JPS63234578A - ホ−ル効果装置 - Google Patents
ホ−ル効果装置Info
- Publication number
- JPS63234578A JPS63234578A JP62069304A JP6930487A JPS63234578A JP S63234578 A JPS63234578 A JP S63234578A JP 62069304 A JP62069304 A JP 62069304A JP 6930487 A JP6930487 A JP 6930487A JP S63234578 A JPS63234578 A JP S63234578A
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- Pending
Links
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 16
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 abstract 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 4
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、砒化ガリウムを出発材料とするホール効果を
持つホール効果装置に関するものである。
持つホール効果装置に関するものである。
従来の技術
従来、この種の砒化ガリウムホール効果装置は、第4図
、第5図に示すような構造であった。第4図、第5図に
おいて、1.2は入力電極、3.4は出力電極、6はn
活性層、6はホール効果検出部、8はオーミックメタル
、9は?活性層、1oはボンディングワイヤー、11は
GaAsセミインシュレータ層、12.13は5i02
層、14はパッシベーション層でアル。
、第5図に示すような構造であった。第4図、第5図に
おいて、1.2は入力電極、3.4は出力電極、6はn
活性層、6はホール効果検出部、8はオーミックメタル
、9は?活性層、1oはボンディングワイヤー、11は
GaAsセミインシュレータ層、12.13は5i02
層、14はパッシベーション層でアル。
発明が解決しようとする問題点
このような従来の構造では、通常ホール効果検出部6の
面積がチップ面積の晃以上を占めていた。
面積がチップ面積の晃以上を占めていた。
そのためウェーハの影響を非常に受けやすかった。
特にエッチビットデンシテー(以下E、P、D )やウ
ェーハの不純物の影響を受けやすく不平衡電圧が大きく
なるという問題があった。
ェーハの不純物の影響を受けやすく不平衡電圧が大きく
なるという問題があった。
本発明は、このような問題を解決するもので、E、P、
Dやウェーハの不純物の影響を受けにくくシ、不平衡電
圧が大きくなるのを抑えることを目的とするものである
。
Dやウェーハの不純物の影響を受けにくくシ、不平衡電
圧が大きくなるのを抑えることを目的とするものである
。
問題点を解決するだめの手段
この問題を解決するために本発明は、ホール効果検出部
の周辺の活性層をオーミックメタルを介して配線層に接
続し、オーミックメタルの接続部分以外の配線層上にボ
ンディングパットを形成した構造にした。
の周辺の活性層をオーミックメタルを介して配線層に接
続し、オーミックメタルの接続部分以外の配線層上にボ
ンディングパットを形成した構造にした。
作用
この構造により、ホール効果検出部の面積を小さくする
ことができるため、ウェーハの影響を受けにくくなり、
安定な素子が実現でき、不平衡電圧は小さくなり拡散歩
留りが向上するという作用が得られる。
ことができるため、ウェーハの影響を受けにくくなり、
安定な素子が実現でき、不平衡電圧は小さくなり拡散歩
留りが向上するという作用が得られる。
実施例
第1図は、本発明の一実施例によるホール効果装置の断
面図であり、第2図はその平面図である。
面図であり、第2図はその平面図である。
第1図、第2図において、1,2は入力電極、3゜4は
出力電極、6はホール効果検出部60周辺のn活性層、
6はホール効果検出部、7は配線まだは引きまわし電極
(これらを総称して配線層と呼ぶ)、8はn活性層5の
端部と配線層7とを接続するオーミックメタル、9はオ
ーミック接触を良好にするだめの?活性層、10は配線
層7の最外端に形成されたポンデイングパツド(入出力
電極1〜4に相当)に接続されたボンディングワイヤー
、11はGaAsセミインシュレータ層、12゜13は
5i02層14はパッシベーション層である。
出力電極、6はホール効果検出部60周辺のn活性層、
6はホール効果検出部、7は配線まだは引きまわし電極
(これらを総称して配線層と呼ぶ)、8はn活性層5の
端部と配線層7とを接続するオーミックメタル、9はオ
ーミック接触を良好にするだめの?活性層、10は配線
層7の最外端に形成されたポンデイングパツド(入出力
電極1〜4に相当)に接続されたボンディングワイヤー
、11はGaAsセミインシュレータ層、12゜13は
5i02層14はパッシベーション層である。
第1図、第2図から明らかなように、本実施例において
は、ホール効果検出部6の周辺のn活性層6がオーミッ
クメタル8を介して配線層7に接続され、この配線層7
の他端にボンディングパッドが形成されている。
は、ホール効果検出部6の周辺のn活性層6がオーミッ
クメタル8を介して配線層7に接続され、この配線層7
の他端にボンディングパッドが形成されている。
このようにすればホール効果検出部6の面積を小さくす
ることができ、その結果、ウェーノ・の影響を受けにく
くなり、安定な素子が実現できる。
ることができ、その結果、ウェーノ・の影響を受けにく
くなり、安定な素子が実現できる。
また不平衡行田が小さくなるだめ、拡散歩留りも向上す
る。
る。
さらに、従来の構成であれば、オーミックメタル8とポ
ンデイングパツドが同一箇所にあるだめ、このホール効
果装置と同一の基板上に他の素子(たとえばFETや抵
抗)を組込むことができず、別の基板に形成した他の素
子とホール効果装置とをワイヤーで接続することしかで
きなかったが、本実施例のようにオーミックメタル8と
ボンディングパッドの位置をずらし、その間を配線層7
で接続すれば、この配線層7の一部に抵抗層を組込んだ
り、FET等の素子を組込むことができる。
ンデイングパツドが同一箇所にあるだめ、このホール効
果装置と同一の基板上に他の素子(たとえばFETや抵
抗)を組込むことができず、別の基板に形成した他の素
子とホール効果装置とをワイヤーで接続することしかで
きなかったが、本実施例のようにオーミックメタル8と
ボンディングパッドの位置をずらし、その間を配線層7
で接続すれば、この配線層7の一部に抵抗層を組込んだ
り、FET等の素子を組込むことができる。
このだめホール効果装置とその周辺回路とを同一基板上
に集積化することも可能になる。
に集積化することも可能になる。
なお、ホール効果検出部6而積を小さくしても、従来の
マスクパターンをそのまま縮小すれば検出感度が悪くな
ることはない。
マスクパターンをそのまま縮小すれば検出感度が悪くな
ることはない。
すなわち、第5図に示す従来例において、検出感度は入
力電極1.2間の距離lとn活性層5の幅W、出力電極
3.4間の距離l′とn活性層5の幅W′の比l:w:
1’:w’で決まり、この比を最適に設定することによ
って最高の検出感度を得ることができる。したがって第
1図に示す実施例においても、ホール効果検出部6とn
活性層5の長さおよび幅の比を、第5図の従来例での最
適比と同じになるように設定すれば、従来と同様の検出
感度が得られる。
力電極1.2間の距離lとn活性層5の幅W、出力電極
3.4間の距離l′とn活性層5の幅W′の比l:w:
1’:w’で決まり、この比を最適に設定することによ
って最高の検出感度を得ることができる。したがって第
1図に示す実施例においても、ホール効果検出部6とn
活性層5の長さおよび幅の比を、第5図の従来例での最
適比と同じになるように設定すれば、従来と同様の検出
感度が得られる。
第3図は従来製品と本実施例製品の不平衡電圧特性を比
較して示すものであシ、人は本実施例のBは従来の特性
である。第3図から本実施例によれば、不平衡電圧が従
来のものに比べて著しく小くなっていることがわかる。
較して示すものであシ、人は本実施例のBは従来の特性
である。第3図から本実施例によれば、不平衡電圧が従
来のものに比べて著しく小くなっていることがわかる。
発明の効果
以上のように、本発明によれば、ウェーハの影響を受け
にくくなり、不平衡電圧が小さくなるため拡散歩留りが
向上し、かつチップサイズが縮小できるという効果が得
られる。
にくくなり、不平衡電圧が小さくなるため拡散歩留りが
向上し、かつチップサイズが縮小できるという効果が得
られる。
第1図は本発明の一実施例によるホール効果装置の断面
図、第2図はその平面図、第3図は従来製品と本発明実
施例製品の不平衡電圧特性を比較した特性図、第4図は
従来のホール効果装置の断面図、第6図はその平面図で
ある。 1.2・・・・・入力電極、3.4・・・・出力電極、
5・・・・・・n活性層、6・・・・・ホール効果検出
部、7・・・・配線層、8・・・・・オーミックメタル
、9・・・・n十活性層、1o・・・・・・ボンディン
グワイヤー、11・・・・・・G&人Sセミインシュレ
ータ層、12.13・・・・・・3i0.、 層、 1
4・・・・・・パッシベーション層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名+4
−−△73電歇 3.4−−−j汽力′I s −−−n珀1 6−−−エー、レタカV験出薔や 7− 配係] 10−、rc’ソ;2ンy”−7(f rt−c、tLうメSインシュレタ 第3図 第4図
図、第2図はその平面図、第3図は従来製品と本発明実
施例製品の不平衡電圧特性を比較した特性図、第4図は
従来のホール効果装置の断面図、第6図はその平面図で
ある。 1.2・・・・・入力電極、3.4・・・・出力電極、
5・・・・・・n活性層、6・・・・・ホール効果検出
部、7・・・・配線層、8・・・・・オーミックメタル
、9・・・・n十活性層、1o・・・・・・ボンディン
グワイヤー、11・・・・・・G&人Sセミインシュレ
ータ層、12.13・・・・・・3i0.、 層、 1
4・・・・・・パッシベーション層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名+4
−−△73電歇 3.4−−−j汽力′I s −−−n珀1 6−−−エー、レタカV験出薔や 7− 配係] 10−、rc’ソ;2ンy”−7(f rt−c、tLうメSインシュレタ 第3図 第4図
Claims (1)
- ホール効果検出部の周辺の活性層をオーミックメタル
を介して配線層に接続し、上記オーミックメタルの接続
部分以外の上記配線層上にボンディングパッドを形成し
たことを特徴とするホール効果装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62069304A JPS63234578A (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | ホ−ル効果装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62069304A JPS63234578A (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | ホ−ル効果装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63234578A true JPS63234578A (ja) | 1988-09-29 |
Family
ID=13398687
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62069304A Pending JPS63234578A (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | ホ−ル効果装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63234578A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5017804A (en) * | 1987-07-23 | 1991-05-21 | Siliconix Incorporated | Hall sensing of bond wire current |
-
1987
- 1987-03-24 JP JP62069304A patent/JPS63234578A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5017804A (en) * | 1987-07-23 | 1991-05-21 | Siliconix Incorporated | Hall sensing of bond wire current |
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