JPS63237203A - 薄膜磁気ヘツドの磁性コアの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの磁性コアの製造方法Info
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- JPS63237203A JPS63237203A JP7089287A JP7089287A JPS63237203A JP S63237203 A JPS63237203 A JP S63237203A JP 7089287 A JP7089287 A JP 7089287A JP 7089287 A JP7089287 A JP 7089287A JP S63237203 A JPS63237203 A JP S63237203A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はトラック幅を薄膜程度に狭くした薄膜磁気ヘッ
ドに関し、特にその磁性コアの製造方法の改良に関する
。
ドに関し、特にその磁性コアの製造方法の改良に関する
。
従来、上記した薄膜磁気ヘッドの磁性コアは第６図乃至
第９図に示される工程で製造されている。即ち、第６図
乃至第９図は下部磁性コアの製造工程を表しており、ま
ず第６図に示すようにアルミナ、ガラス、セラミックス
、非磁性フェライト等の非磁性材からなる基板１上に、
アルミナや二酸化硅素等の非磁性材の絶縁層２を形成し
、その絶縁層２にパーマロイ等の磁性金属からなる磁性
層３（下部磁性層）を積層形成する。更に、第７図に示
すように磁気コア（下部磁気コア）４となる斜線部分を
除き、特にエツチング加工を約４牌程度前記磁性層３に
対し行ない、磁気コア４の外形を形成する０次に、第８
図に示すように磁気コア４の先端部分４ａ以外に網線で
示すようにマスク５を施して約１．５〜２．５ｐ程度の
エツチング加工を施し、先端部分に段差を形成し、その
後マスク５を除去して磁気コア（下８Ｒ磁気コア）４を
得ていた。第９図はその成形加工後の状態を示す縦断面
図である。尚、この従来例を示す工程におって第７図と
第８図の工程は順序が入れ変わってもかまわない。
第９図に示される工程で製造されている。即ち、第６図
乃至第９図は下部磁性コアの製造工程を表しており、ま
ず第６図に示すようにアルミナ、ガラス、セラミックス
、非磁性フェライト等の非磁性材からなる基板１上に、
アルミナや二酸化硅素等の非磁性材の絶縁層２を形成し
、その絶縁層２にパーマロイ等の磁性金属からなる磁性
層３（下部磁性層）を積層形成する。更に、第７図に示
すように磁気コア（下部磁気コア）４となる斜線部分を
除き、特にエツチング加工を約４牌程度前記磁性層３に
対し行ない、磁気コア４の外形を形成する０次に、第８
図に示すように磁気コア４の先端部分４ａ以外に網線で
示すようにマスク５を施して約１．５〜２．５ｐ程度の
エツチング加工を施し、先端部分に段差を形成し、その
後マスク５を除去して磁気コア（下８Ｒ磁気コア）４を
得ていた。第９図はその成形加工後の状態を示す縦断面
図である。尚、この従来例を示す工程におって第７図と
第８図の工程は順序が入れ変わってもかまわない。
しかしながら、この上記した従来の薄膜磁気へ一２ドの
磁気コアの製造方法によると、第８図で示す磁気コア４
の先端部分４ａに段差を設けるエツチング加工の際、第
１０図に示すように絶縁層２、場合によっては基板１に
までエツチングＥが達してしまい、そのために第８図に
おける先端部分４ａの両サイドＡ・Ａに高い段差が生じ
てしまう。このような高い段差が生じてしまうと、次工
程でレジスト、ポリイシド等の有機系の樹脂によって絶
縁層６をスピンコーティングする時に、第１１図に示す
ように肉薄部６ａ、肉厚部６ｂが生じ均一とならず、イ
オンガスでエツチングするときにニー２チング時間が各
部分ごとに異なり、精度の劣化の原因となってしまう、
更に、第７図にあっては高さＨ（４ｇ）のエツチング、
第８図にあっては高さｈ（１，５〜２．５．）のエツチ
ングを行なうため、加工にかなりの時間を要するものど
なっていた。
磁気コアの製造方法によると、第８図で示す磁気コア４
の先端部分４ａに段差を設けるエツチング加工の際、第
１０図に示すように絶縁層２、場合によっては基板１に
までエツチングＥが達してしまい、そのために第８図に
おける先端部分４ａの両サイドＡ・Ａに高い段差が生じ
てしまう。このような高い段差が生じてしまうと、次工
程でレジスト、ポリイシド等の有機系の樹脂によって絶
縁層６をスピンコーティングする時に、第１１図に示す
ように肉薄部６ａ、肉厚部６ｂが生じ均一とならず、イ
オンガスでエツチングするときにニー２チング時間が各
部分ごとに異なり、精度の劣化の原因となってしまう、
更に、第７図にあっては高さＨ（４ｇ）のエツチング、
第８図にあっては高さｈ（１，５〜２．５．）のエツチ
ングを行なうため、加工にかなりの時間を要するものど
なっていた。
そこで、本発明は係る従来の技術の問題点に着目してな
されたもので、かかる問題点を解消して、段差を小さく
でき、作業時間も短くて済むようにした薄膜磁気ヘッド
の磁性コアの製造方法を提供することを目的としている
。
されたもので、かかる問題点を解消して、段差を小さく
でき、作業時間も短くて済むようにした薄膜磁気ヘッド
の磁性コアの製造方法を提供することを目的としている
。
〔問題点を解決しようとするための手段〕この目的を達
成するために、本発明に係る薄膜磁気ヘッドの磁性コア
の製造方法は、非磁性材基板上に絶縁層と下部磁性層を
形成し、この下部磁性層の先端部に段差を形成するＰｉ
膜磁気ヘッドの磁性コアの製造方法において、前記下部
磁性層上に肉厚部分用マスクを用いて肉厚部分用マスク
以外のところをエツチングを施し、所定の肉厚に形成す
る工程と、上記肉厚の磁性コア先端部に操端部用マスク
を形成する工程と、Ｌ記肉厚部分用マスクと先端部用マ
スク以外の下部磁性層を同時にエツチングする工程とを
有することを特徴としている。
成するために、本発明に係る薄膜磁気ヘッドの磁性コア
の製造方法は、非磁性材基板上に絶縁層と下部磁性層を
形成し、この下部磁性層の先端部に段差を形成するＰｉ
膜磁気ヘッドの磁性コアの製造方法において、前記下部
磁性層上に肉厚部分用マスクを用いて肉厚部分用マスク
以外のところをエツチングを施し、所定の肉厚に形成す
る工程と、上記肉厚の磁性コア先端部に操端部用マスク
を形成する工程と、Ｌ記肉厚部分用マスクと先端部用マ
スク以外の下部磁性層を同時にエツチングする工程とを
有することを特徴としている。
上記したように薄膜磁気ヘッドの磁性コアを製造するこ
とによって、エツチング（又はミリング）によって絶縁
層や基板をエツチングしてしまうことがなく、段差を小
さくすることができ、又、そのエツチングに要する時間
も短くて済むものとなる。
とによって、エツチング（又はミリング）によって絶縁
層や基板をエツチングしてしまうことがなく、段差を小
さくすることができ、又、そのエツチングに要する時間
も短くて済むものとなる。
次に１本発明の実施の一例を第１図乃至第５図を参照し
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
第１図乃至第５図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの磁性
コアの製造方法を表す工程図であり、まず従来と同様に
非磁性材からなる基板１０−ヒに非磁性材の絶縁層１１
を形成し、その絶縁層１１上に磁性層１２を形成する。
コアの製造方法を表す工程図であり、まず従来と同様に
非磁性材からなる基板１０−ヒに非磁性材の絶縁層１１
を形成し、その絶縁層１１上に磁性層１２を形成する。
又、第２図に示すのは成形すべき磁性コア（下部磁性コ
ア）の肉厚部分の形成用のマスク１３の平面図であり、
このマスク１３を前記磁性層１２上に載せ、第一の形成
加工である約ｚ、ｓｐＬ程度のエツチング（又はミリン
グ）を行なう。第３図はこのマスク１３を用いてエツチ
ング加工を施した状態の縦断面図であり、この状態では
磁性コア１４となる肉厚部分１４ａの外形が表れている
０次いで、磁性コア１４の肉薄である先端部分１４ｂを
形成するためマスクＬ３ａを一度エッチング（又はミリ
ング）された磁性層１２上に載せ、第二の形成加工であ
る約１．５Ｌ程度のエツチングを行なう、第５図はこの
第二の形成加工を施した後の状態を示す縦断面図であり
、マスク１３・１３ａを除去して肉薄の先端部分１４ｂ
を有する磁性コア１４を得る。
ア）の肉厚部分の形成用のマスク１３の平面図であり、
このマスク１３を前記磁性層１２上に載せ、第一の形成
加工である約ｚ、ｓｐＬ程度のエツチング（又はミリン
グ）を行なう。第３図はこのマスク１３を用いてエツチ
ング加工を施した状態の縦断面図であり、この状態では
磁性コア１４となる肉厚部分１４ａの外形が表れている
０次いで、磁性コア１４の肉薄である先端部分１４ｂを
形成するためマスクＬ３ａを一度エッチング（又はミリ
ング）された磁性層１２上に載せ、第二の形成加工であ
る約１．５Ｌ程度のエツチングを行なう、第５図はこの
第二の形成加工を施した後の状態を示す縦断面図であり
、マスク１３・１３ａを除去して肉薄の先端部分１４ｂ
を有する磁性コア１４を得る。
尚、本実施例は下部磁性コアを対象としているが、上部
磁性コアに応用することは勿論可能である。
磁性コアに応用することは勿論可能である。
上述したように本発明に係る薄膜磁気ヘッドの磁性コア
の製造方法によると、エツチング（又はミリング）加工
を施す際、特に第二の形成加工をき、第一の形成加工で
約２．５ｐ程度、第二の形成加工で約１．５ＪＪ、程度
のエツチングを行なって最終的に肉厚部分を４座程度と
するために、従来と比べてそのエツチングのために要す
る時間が短縮される。
の製造方法によると、エツチング（又はミリング）加工
を施す際、特に第二の形成加工をき、第一の形成加工で
約２．５ｐ程度、第二の形成加工で約１．５ＪＪ、程度
のエツチングを行なって最終的に肉厚部分を４座程度と
するために、従来と比べてそのエツチングのために要す
る時間が短縮される。
第１図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの磁性コアの製造
方法を示し、基板上に絶縁層を形成し、その絶縁層上に
磁性層を形成した状態の縦断面図、第２図は同磁性コア
の肉厚部分用マスクの平面図、第３図は同第２図のマス
クを使用して第一の形成加工を行なった状態の縦断面図
、第４図は同磁性コアの先端部分用マスクを示す平面図
、第５図は同第４図のマスクを使用して第二の形成加工
を行なった状態の縦断面図、第６図は従来例を示し、基
板上に絶縁層を形成し、その絶縁層上に磁性層を形成し
た状態の縦断面図、第７図は同磁性コアの外形を形成し
た状態の平面図、第８図は同先端部分を形成し磁性コア
を得た状態の平面図、第９図は同縦断面図、第１０図は
同第８図中Ａ＠Ａ部分の加工状態を示す縦断面図、第１
１図は同次工程における絶縁層のスピンコーティング状
態を示す縦断面図である。 １０・・・基板 １１・・・絶縁層 １２・・・磁性層
１３・・・肉厚部分用マスク １３ａ・・・先端部分用マスク １４・・・下部磁性コア １４ａ・・・肉厚部分１４ｂ
・・・先端部分 特許出願人 アルプス電気株式会社 代表者 片間 勝太部 第１図 第２図 第４図 第５図 第６図
方法を示し、基板上に絶縁層を形成し、その絶縁層上に
磁性層を形成した状態の縦断面図、第２図は同磁性コア
の肉厚部分用マスクの平面図、第３図は同第２図のマス
クを使用して第一の形成加工を行なった状態の縦断面図
、第４図は同磁性コアの先端部分用マスクを示す平面図
、第５図は同第４図のマスクを使用して第二の形成加工
を行なった状態の縦断面図、第６図は従来例を示し、基
板上に絶縁層を形成し、その絶縁層上に磁性層を形成し
た状態の縦断面図、第７図は同磁性コアの外形を形成し
た状態の平面図、第８図は同先端部分を形成し磁性コア
を得た状態の平面図、第９図は同縦断面図、第１０図は
同第８図中Ａ＠Ａ部分の加工状態を示す縦断面図、第１
１図は同次工程における絶縁層のスピンコーティング状
態を示す縦断面図である。 １０・・・基板 １１・・・絶縁層 １２・・・磁性層
１３・・・肉厚部分用マスク １３ａ・・・先端部分用マスク １４・・・下部磁性コア １４ａ・・・肉厚部分１４ｂ
・・・先端部分 特許出願人 アルプス電気株式会社 代表者 片間 勝太部 第１図 第２図 第４図 第５図 第６図
Claims (1)
- 非磁性材基板上に絶縁層と下部磁性層を形成し、この下
部磁性層の先端部に段差を形成する薄膜磁気ヘッドの磁
性コアの製造方法において、前記下部磁性層上に肉厚部
分用マスクを用いて肉厚部分用マスク以外のところをエ
ッチングを施し、所定の肉厚に形成する工程と、上記肉
厚の磁性コア先端部に先端部用マスクを形成する工程と
、上記肉厚部分用マスクと先端部用マスク以外の下部磁
性層を同時にエッチングする工程とを有することを特徴
とする薄膜磁気ヘッドの磁性コアの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7089287A JPS63237203A (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 薄膜磁気ヘツドの磁性コアの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7089287A JPS63237203A (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 薄膜磁気ヘツドの磁性コアの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63237203A true JPS63237203A (ja) | 1988-10-03 |
Family
ID=13444632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7089287A Pending JPS63237203A (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 薄膜磁気ヘツドの磁性コアの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63237203A (ja) |
-
1987
- 1987-03-25 JP JP7089287A patent/JPS63237203A/ja active Pending
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