の形成は、以下に説明するようなス
パッタリングにより行った。まず、基材をスパッタリン
グ装置に取付け、その後スパッタリング装置内を５．０
×１０^-４Paまで排気（減圧）した。その後、アルゴン
流量８．８cc/minで、スパッタリング装置内の雰囲気ガ
ス（アルゴンガス）の圧力を１×１０^-１Paとした後、
ターゲットとしては、金、イリジウムを用いて、金とイ
リジウムの成膜電力を１８７:１６の比でスパッタリン
グを行い、ＡｕとＩｒとで構成された被膜層を形成する
ことにより、装飾品を得た。

【０１０１】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｉｒの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９７．
８２wt%、Ｉｒ２．１８wt%であった。

【０１０２】（実施例１３）ＡｕとＲｕとで構成された
被膜層の形成を行った以外は、実施例１２と同様にして
装飾品（腕時計評価部品）を製造した。

【０１０３】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｒｕの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９７．
１８wt%、Ｒｕ２．８７wt%であった。

【０１０４】（実施例１４）ＡｕとＰｔとで構成された
被膜層の形成を行った以外は、実施例１２と同様にして
装飾品（腕時計評価部品）を製造した。

【０１０５】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。

【０１０６】また、形成された被膜層のＡｕ、Ｐｔの含
有量をICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ
９７．３８wt%、Ｐｔ２．６２wt%であった。

【０１０７】（実施例１５）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造し
た。

【０１０８】まず、SUS304材を用いて、圧延・切断によ
り平面形状を有する、２０mm×４０mm×２mmの腕時計評
価部品（テストピース）を作成し、その後、表面を研磨
し、鏡面仕上げに仕上げた。

【０１０９】次にこの基材を洗浄した。基材の洗浄とし
ては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次い
で、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和
を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行っ
た。次に、洗浄された基材の表面に、Ｔｉで構成される
第一の下地層、ＴｉＮで構成される第二の下地層、Ｔｉ
ＣＮで構成される第三の下地層を、以下に説明するよう
な真空蒸着により形成した。

【０１１０】まず、基材を、チャンバー内に取り付け、
その後、装置内を予熱しながら、チャンバー内を２×１
０^−５Ｔｏｒｒまで排気（減圧）した。さらに、チャン
バー内を２×１０^−６Ｔｏｒｒまで排気（減圧）し、ア
ルゴンガス流量４７０cc/minで、ボンバート処理を５分
間行った。次に、チャンバー内を２×１０^−６Ｔｏｒｒ
まで排気（減圧）した。この状態で、チャンバー内のＴ
ｉを電子ビームによりイオン化させ、基材の表面に蒸着
（イオンプレーティング）させることにより、Ｔｉで構
成される第一の下地層を形成させた。

【０１１１】次いで、アルゴンガスの導入を停止し、こ
れに代わってチャンバー内に窒素ガスを導入し、ＡＲＥ
法により、ＴｉＮで構成される第二の下地層を形成し
た。第二の下地層形成時における窒素ガスの流量は１６
０cc/min、雰囲気圧は５×１０ ^−４Ｔｏｒｒであった。

【０１１２】この状態から、さらに、チャンバー内にア
セチレンガスを導入し、ＡＲＥ法により、ＴｉＣＮで構
成される第三の下地層を形成した。第三の下地層形成時
における窒素ガス流量は１８６cc/min、アセチレンガス
流量は２０cc/min、雰囲気圧は５×１０^−４Ｔｏｒｒで
あった。その後、第三の下地層の表面にＡｕとＩｒとで
構成される被膜層を形成した。

【０１１３】被膜層の形成は、以下に説明するようなス
パッタリングにより行った。まず、三層の下地層が積層
された基材をスパッタリング装置に取付け、その後スパ
ッタリング装置内を５．０×１０^-４Paまで排気（減
圧）した。その後、アルゴン流量８．８cc/minで、スパ
ッタリング装置内の雰囲気ガス（アルゴンガス）の圧力
を１×１０^-１Paとした後、ターゲットとしては、金、
イリジウムを用いて、金とイリジウムの成膜電力を１８
４:２７の比でスパッタリングを行い、ＡｕとＩｒとで
構成された被膜層を形成することにより、装飾品を得
た。

【０１１４】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｉｒの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９６．
９８wt%、Ｉｒ３．０２wt%であった。

【０１１５】（実施例１６）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造し
た。

【０１１６】まず、SUS304材を用いて、圧延・切断によ
り平面形状を有する、２０mm×４０mm×２mmの腕時計評
価部品（テストピース）を作成し、その後、表面を研磨
し、鏡面仕上げに仕上げた。

【０１１７】次にこの基材を洗浄した。基材の洗浄とし
ては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次い
で、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和
を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行っ
た。次に、洗浄された基材の表面に、Ｔｉで構成される
第一の下地層、ＴｉＣＮで構成される第二の下地層、Ｔ
ｉＣＮＯで構成される第三の下地層を、以下に説明する
ような真空蒸着により形成した。

【０１１８】まず、基材を、チャンバー内に取り付け、
その後、装置内を予熱しながら、チャンバー内を２×１
０^−５Ｔｏｒｒまで排気（減圧）した。さらに、チャン
バー内を２×１０^−６Ｔｏｒｒまで排気（減圧）し、ア
ルゴンガス流量４７０cc/minで、ボンバート処理を５分
間行った。次に、チャンバー内を２×１０^−６Ｔｏｒｒ
まで排気（減圧）した。この状態で、チャンバー内のＴ
ｉを電子ビームによりイオン化させ、基材の表面に蒸着
（イオンプレーティング）させることにより、Ｔｉで構
成される第一の下地層を形成させた。

【０１１９】次いで、アルゴンガスの導入を停止し、こ
れに代わってチャンバー内に窒素ガスおよびアセチレン
ガスを導入し、ＡＲＥ法により、ＴｉＣＮで構成される
第二の下地層を形成した。第二の下地層形成時における
窒素ガスの流量は１８６cc/min、アセチレンガス流量は
２０cc/min、雰囲気圧は５×１０^−４Ｔｏｒｒであっ
た。

【０１２０】この状態から、チャンバー内に酸素ガスを
導入し、ＡＲＥ法により、ＴｉＣＮＯで構成される第三
の下地層を形成した。第三の下地層形成時における窒素
ガス流量は９cc/min、アセチレンガス流量は７９cc/mi
n、酸素ガスの流量は３１cc/min、雰囲気圧は５×１０
^−４Ｔｏｒｒであった。その後、第三の下地層の表面に
ＡｕとＲｕとで構成される被膜層を形成した。

【０１２１】被膜層の形成は、以下に説明するようなス
パッタリングにより行った。まず、三層の下地層が積層
された基材をスパッタリング装置に取付け、その後スパ
ッタリング装置内を５．０×１０^-４Paまで排気（減
圧）した。その後、アルゴン流量８．８cc/minで、スパ
ッタリング装置内の雰囲気ガス（アルゴンガス）の圧力
を１．０×１０^-１Paとした後、ターゲットとしては、
金、ルテニウムを用いて、金とルテニウムの成膜電力を
１８４:２６の比でスパッタリングを行い、ＡｕとＲｕ
とで構成された被膜層を形成することにより、装飾品を
得た。

【０１２２】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｒｕの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９７．
３８wt%、Ｒｕ２．６２wt%であった。

【０１２３】（実施例１７）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造し
た。

【０１２４】まず、SUS304材を用いて、圧延・切断によ
り平面形状を有する、２０mm×４０mm×２mmの腕時計評
価部品（テストピース）を作成し、その後、表面を研磨
し、鏡面仕上げに仕上げた。

【０１２５】次にこの基材を洗浄した。基材の洗浄とし
ては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次い
で、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和
を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行っ
た。次に、洗浄された基材の表面に、Ｚｒで構成される
第一の下地層、ＺｒＮで構成される第二の下地層、Ｚｒ
ＣＮで構成される第三の下地層を、以下に説明するよう
な真空蒸着により形成した。

【０１２６】まず、基材を、チャンバー内に取り付け、
その後、装置内を予熱しながら、チャンバー内を２×１
０^−５Ｔｏｒｒまで排気（減圧）した。さらに、チャン
バー内を２×１０^−６Ｔｏｒｒまで排気（減圧）し、ア
ルゴンガス流量４７０cc/minで、ボンバート処理を５分
間行った。次に、チャンバー内を２×１０^−６Ｔｏｒｒ
まで排気（減圧）した。この状態で、チャンバー内のＺ
ｒを電子ビームによりイオン化させ、基材の表面に蒸着
（イオンプレーティング）させることにより、Ｚｒで構
成される第一の下地層を形成させた。

【０１２７】次いで、アルゴンガスの導入を停止し、こ
れに代わってチャンバー内に窒素ガスを導入し、ＡＲＥ
法により、ＺｒＮで構成される第二の下地層を形成し
た。第二の下地層形成時における窒素ガスの流量は１６
０cc/min、雰囲気圧は５×１０ ^−４Ｔｏｒｒであった。

【０１２８】この状態から、さらに、チャンバー内にア
セチレンガスを導入し、ＡＲＥ法により、ＺｒＣＮで構
成される第三の下地層を形成した。第三の下地層形成時
における窒素ガス流量は１８６cc/min、アセチレンガス
流量は２０cc/min、雰囲気圧は５×１０^−４Ｔｏｒｒで
あった。その後、第三の下地層の表面にＡｕとＰｔとで
構成される被膜層を形成した。

【０１２９】被膜層の形成は、以下に説明するようなス
パッタリングにより行った。まず、三層の下地層が積層
された基材をスパッタリング装置に取付け、その後スパ
ッタリング装置内を５．０×１０^-４Paまで排気（減
圧）した。その後、アルゴン流量８．８cc/minで、スパ
ッタリング装置内の雰囲気ガス（アルゴンガス）の圧力
を１×１０^-１Paとした後、ターゲットとしては、金、
プラチナを用いて、金とプラチナの成膜電力を２０２:
１０の比でスパッタリングを行い、ＡｕとＰｔとで構成
された被膜層を形成することにより、装飾品を得た。

【０１３０】なお、形成された被膜層の厚さは０．１μ
mであった。被膜層の厚さは試料を樹脂で包埋した後、
断面研磨し、導電性を持たせるためにカーボン蒸着を行
い、断面研磨された試料の表層についてSEMにより測定
した。また、形成された被膜層のＡｕ、Ｐｔの含有量を
ICP分光分析により求めたところ、それぞれＡｕ９７．
４２wt%、Ｐｔ２．５８wt%であった。

【０１３１】（比較例１）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計評価部品）を製造し
た。

【０１３２】まず、SUS304材を用いて、圧延・切断によ
り、平面形状を有する４０mm×２０mm×２mmの腕時計評
価部品（テストピース）を作成し、表面を研磨加工によ
り鏡面仕上げに仕上げた。

【０１３３】次にこの基材を洗浄した。基材の洗浄とし
ては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次い
で、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和
を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行っ
た。この様にして洗浄を行った基材の表面に、Ａｕ-Ｆ
ｅ合金で構成される被膜層を形成した。

【０１３４】被膜層は、浴温：４０℃、電流密度：１．
５A/dm^２、時間：５分間という条件で電解めっきを行う
ことにより形成した。形成された被膜層の平均厚さは
２．５μmであった。被膜層の厚さはJIS H ５８２１の
顕微鏡断面試験方法により測定した。

【０１３５】（比較例２）被膜層の形成に先立ち、基材
の表面に、Ｎｉで構成される下地層を形成した以外は、
比較例１と同様にしてＡｕとＦｅとで構成された被膜層
を形成することにより、装飾品（腕時計評価部品）を製
造した。

【０１３６】下地層の形成は、電解めっき（ストライク
めっき）により、浴温：６０℃、電流密度：３A/dm^２、
時間：１分間という条件で行った。このようにして形成
された下地層の平均厚さは０．５μmであった。そし
て、下地層が形成された基材を洗浄した後、ＡｕとＦｅ
とで構成された被膜層を形成した。この洗浄としては、
まず、アルカリ浸漬脱脂を２０秒間行った。その後、中
和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を５秒間行っ
た。なお、形成された被膜層の平均厚さは２．５μmで
あった。被膜層の厚さはJISH ５８２１の顕微鏡断面試
験方法により測定した。

【０１３７】２．装飾品の褪色性評価 上記各実施例および各比較例で製造した各装飾品につい
て、以下に示すような加熱試験を行うことにより、褪色
性を評価した。

【０１３８】熱風乾燥機中に各装飾品を置き、この状態
で温度２００℃、すなわち強制酸化雰囲気で８時間放置
し（経時的な色調変化に対する加速試験）、装飾品の試
験前と試験後の色調を色差計MINOLTA CM-２０２２によ
り、標準光源D６５、視野角２°の条件で比較した。こ
の結果を図４、５、６、７に示す。図中の単位a*、b*に
ついては、色は明度、色相、彩度の三属性により表現さ
れる。これらは数値的にL*、a*、b*として表すことがで
きる。明度はL*という単位で表し、色相と彩度はa*、b*
により表す。a*、b*は色度と呼ばれa*は赤〜青方向、b*
は黄〜緑方向を表している。また、L*、a*およびb*の値
より、製造直後と褪色試験後との色差ΔＥを求めた。各
実施例および各比較例で製造した装飾品の色差ΔＥの値
を、各装飾品の構成とともに表１に示す。

【０１３９】

【表１】

【０１４０】表１、図４、５、６、７から明らかなよう
に、本発明の表面処理方法を用いて製造された装飾品は
耐酸化雰囲気にも優れ、褪色しにくいものであり、試験
後も優れた美的外観を有している。これに対し、各比較
例の表面処理方法により、製造された装飾品は、強制酸
化雰囲気中で褪色してしまい、美的外観に劣る。

【０１４１】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の表面処理法
によれば、経時的色調変化を極力抑え、美的外観に優れ
た装飾品を容易かつ迅速に製造することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第一実施形態の装飾品の表面処理方
法により得られる装飾品の断面図である。

【図２】 本発明の第二実施形態の装飾品の表面処理方
法により得られる装飾品の断面図である。

【図３】 本発明の第三実施形態の装飾品の表面処理方
法により得られる装飾品の断面図である。

【図４】 耐酸化雰囲気試験における金色の褪色変化を
示す図である。

【図５】 耐酸化雰囲気試験における金色の褪色変化を
示す図である。

【図６】 耐酸化雰囲気試験における金色の褪色変化を
示す図である。

【図７】 耐酸化雰囲気試験における金色の褪色変化を
示す図である。

【符号の説明】

１A、２A、３A・・・装飾品 ２・・・基材 ３・・・
被膜層 ４０・・・下地層 ４１・・・第一の下地層
４２・・・第二の下地層 ４３・・・第三の下地層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4K029 AA02 BA22 BA34 BB02 BD06 BD07 CA05 FA02 FA03 4K044 AA01 AA06 AA16 AB10 BA02 BA04 BA06 BA08 BA10 BA18 BB02 BB16 BC02 BC09 CA11 CA13 CA14 CA15 CA17 CA18

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材の表面の少なくとも一部に、湿式め
   っき法または乾式めっき法により、主としてＡｕで構成
   され、かつＩｒ、Ｒｕ、Ｐｔから選択される少なくとも
   一種の添加元素を含む材料で構成される被膜層を形成す
   る工程を有することを特徴とする装飾品の表面処理方
   法。
2. 【請求項２】 基材の表面の少なくとも一部に、少なく
   とも一層の下地層を形成する工程と、前記下地層の表面
   の少なくとも一部に、主としてＡｕで構成され、かつＩ
   ｒ、Ｒｕ、Ｐｔから選択される少なくとも一種の添加元
   素を含む材料で構成される被膜層を形成する工程とを有
   することを特徴とする装飾品の表面処理方法。
3. 【請求項３】 前記下地層を２層以上形成する請求項２
   に記載の装飾品の表面処理方法。
4. 【請求項４】 前記下地層のうち、前記被膜と接触する
   層が、主としてＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａの窒化物、炭化
   物もしくは、炭窒化物で構成されたものである請求項２
   または３に記載の装飾品の表面処理方法。
5. 【請求項５】 前記下地層のうち少なくとも一層は、そ
   の一方の面側と他方の面側との電位差を緩和する緩衝層
   である請求項２ないし４のいずれかに記載の装飾品の表
   面処理方法。
6. 【請求項６】 前記下地層は、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａ
   ｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎまたはこれら
   のうち少なくとも一種を含む合金で構成されるものであ
   る請求項２ないし５のいずれかに記載の装飾品の表面処
   理方法。
7. 【請求項７】 前記被膜層中の前記添加元素の含有量が
   ０．１〜５wt%である請求項１ないし６のいずれかに記
   載の装飾品の表面処理方法。
8. 【請求項８】 前記被膜層の平均厚さは０．１〜５．０
   μmである請求項１ないし７のいずれかに記載の装飾品
   の表面処理方法。
9. 【請求項９】 前記基材は、ステンレス鋼、純Ｔｉ、Ｔ
   ｉ合金およびＣｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、またはこれらのうち少
   なくとも一種を含む合金で構成されるものである請求項
   １ないし８のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
10. 【請求項１０】 前記基材は、その表面の少なくとも一
    部に、鏡面加工、スジ目加工、梨地加工から選択される
    表面加工が施されたものである請求項１ないし９のいず
    れかに記載の装飾品の表面処理方法。
11. 【請求項１１】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の装飾品の表面処理方法を用いて製造されたことを特徴
    とする装飾品。
12. 【請求項１２】 請求項１１に記載の装飾品を備えたこ
    とを特徴とする時計。