JPS63217507A - 磁気ヘツド製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野Ｊ 本発明は磁気記録媒体に磁気コアを摺接して情報の記録
ないし再生を行なう磁気ヘッドの製造方法に関し、特に
磁気コアの磁気ギャップの両側に磁性金属薄膜が成膜さ
れた磁気コアを有する磁気ヘッドの製造方法に関するも
のである。

［従来の技術］ 近年、磁気記録技術の発展に伴なって磁気ヘッドには、
高飽和磁束密度で高抗磁力の磁気テープに対して記録再
生が可能であること、また磁気テープの面内での記録密
度を向上させるためにできるだけ狭トラツク化が可能で
あることが要求されている。

そこで、磁気コアの磁路部分全体の材料として磁性酸化
物のフェライトに代わって、飽和磁束密度の高い磁性金
属材料（センダスト、パーマロイ、アモルファス合金な
ど）を用いた構造が知られている・ また再生時の高周波特性を向上させ、かつ数１０ミクロ
ン以下、のトラック幅を実現するために、フェライトか
らなる磁気コアの磁気コア半体の磁気ギャップを介して
対向する突き合わせ面に磁性金属薄膜を設け、磁気ギャ
ップに面するギャップ形成面をこの薄膜から構成した構
造が知られている。薄膜はスパッタリング、蒸着、イオ
ンブレーティングなどの真空薄膜形成技術により成膜さ
れる。

前者の構造の場合は材料の対摩耗性、加工性およびコス
トなど製造上で不利な問題が多い。

これに対して後者の構造の場合は磁気テープ摺動画の大
部分が対摩耗性の高いフェライトから構成されるため対
摩耗性に優れ、信頼性も高く、安価に製造できる。

但し、この構造では磁性金属ｓ　Ｍ！の成膜面を磁気ギ
ャップ形成面に平行にする（薄膜表面がギャップ形成面
を構成する）と薄膜とフェライトの境界がいわゆる擬似
ギャップとなりヘッド特性が劣化する原因となる。この
ため薄膜成膜面をギャップ形成面に対して所要の角度傾
斜させ、薄膜とフェライトとの境界面をギャップ形成面
とを非平行に構成した構造が採用されている。

［発明が解決しようとする問題点］ ところでこのような構造の磁気ヘッドの製造工程におい
て上述の磁性金属薄膜は例えば第４図に示すような形態
で成膜される。同図において符号ｌは磁気コア半体を切
り出すフェライトピースであり、平坦に形成された図中
上面には深さ方向に沿った断面形状が一定角度の斜面を
有する溝２が形成される。そして溝２の内側面を含んで
フェライトピース１の図中上面全体に磁性金属薄膜３が
成膜される。なお薄膜２は最終的に完成した磁気コアに
おいては溝２の傾斜した内側面？ａ上の部分のみが残る
。

ここで成膜時に薄膜３を形成する磁性金属粒子の成膜面
に飛来して入射する入射方向（第４図の矢印Ｎ）につい
て言うと、従来では　例えば特公昭８０−２４３８１０
号などによると成膜面に対する入射角θが５°〜４５″
の範囲になるように設定することが薄膜の特性の向上を
図れ、特性のバラツキを押えられるものとして提案され
ている。

ところが第４図において入射角θを例えば５゜なら５°
に設定して成膜を行なうと、第４図に矢印Ｆ、Ｆ’、Ｆ
　”で示すように磁性金属薄膜３の各部分において作用
する応力が不均一となり、応力が集中するため、フェラ
イトピース１に符号にで示すクラックが発生する場合が
ある。また後工程でフェライトピース１の対を接合する
ため１４２に充填される溶着ガラスにもこの応力集中に
よりクラックが発生する場合があり、またこの応力集中
によりへ一２ド特性が劣化する場合がある。

これは＄５図に成膜時の上記成膜面に対する入射角θと
成膜された薄膜の応力の関係を示すように、入射角θに
応じて応力が変化するからである。

すなわち第４図で例えば５６とした入射角はフェライト
ピースｌの図中の上面１ａに対する入射角であって、溝
２の一定角度の斜面部分の内側面２ａと垂直な内側面２
ｂでは入射角が異なり、この結果として薄膜３の各部で
応力が異なって来る。

一方、ヘッド特性を管理するために、結晶化ガラス、セ
ラミックスなどの非磁性材から形成した・測定基板上に
上記のフェライトピース１に対するのと同じ条件で磁性
金属薄膜を成膜し、薄膜の透磁率、抗磁力および膜応力
などの諸特性を測定することが行なわれる。但し、この
測定には面積が必要なため測定基板の成膜面は平坦に形
成される。

ところがこれでは測定基板の薄膜の入射角と、フェライ
トピースｌに成膜された薄膜の内で実際に使用される溝
２の内側面２ａ上の部分の入射角は異なってしまう。入
射角により膜応力が異なるように薄膜の他の特性も入射
角により異なるので、上記のような測定では薄膜の特性
は正確には測定できないことになる。このためヘッド特
性の管理が充分満足には行なえないという問題があった
。

し問題点を解決するための手段］ このような問題点を解決するために本発明による磁気ヘ
ッドの製造方法によれば、磁気ヘッドの磁気コア半体を
切り出す磁性酸化物ピースの平坦な表面に一定角度の斜
面を有する溝を形成する工程と、線溝の斜面を含む前記
ピースの表面に真空薄膜形成法により磁性金属薄膜を形
成する工程を有し、前記成膜時に磁性金属粒子の入射方
向は前記ピース表面の平坦部分と前記溝の一定角度の斜
面に対して前記粒子の入射角がほぼ等しくなるように設
定する構成を採用した。

［作　用］ このような構成によれば、上記の平坦部分と斜面部分に
ついて入射角がほぼ等しいので、ｆ！！、膜された薄膜
において平坦部分上の部分と斜面部分上の部分で膜応力
がほぼ均一となり、応力集中を避けることができ、応力
集中によるクラックやヘッド特性の劣化などの問題を避
けることができる。

また上記斜面部分の入射角は平坦な測定基板の成膜面の
入射角とほぼ同じになることになり、両者において成膜
される薄膜の特性はほぼ同じになり、薄膜の特性のモニ
ターを正確かつ簡単に行なえる。

［実施例］ 以下、第１図〜第３図を参照して本発明の実施例の詳細
を説明する。

第１図は本発明の実施例の製法により製造される磁気ヘ
ッドの磁気コアの構造を説明するもであり、磁気コアの
磁気テープ摺動面の磁気ギャップ周辺部を示している。

図示のようにこの磁気コア４は一対の磁気コア半体５．
５が磁気ギャップ６を介し突き合わされ、接合されて構
成されている。磁気コア半体５．５はフェライトから形
成されており、その突き合わせ面は磁気テープ摺動面近
傍においてほぼＶ字形に尖って形成されている。モして
Ｖ字形の一方の辺の面は成膜面５ａとなっており、その
面上には先述の高飽和磁束密度の磁性金属薄Ｉｌｌ　（
以下薄膜と略す）３がスパッタリング、蒸着またはイオ
ンブレーティングなどの真空薄膜形成法により成膜され
ている。

それぞれの磁気コア半体５，５に成膜された薄膜３．３
はそれぞれ端面が磁気ギャップ６に面して磁気ギャップ
を形成するギャップ形成面となっており、疑似ギャップ
作用を押えるために磁気ギャップ６に対して所要の角度
θｌ傾斜して成膜されている。

なお磁気コア半体５．５どうしはＶ字形の突き合わせ面
形状により磁気ギャップ６の両側に形成される溝に充填
された溶着ガラス７により接合されている。

ところ↑以上の構造において薄膜３は矢印で示す成膜時
の磁性金属粒子の入射方向Ｎｔ−成膜面５ａに対する入
射角θ２が磁気ギャップ６に対する薄膜３の傾斜角θ１
のほぼ展になるような方向に設定して成膜したものとす
る。

このような薄膜３の軸コア製造工程における具体的な成
膜は第２図に示すような形態で行なわれる。

同図において符号１は先述したように磁気コア半体４を
切り出すフェライトピースであり、平坦に形成された図
中上面には深さ方向に沿った断面が一定角度の斜面を有
する溝２が形成される。溝２の一定角度の斜面の内側面
２ａは第１図の成膜面５ａに相当し、フェライトピース
１の平坦な図中上面１ａに対する内側面２ａの傾斜角θ
１は第１図の成膜面５ａの磁気ギャップ３に対する傾斜
角θ１に対応したものとする。

モして＊２の上記斜面を含んでフェラトピース１の図中
上面全体に薄膜３が真空薄膜形成法により成膜される。

ここで成膜時の磁性金属粒子の入射方向Ｎはフェライト
ピース１の上面１ａに対する傾斜角θ２が上述の内側面
２ａの上面１ａに対する傾斜角（成膜面５ａの磁気ギャ
ップ３に対する傾斜角）θ１のほぼ繕となるように設定
する。

このような設定によれば、入射角は成膜面に対して垂直
な方向に対する入射方向Ｎの傾斜角であり、上面１ａに
垂直な方向と内側面２ａに垂直な方向のなす角は入射角
θ２のほぼ２倍の傾斜角θ１であるから、入射方向Ｎの
内側面２ａに対する入射角０２′は上面１ａに対する入
射角θ２とほぼ等しくなる。

このようにすれ゛ば入射角θ２と０２′がほぼ等しいこ
とにより第３図に矢印Ｆ、Ｆ’で示すように薄膜３の平
坦な上面１ａ部分の膜応力と傾斜した内側面２ａ部分の
膜応力はほぼ均等となる。これにより応力の集中を避け
、応力集中によるフェライトピースのクラック、溶着ガ
ラス７のクラッり、ヘッド特性の劣化などの問題を防止
できる。

また内側面１ａへの入射角０２′が上面１ａへの入射角
θ２とほぼ等しいということは、先述のように薄膜の特
性をモニターするための測定基板の平坦な成膜面に対す
る入射角と内側面１ａへの入射角θ２をほぼ等しくでき
るということであり、内側面ｌａ上に成膜される薄膜と
測定基板に成膜される薄膜の特性をほぼ等しくできる。

従って薄膜の特性のモニターを正確かつ簡単に行なえ、
ヘッド特性の管理が適格に行なえるようになる。　なお
、薄膜成膜後の磁気コアの製造工程は既に知られている
ものであるが、第６図（Ａ）〜（Ｄ）を用いて以下に簡
単に説明しておく、成膜後には、まず第６図（Ａ）に破
線８で示すようにフェライトピース１の上面１ａに達す
るまで、゛あるいはそれより下まで水平に研摩して薄膜
３の上面ｌａ上の部分を除去し、第６図（Ｂ）に示す如
く薄膜３の内側面２ａ上の部分の上端面を磁気ギャップ
に面するギャップ形成面として形成する。

次に第６図（Ｃ）に示す如く斜めの溝９を形成する。

しかる後に第６図（Ｄ）に示す如くこのように加工した
フェライトピースの一対を磁気ギャップを介し突き合わ
せ、溝２．９に溶着ガラスを充填し、その溶着により接
合する。

そしてこの接合により得たブロックに磁気テープ摺動面
の加工を施した後に破線１０に沿ってジノ断して磁気コ
アが完成する。

［発明の効果］ 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、磁気
ヘッドの磁気コア半体を切り出す磁性酸化物ピースの平
坦な表面に一定角度の斜面を有する溝を形成する工程と
、線溝の斜面を含む前記ピースの表面に真空薄膜形成法
により磁性金属薄膜を成膜する工程を有し、前記成膜時
に磁性金属粒子の入射方向は前記ピース表面の平坦部分
と前記溝の一定角度の斜面部分について前記粒子の入射
角がほぼ等しくなるように設定する構成を採用したので
、薄膜の応力集中を避け、それによる上記ピースのクラ
ック発生や特性劣化の問題を防止でき、磁気ヘッドの磁
気コアの歩留まり向上と特性向上が図れる。また薄膜の
特性のモニターが正確かつ容易に行なえ、磁気ヘッドの
特性の管理を適格に行なえるという優れた効果が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例の製法により製造される磁気ヘ
ッドの磁気コアの構造を示す平面図、第２図は第１図中
の磁性金属薄膜の成膜についての説明図、第３図は第２
図の薄膜の応力の説明図、第４図は応力集中によるクラ
ック発生の説明図、第５図は薄膜成膜時の入射角と薄膜
の応力の関係を示す線図、第６図（Ａ）から（Ｄ）は、
薄膜成膜後の磁気コアの製法を示す説明図である。 １・・・フェライトピース ２・・・溝　　　　　　　３・・・磁性金属薄膜４・・
・磁気コア　　　　５・・・磁気コア半体６・・・磁気
ギャップ　　７・・・溶着ガラス石在敷コアのｑ−面図 第１１￥１ 月罠オｂ方の　ｇし目面 第３図 涼刀案ずＩｚ；ろ７フ・／フＲシＦ／）京兎明図第４図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 磁気ヘッドの磁気コア半体を切り出す磁性酸化物ピース
   の平坦な表面に一定角度の斜面を有する溝を形成する工
   程と、該溝の斜面を含む前記ピースの表面に真空薄膜形
   成法により磁性金属薄膜を成膜する工程を有し、前記成
   膜時に磁性金属粒子の入射方向は、前記ピース表面の平
   坦部分と前記溝の一定角度の斜面に対して前記粒子の入
   射角がほぼ等しくなるように設定することを特徴とする
   磁気ヘッドの製造方法。