JPS63213528A - トリメチルシリルメチルポリシランおよびその製造法 - Google Patents
トリメチルシリルメチルポリシランおよびその製造法Info
- Publication number
- JPS63213528A JPS63213528A JP4637687A JP4637687A JPS63213528A JP S63213528 A JPS63213528 A JP S63213528A JP 4637687 A JP4637687 A JP 4637687A JP 4637687 A JP4637687 A JP 4637687A JP S63213528 A JPS63213528 A JP S63213528A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- molecular weight
- trimethylsilylmethylpolysilane
- reaction
- polysilane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 6
- JZALIDSFNICAQX-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-trimethylsilylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(Cl)Cl JZALIDSFNICAQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 abstract description 15
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 2
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 dimethylphenylsilyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011232 storage material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、文献未載の新規化合物である式（式中、Ｍｅ
はメチル基を表わす） で示される繰り返し単位よりなり、重量平均分子量がｓ
、ｏｏｏ〜ｓｏｏ、ｏｏｏであるトリメチルシリルポリ
シラン（以下、ポリシラン■と称する）に関する発明、
および原料である式（２）Ｍ ａｓ Ｓ ｉ Ｓ ｉ
Ｍ ｅ ＣＪｌ ｍ （２）（式中、
Ｍｅは前記と同一の意味を表わす）で示される１、１−
ジクロロ−１，２，２，２−テトラメチルジシラン（以
下、ジシラン■と称する）を、アルカリ金属またはアル
カリ土類金属の存在下に縮合反応させることからなるポ
リシラン■の製造法に関する。
はメチル基を表わす） で示される繰り返し単位よりなり、重量平均分子量がｓ
、ｏｏｏ〜ｓｏｏ、ｏｏｏであるトリメチルシリルポリ
シラン（以下、ポリシラン■と称する）に関する発明、
および原料である式（２）Ｍ ａｓ Ｓ ｉ Ｓ ｉ
Ｍ ｅ ＣＪｌ ｍ （２）（式中、
Ｍｅは前記と同一の意味を表わす）で示される１、１−
ジクロロ−１，２，２，２−テトラメチルジシラン（以
下、ジシラン■と称する）を、アルカリ金属またはアル
カリ土類金属の存在下に縮合反応させることからなるポ
リシラン■の製造法に関する。
（従来技術）
従来、ポリシラン類としては、ジメチルジクロロシラン
と金属ナトリウムとをベンゼンまたはキシレン中で反応
させて式（３） （式中、Ｍｅは前記と同一の意味を表わす）で示される
繰り返し単位よりなる鎖状あるいは環状のジメチルポリ
シランを製造する方法〔ザ・ジャーナル・オブ・アメリ
カン・ケミカル・ソサＩティ （Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａ
ｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ ＣｈｅｍｉｃａｌＳｏｃ
ｉｅｔｙ）、第７１巻、第９．６３頁（１９４９年）、
ケミストリーｅレターズ（Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔ
ｔｅｒｓ）、第５５１頁（１９７６年）〕、あるいはジ
メチルジクロロシランとフェニルメチルジクロロシラン
とをアルカリ金属とともにキシレンまたはテトラヒドロ
フランなどの溶媒中で反応して、式（４）（式中、Ｘと
ｙの比率はｘ：ｙ＝１：３〜１：２０であり、２は１〜
１００の整数を、ｐｈおよびＭｅは前記と同一の意味を
表わす） で示されるフェニルメチルポリシランを得る方法（アメ
リカ特許第４，２６０，７８０号（１９８１年）〕が開
示されているほか、本出願人が先に出願した式で示され
る繰り返し単位よりなるジメチルフェニルシリルメチル
ポリシラン〔特願昭６１−１５７４１３号〕の如きポリ
シラン類が知られているだけである。
と金属ナトリウムとをベンゼンまたはキシレン中で反応
させて式（３） （式中、Ｍｅは前記と同一の意味を表わす）で示される
繰り返し単位よりなる鎖状あるいは環状のジメチルポリ
シランを製造する方法〔ザ・ジャーナル・オブ・アメリ
カン・ケミカル・ソサＩティ （Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａ
ｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ ＣｈｅｍｉｃａｌＳｏｃ
ｉｅｔｙ）、第７１巻、第９．６３頁（１９４９年）、
ケミストリーｅレターズ（Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔ
ｔｅｒｓ）、第５５１頁（１９７６年）〕、あるいはジ
メチルジクロロシランとフェニルメチルジクロロシラン
とをアルカリ金属とともにキシレンまたはテトラヒドロ
フランなどの溶媒中で反応して、式（４）（式中、Ｘと
ｙの比率はｘ：ｙ＝１：３〜１：２０であり、２は１〜
１００の整数を、ｐｈおよびＭｅは前記と同一の意味を
表わす） で示されるフェニルメチルポリシランを得る方法（アメ
リカ特許第４，２６０，７８０号（１９８１年）〕が開
示されているほか、本出願人が先に出願した式で示され
る繰り返し単位よりなるジメチルフェニルシリルメチル
ポリシラン〔特願昭６１−１５７４１３号〕の如きポリ
シラン類が知られているだけである。
（発明が解決すべき問題点）
従来のポリシラン類は、前述の式（３）、式（４）また
は式（５）で示されるように、ケイ素−ケイ素結合より
なる主鎖に置換基としてメチル基、フェニル基またはジ
メチルフェニルシリル基を導入したポリシランのみであ
り、本発明の如き置換基としてトリメチルシリル基を導
入したポリシランは見い出されていない。
は式（５）で示されるように、ケイ素−ケイ素結合より
なる主鎖に置換基としてメチル基、フェニル基またはジ
メチルフェニルシリル基を導入したポリシランのみであ
り、本発明の如き置換基としてトリメチルシリル基を導
入したポリシランは見い出されていない。
（問題を解決するための手段）
本発明者らは、ケイ素−ケイ素結合よりなる主鎖に置換
基としてトリメチルシリル基およびメチル基を導入した
ポリシランの製造法として式（２） ％式％（２） （式中、Ｍｅは前記と同一の意味を表わす）で示される
ジシラン■を出発原料とし、このジシラン■とアルカリ
金属またはアルカリ土類金属とを反応させることにより
１式（１）（式中、Ｍｅは前記と同一の意味を表わす）
で示される繰り返し単位よりなるポリシラン■が得られ
ることを見い兜し本発明を完成したものである。
基としてトリメチルシリル基およびメチル基を導入した
ポリシランの製造法として式（２） ％式％（２） （式中、Ｍｅは前記と同一の意味を表わす）で示される
ジシラン■を出発原料とし、このジシラン■とアルカリ
金属またはアルカリ土類金属とを反応させることにより
１式（１）（式中、Ｍｅは前記と同一の意味を表わす）
で示される繰り返し単位よりなるポリシラン■が得られ
ることを見い兜し本発明を完成したものである。
本発明製造法の原料であるジシラン■は１本出願人が今
回同時に出願した特許出願に記載した如く、塩化メチル
と金属ケイ素とからジクロロジメチルシランを合成する
際に副生ずるジシランと、ハロゲン化メチルマグネシウ
ムとを反応させることにより得られるものである。
回同時に出願した特許出願に記載した如く、塩化メチル
と金属ケイ素とからジクロロジメチルシランを合成する
際に副生ずるジシランと、ハロゲン化メチルマグネシウ
ムとを反応させることにより得られるものである。
また、本発明において用いるアルカリ金属としてはリチ
ウム、ナトリウム、カリウムなどが例示され、アルカリ
土類金属としてはマグネシラム、カルシウムなどが例示
されるが、特にリチウム、ナトリウム、マグネシウムが
好適である。
ウム、ナトリウム、カリウムなどが例示され、アルカリ
土類金属としてはマグネシラム、カルシウムなどが例示
されるが、特にリチウム、ナトリウム、マグネシウムが
好適である。
本発明のポリシラン■の製造法は、原料のジシラン■と
アルカリ金属またはアルカリ土類金属とを、非プロトン
性溶媒例えばｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、
トルエン、テトラヒドロフランなどの溶媒中で反応させ
る。この際、ジシラン■１当量に対してアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属は最少２当量必要であり、通常は
２〜３当量用いる０反応温度は０℃以上反応溶媒の沸点
以下で行い、反応途中で反応溶媒の沸点まで昇温させる
ことにより反応を完結させる０反応時間は使用する反応
溶媒や反応温度により多少変化するが、通常は１〜５時
間で反応は終了する０反応終了後、ポリシラン類の通常
の精製法、例えばベンゼン−アルコール系で再沈殿を繰
り返す等の手段により精製する。
アルカリ金属またはアルカリ土類金属とを、非プロトン
性溶媒例えばｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、
トルエン、テトラヒドロフランなどの溶媒中で反応させ
る。この際、ジシラン■１当量に対してアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属は最少２当量必要であり、通常は
２〜３当量用いる０反応温度は０℃以上反応溶媒の沸点
以下で行い、反応途中で反応溶媒の沸点まで昇温させる
ことにより反応を完結させる０反応時間は使用する反応
溶媒や反応温度により多少変化するが、通常は１〜５時
間で反応は終了する０反応終了後、ポリシラン類の通常
の精製法、例えばベンゼン−アルコール系で再沈殿を繰
り返す等の手段により精製する。
（効 果）
本発明は出発原料としてジシラン■を選択し。
アルカリ金属またはアルカリ土類金属とともに縮合反応
を行うことにより、ケイ素−ケイ素結合よりなる主鎖に
置換基としてトリメチルシリル基を導入したポリシラン
■を見い出したものであり１本発明で得られるポリシラ
ン■は、重量平均分子量（Ｍｙ）５，０００〜５００，
０００．分散度（’Ｍｙ／ｕｎ）１．７であり１分子量
分布が狭いという特徴をもつもので、電気伝導体、フォ
トレジスト、光情報記憶材料等としての機能を有する有
用な高分子化合物を提供するものである。
を行うことにより、ケイ素−ケイ素結合よりなる主鎖に
置換基としてトリメチルシリル基を導入したポリシラン
■を見い出したものであり１本発明で得られるポリシラ
ン■は、重量平均分子量（Ｍｙ）５，０００〜５００，
０００．分散度（’Ｍｙ／ｕｎ）１．７であり１分子量
分布が狭いという特徴をもつもので、電気伝導体、フォ
トレジスト、光情報記憶材料等としての機能を有する有
用な高分子化合物を提供するものである。
（実施例）
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例１
冷却管、滴下ロート、温度計および撹拌機を備えた１ａ
四つロフラスコをアルゴン置換した後に、トルエン３０
０ｇおよびナトリウム２３ｇ （１モル）を仕込み、撹
拌しなから１，１−ジクロロ−１，２゜２．２−テトラ
メチルジシラン９３．６ｇ（０，５モル）のトルエン溶
液を、反応温度を３０〜４０℃に保ちながら１時間を要
して滴下した１滴下終了後、徐徐に昇温し、還流下に３
時間反応する０反応終了後室温まで冷却し、副生じたナ
トリウム塩を炉別したのち、ろ液を濃縮してトルエンを
留去する。濃縮残にベンゼン３００ｍ Ｑを加え、撹拌
しながらメタノール１ａを加えたのち静置する。
四つロフラスコをアルゴン置換した後に、トルエン３０
０ｇおよびナトリウム２３ｇ （１モル）を仕込み、撹
拌しなから１，１−ジクロロ−１，２゜２．２−テトラ
メチルジシラン９３．６ｇ（０，５モル）のトルエン溶
液を、反応温度を３０〜４０℃に保ちながら１時間を要
して滴下した１滴下終了後、徐徐に昇温し、還流下に３
時間反応する０反応終了後室温まで冷却し、副生じたナ
トリウム塩を炉別したのち、ろ液を濃縮してトルエンを
留去する。濃縮残にベンゼン３００ｍ Ｑを加え、撹拌
しながらメタノール１ａを加えたのち静置する。
下層のポリシラン層を分取し、減圧下に残存する溶媒を
完全に除去して、粘稠液体のトリメチルシリルメチルポ
リシラン３３．７ ｇを得た。収率５８％。
完全に除去して、粘稠液体のトリメチルシリルメチルポ
リシラン３３．７ ｇを得た。収率５８％。
プロトン核磁気共鳴スペクトル（６０ＭＨｚ、ＣＣＱ
４）δｐｐｍ＝ Ｏ〜０．４４ （ブロード、 Ｓｉ−
Ｍｅ）赤外吸収スペクトル（Ｃｍ″″） ２９５０．２８９０，２０９０，１４００，１２４０，
１０７０紫外吸収スペクトル（ｎ■） λｗａｘ ２７５ ゲルパーミェーションクロマトグラフィー測定条件：カ
ラム圧力 ３５ｋｇ／ｃｍ”流明 １．１ｍｊ！／
ｗｉｎ カラム ＴＳＫ Ｇｅｌ ＧＭＨ６７，５ｍ＋ａ
Ｘ６０ｃ＋ａ 溶離剤 テトラヒドロフラン 重量平均分子量（Ｍｗ） ８０，０００実施例１
と同一の装置を用い、テトラヒドロフラン３００ｇおよ
びリチウム７ｇ（１モル）中に、１．１−ジクロロ−１
，２，２，２−テトラメチルジシラン９３．６ｇ（０，
５モル）のテトラヒドロフラン溶液を、反応温度を３０
〜５０℃に保ちながら１時間を要して滴下し、さらに昇
温しで還流下に３時間反応する０反応終了後、実施例１
と同様の処理を行い、粘稠液体のトリメチルシリルメチ
ルポリシラン４０ｇを得た。収率６８．８％。
４）δｐｐｍ＝ Ｏ〜０．４４ （ブロード、 Ｓｉ−
Ｍｅ）赤外吸収スペクトル（Ｃｍ″″） ２９５０．２８９０，２０９０，１４００，１２４０，
１０７０紫外吸収スペクトル（ｎ■） λｗａｘ ２７５ ゲルパーミェーションクロマトグラフィー測定条件：カ
ラム圧力 ３５ｋｇ／ｃｍ”流明 １．１ｍｊ！／
ｗｉｎ カラム ＴＳＫ Ｇｅｌ ＧＭＨ６７，５ｍ＋ａ
Ｘ６０ｃ＋ａ 溶離剤 テトラヒドロフラン 重量平均分子量（Ｍｗ） ８０，０００実施例１
と同一の装置を用い、テトラヒドロフラン３００ｇおよ
びリチウム７ｇ（１モル）中に、１．１−ジクロロ−１
，２，２，２−テトラメチルジシラン９３．６ｇ（０，
５モル）のテトラヒドロフラン溶液を、反応温度を３０
〜５０℃に保ちながら１時間を要して滴下し、さらに昇
温しで還流下に３時間反応する０反応終了後、実施例１
と同様の処理を行い、粘稠液体のトリメチルシリルメチ
ルポリシラン４０ｇを得た。収率６８．８％。
プロトン核磁気共鳴スペクトル（６０ＭＨｚ、ＣＣ１１
４）δｐｐｍ＝ Ｏ〜０．４４ （ブロード、 Ｓｉ−
Ｍｅ）赤外吸収スペクトル（ｃｍ−”） ２９５０、２８９０．２０９０．１４００．１２４０．
１０７０紫外吸収スペクトル（ｎｍ） λ−ａｘ ２７５ ゲルバーミエーシ目ンクロマトグラフィー重合平均分子
量（Ｍｙ） １６．ＯＯ。
４）δｐｐｍ＝ Ｏ〜０．４４ （ブロード、 Ｓｉ−
Ｍｅ）赤外吸収スペクトル（ｃｍ−”） ２９５０、２８９０．２０９０．１４００．１２４０．
１０７０紫外吸収スペクトル（ｎｍ） λ−ａｘ ２７５ ゲルバーミエーシ目ンクロマトグラフィー重合平均分子
量（Ｍｙ） １６．ＯＯ。
分散度（Ｍｗ／Ｍｎ） １．７測定条件は実施
例１と同じである。
例１と同じである。
特許出願人 有機合成薬品工業株式会社手続補正書
昭和６２年４月１７日
２、発明の名称
３、補正をする者
事件との関係 特許出願人
東京都中央区京橋二丁目１７番４号
有機合成薬品工業株式会社
代表者玉重雅雄
４、代理人
６、補正の内容′
（１）明細書第２頁下から第３〜２行「トリメチルシリ
ルポリシラン」を「トリメチルシリルメチルポリシラン
」と訂正する。
ルポリシラン」を「トリメチルシリルメチルポリシラン
」と訂正する。
（２）同第９頁下から第４行「流量」を「流量」と訂正
する。
する。
以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１） （式中、Ｍｅはメチル基を表わす） で示される繰り返し単位よりなり、重量平均分子量が５
，０００〜５００，０００であるトリメチルシリルメチ
ルポリシラン。 ２、式（２） Ｍｅ＿３ＳｉＳｉＭｅＣｌ＿２（２） （式中、Ｍｅはメチル基を表わす） で示される１，１−ジクロロ−１，２，２，２−テトラ
メチルジシランを、アルカリ金属またはアルカリ土類金
属の存在下に縮合反応させることを特徴とする式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１） （式中、Ｍｅは前記と同一の意味を表わす）で示される
繰り返し単位よりなり、重量平均分子量が５，０００〜
５００，０００であるトリメチルシリルメチルポリシラ
ンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4637687A JPH064700B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | トリメチルシリルメチルポリシランおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4637687A JPH064700B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | トリメチルシリルメチルポリシランおよびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63213528A true JPS63213528A (ja) | 1988-09-06 |
| JPH064700B2 JPH064700B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=12745428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4637687A Expired - Fee Related JPH064700B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | トリメチルシリルメチルポリシランおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH064700B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113429573A (zh) * | 2021-07-19 | 2021-09-24 | 王军 | 一种超声钠缩合制备聚二甲基硅烷的方法及聚二甲基硅烷 |
-
1987
- 1987-02-27 JP JP4637687A patent/JPH064700B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113429573A (zh) * | 2021-07-19 | 2021-09-24 | 王军 | 一种超声钠缩合制备聚二甲基硅烷的方法及聚二甲基硅烷 |
| CN113429573B (zh) * | 2021-07-19 | 2023-09-26 | 王军 | 一种超声钠缩合制备聚二甲基硅烷的方法及聚二甲基硅烷 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH064700B2 (ja) | 1994-01-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63309527A (ja) | 新規ポリシラザン及びその製造方法 | |
| JPS63309526A (ja) | 新規ポリシラザン及びその製造方法 | |
| JP2722916B2 (ja) | 両末端反応性ポリシラン及びその製造方法 | |
| JPS6312637A (ja) | １，２，２−トリメチル−１−フエニルポリジシランおよびその製造方法 | |
| JPS63213528A (ja) | トリメチルシリルメチルポリシランおよびその製造法 | |
| JPS6312636A (ja) | ジメチルフエニルシリルメチルポリシランおよびその製造法 | |
| JPS63267791A (ja) | 環状シルエチニルポリマーの製造方法 | |
| JP2542520B2 (ja) | １，２，２―トリメチル―１―アルキル―又は１，２，２―トリメチル―１―アルケニル―ポリジシラン及びその製法 | |
| JP3674205B2 (ja) | ポリシラン類の製造方法 | |
| JPH0424366B2 (ja) | ||
| JP2725535B2 (ja) | 両末端ヒドロポリシランの製造方法 | |
| JP2682324B2 (ja) | 両末端ヒドロキシポリシラン及びその製造方法 | |
| JPH01252637A (ja) | 有機金属高分子化合物の製造方法 | |
| JP3398266B2 (ja) | シラン化合物及びその製造方法 | |
| JP3631213B2 (ja) | 官能基を有するフェロセニレンシリレンポリマー及びその製造方法 | |
| JP2610519B2 (ja) | α，ω‐ジクロロオルガノポリシロキサンの製造法 | |
| JPH01141915A (ja) | ジメチルアルキル‐又はジメチルアルケニル‐シリルメチルポリシラン及びその製造法 | |
| JP4276805B2 (ja) | 新規シラザン化合物及びその製造方法、並びに新規シラザン化合物重合体及びその製造方法 | |
| JP2707688B2 (ja) | ポリシランカルボン酸化合物 | |
| JPH01170621A (ja) | ポリジシラン誘導体及びその製造方法 | |
| JPH0424365B2 (ja) | ||
| JPS62290729A (ja) | ジクロロシランのビス（クロロシリル）メタンとの共重合による生成物とその利用 | |
| JPH0761988A (ja) | ハロゲン化フタル酸官能性オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 | |
| JPH01170620A (ja) | ポリシラン誘導体及びその製造方法 | |
| JPH0547566B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |