JPH064700B2 - トリメチルシリルメチルポリシランおよびその製造法 - Google Patents
トリメチルシリルメチルポリシランおよびその製造法Info
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- JPH064700B2 JPH064700B2 JP4637687A JP4637687A JPH064700B2 JP H064700 B2 JPH064700 B2 JP H064700B2 JP 4637687 A JP4637687 A JP 4637687A JP 4637687 A JP4637687 A JP 4637687A JP H064700 B2 JPH064700 B2 JP H064700B2
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- polysilane
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- same
- trimethylsilylmethyl
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、文献未載の新規化合物である式（１） （式中、Meはメチル基を表わす） で示される繰り返し単位よりなり、重量平均分子量が50
00〜500000であるトリメチルシリルメチルポリシラン
（以下、ポリシランと称する）に関する発明、および
原料である式（２） Me3SiSiMeCl2 （２） （式中、Meは前記と同一の意味を表わす） で示される1,1−ジクロロ−1,2,2,2−テトラメチルジシ
ラン（以下、ジシランと称する）を、アルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属の存在下に縮合反応させることか
らなるポリシランの製造法に関する。
00〜500000であるトリメチルシリルメチルポリシラン
（以下、ポリシランと称する）に関する発明、および
原料である式（２） Me3SiSiMeCl2 （２） （式中、Meは前記と同一の意味を表わす） で示される1,1−ジクロロ−1,2,2,2−テトラメチルジシ
ラン（以下、ジシランと称する）を、アルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属の存在下に縮合反応させることか
らなるポリシランの製造法に関する。
（従来技術） 従来、ポリシラン類としては、ジメチルジクロロシラン
と金属ナトリウムとをベンゼンまたはキシレン中で反応
させて式（３） （式中、Meは前記と同一の意味を表わす） で示される繰り返し単位よりなる鎖状あるいは環状のジ
メチルポリシランを製造する方法〔ザ・ジャーナル・オ
ブ・アメリカン・ケミカル・ソサイティ（The Journal
of American Chemical Society）、第７１巻、第963頁
（1949年）ケミストリー・レターズ（Chemistry Letter
s）第551頁（1976年）〕、あるいはジメチルジクロロシ
ランとフェニルメチルジクロロシランとをアルカリ金属
とともにキシレンまたはテトラヒドロフランなどの溶媒
中で反応して、式(4) （式中、ｘとｙの比率はｘ：ｙ＝１：３〜１：20であ
り、ｚは１〜100の整数を、PhおよびMeは前記と同一の
意味を表わす） で示されるフェニルメチルポリシランを得る方法〔アメ
リカ特許第4260780号（1981年）〕が開示されているほ
か、本出願人が先に出願した式（５） で示される繰り返し単位よりなるジメチルフェニルシリ
ルメチルポリシラン〔特願昭61-157413号〕の如きポリ
シラン類が知られているだけである。
と金属ナトリウムとをベンゼンまたはキシレン中で反応
させて式（３） （式中、Meは前記と同一の意味を表わす） で示される繰り返し単位よりなる鎖状あるいは環状のジ
メチルポリシランを製造する方法〔ザ・ジャーナル・オ
ブ・アメリカン・ケミカル・ソサイティ（The Journal
of American Chemical Society）、第７１巻、第963頁
（1949年）ケミストリー・レターズ（Chemistry Letter
s）第551頁（1976年）〕、あるいはジメチルジクロロシ
ランとフェニルメチルジクロロシランとをアルカリ金属
とともにキシレンまたはテトラヒドロフランなどの溶媒
中で反応して、式(4) （式中、ｘとｙの比率はｘ：ｙ＝１：３〜１：20であ
り、ｚは１〜100の整数を、PhおよびMeは前記と同一の
意味を表わす） で示されるフェニルメチルポリシランを得る方法〔アメ
リカ特許第4260780号（1981年）〕が開示されているほ
か、本出願人が先に出願した式（５） で示される繰り返し単位よりなるジメチルフェニルシリ
ルメチルポリシラン〔特願昭61-157413号〕の如きポリ
シラン類が知られているだけである。
（発明が解決すべき問題点） 従来のポリシラン類は、前述の式（３）、式（４）また
は式（５）で示されるように、ケイ素−ケイ素結合より
なる主鎖に置換基としてメチル基、フェニル基またはジ
メチルフェニルシリル基を導入したポリシランのみであ
り、本発明の如き置換基としてトリメチルシリル基を導
入したポリシランは見い出されていない。
は式（５）で示されるように、ケイ素−ケイ素結合より
なる主鎖に置換基としてメチル基、フェニル基またはジ
メチルフェニルシリル基を導入したポリシランのみであ
り、本発明の如き置換基としてトリメチルシリル基を導
入したポリシランは見い出されていない。
（問題を解決するための手段） 本発明者らは、ケイ素−ケイ素結合よりなる主鎖に置換
基としてトリメチルシリル基およびメチル基を導入した
ポリシランの製造法として式（２） Me3SiSiMeCl2 （２） （式中、Meは前記と同一の意味を表わす） で示されるジシランを出発原料とし、このジシラン
とアルカリ金属またはアルカリ土類金属とを反応させる
ことにより、式（１） （式中、Meは前記と同一の意味を表わす） で示される繰り返し単位よりなるポリシランが得られ
ることを見い出し本発明を完成したものである。
基としてトリメチルシリル基およびメチル基を導入した
ポリシランの製造法として式（２） Me3SiSiMeCl2 （２） （式中、Meは前記と同一の意味を表わす） で示されるジシランを出発原料とし、このジシラン
とアルカリ金属またはアルカリ土類金属とを反応させる
ことにより、式（１） （式中、Meは前記と同一の意味を表わす） で示される繰り返し単位よりなるポリシランが得られ
ることを見い出し本発明を完成したものである。
本発明製造法の原料であるジシランは、本出願人が今
回同時に出願した特許出願に記載した如く、塩化メチル
と金属ケイ素とからジクロロジメチルシランを合成する
際に副生するジシランと、ハロゲン化メチルマグネシウ
ムとを反応させることにより得られるものである。
回同時に出願した特許出願に記載した如く、塩化メチル
と金属ケイ素とからジクロロジメチルシランを合成する
際に副生するジシランと、ハロゲン化メチルマグネシウ
ムとを反応させることにより得られるものである。
また、本発明において用いるアルカリ金属としてはリチ
ウム、ナトリウム、カリウムなどが例示され、アルカリ
土類金属としてはマグネシウム、カルシウムなどが例示
されるが、特にリチウム、ナトリウム、マグネシウムが
好適である。
ウム、ナトリウム、カリウムなどが例示され、アルカリ
土類金属としてはマグネシウム、カルシウムなどが例示
されるが、特にリチウム、ナトリウム、マグネシウムが
好適である。
本発明のポリシランの製造法は、原料のジシランと
アルカリ金属またはアルカリ土類金属とを、非プロトン
性溶媒例えばｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、
トルエン、テトラヒドロフランなどの溶媒中で反応させ
る。この際、ジシラン１当量に対してアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属は最少２当量必要であり、通常は
２〜３当量用いる。反応温度は０℃以上反応溶媒の沸点
以下で行い、反応途中で反応溶媒の沸点まで昇温させる
ことにより反応を完結させる。反応時間は使用する反応
溶媒や反応温度により多少変化するが、通常は１〜５時
間で反応は終了する。反応終了後、ポリシラン類の通常
の精製法、例えばベンゼン−アルコール系で再沈殿を繰
り返す等の手段により精製する。
アルカリ金属またはアルカリ土類金属とを、非プロトン
性溶媒例えばｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、
トルエン、テトラヒドロフランなどの溶媒中で反応させ
る。この際、ジシラン１当量に対してアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属は最少２当量必要であり、通常は
２〜３当量用いる。反応温度は０℃以上反応溶媒の沸点
以下で行い、反応途中で反応溶媒の沸点まで昇温させる
ことにより反応を完結させる。反応時間は使用する反応
溶媒や反応温度により多少変化するが、通常は１〜５時
間で反応は終了する。反応終了後、ポリシラン類の通常
の精製法、例えばベンゼン−アルコール系で再沈殿を繰
り返す等の手段により精製する。
（効果） 本発明は出発原料としてジシランを選択し、アルカリ
金属またはアルカリ土類金属とともに縮合反応を行うこ
とにより、ケイ素−ケイ素結合よりなる主鎖に置換基と
してトリメチルシリル基を導入したポリシランを見い
出したものであり、本発明で得られるポリシランは、
重量平均分子量(w)5000〜500000、分散度（w/n）
1.7であり、分子量分布が狭いという特徴をもつもの
で、電気伝導体、フォトレジスト、光情報記憶材料等と
しての機能を有する有用な高分子化合物を提供するもの
である。
金属またはアルカリ土類金属とともに縮合反応を行うこ
とにより、ケイ素−ケイ素結合よりなる主鎖に置換基と
してトリメチルシリル基を導入したポリシランを見い
出したものであり、本発明で得られるポリシランは、
重量平均分子量(w)5000〜500000、分散度（w/n）
1.7であり、分子量分布が狭いという特徴をもつもの
で、電気伝導体、フォトレジスト、光情報記憶材料等と
しての機能を有する有用な高分子化合物を提供するもの
である。
（実施例） 以下、実施例により本発明を説明する。
実施例１ 冷却管、滴下ロート、温度計および攪拌機を備えた１
四つ口フラスコをアルゴン置換した後に、トルエン300
ｇおよびナトリウム23ｇ（１モル）を仕込み、撹拌しな
がら1,1−ジクロロ−1,2,2,2−テトラメチルジシラン9
3.6ｇ（0.5モル）のトルエン溶液を、反応温度を30〜50
℃に保ちながら１時間を要して滴下した。滴下終了後、
徐々に昇温し、還流下に３時間反応する。反応終了後室
温まで冷却し、副生したナトリウム塩を別したのち、
液を濃縮してトルエンを留去する。濃縮残にベンゼン
300mlを加え、撹拌しながらメタノール１を加えたの
ち静置する。下層のポリシラン層を分取し、減圧下に残
存する溶媒を完全に除去して、粘稠液体のトリメチルシ
リルメチルポリシラン33.7ｇを得た。収率58％。
四つ口フラスコをアルゴン置換した後に、トルエン300
ｇおよびナトリウム23ｇ（１モル）を仕込み、撹拌しな
がら1,1−ジクロロ−1,2,2,2−テトラメチルジシラン9
3.6ｇ（0.5モル）のトルエン溶液を、反応温度を30〜50
℃に保ちながら１時間を要して滴下した。滴下終了後、
徐々に昇温し、還流下に３時間反応する。反応終了後室
温まで冷却し、副生したナトリウム塩を別したのち、
液を濃縮してトルエンを留去する。濃縮残にベンゼン
300mlを加え、撹拌しながらメタノール１を加えたの
ち静置する。下層のポリシラン層を分取し、減圧下に残
存する溶媒を完全に除去して、粘稠液体のトリメチルシ
リルメチルポリシラン33.7ｇを得た。収率58％。
プロトン核磁気共鳴スペクトル（60MHz,CCl4） δppm＝０〜0.44（ブロード，Si-Me） 赤外吸収スペクトル（cm-1） 2950,2890,2090,1400,1240,1070 紫外吸収スペクトル（nm） λmax 275 ゲルパーミエーションクロマトグラフィー 測定条件：カラム圧力 35kg／cm2 流量 1.1ml／min カラム TSK Gel GMH6 7.5mm×60cm 溶離剤 テトラヒドロフラン 重量平均分子量（ｗ） 80000 分散度 （ｗ／ｎ） 1.6 実施例２ 実施例１と同一の装置を用い、テトラヒドロフラン300
ｇおよびリチウム７ｇ（１モル）中に、1,1−ジクロロ
−1,2,2,2−テトラメチルジシラン93.6ｇ（0.5モル）の
テトラヒドロフラン溶液を、反応温度を30〜50℃に保ち
ながら１時間を要して滴下し、さらに昇温して還流下に
３時間反応する。反応終了後、実施例１と同様の処理を
行い、粘稠液体のトリメチルシリルメチルポリシラン40
ｇを得た。収率68.8％。
ｇおよびリチウム７ｇ（１モル）中に、1,1−ジクロロ
−1,2,2,2−テトラメチルジシラン93.6ｇ（0.5モル）の
テトラヒドロフラン溶液を、反応温度を30〜50℃に保ち
ながら１時間を要して滴下し、さらに昇温して還流下に
３時間反応する。反応終了後、実施例１と同様の処理を
行い、粘稠液体のトリメチルシリルメチルポリシラン40
ｇを得た。収率68.8％。
プロトン核磁気共鳴スペクトル（60MHz,CCl4） δppm＝０〜0.44（ブロード，Si-Me） 赤外吸収スペクトル（cm-1） 2950,2890,2090,1400,1240,1070 紫外吸収スペクトル（nm） λmax 275 ゲルパーミエーションクロマトグラフィー 重量平均分子量（ｗ） 16000 分散度（ｗ／ｎ） 1.7 測定条件は実施例１と同じである。
Claims (2)
- 【請求項１】式（１） （式中、Meはメチル基を表わす） で示される繰り返し単位よりなり、重量平均分子量が5,
000〜500,000であるトリメチルシリルメチルポリシラ
ン。 - 【請求項２】式（２） Me3SiSiMeCl2 （２） （式中、Meはメチル基を表わす） で示される1,1−ジクロロ−1,2,2,2−テトラメチルジシ
ランを、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の存在下
に縮合反応させることを特徴とする式（１） （式中、Meは前記と同一の意味を表わす） で示される繰り返し単位よりなり、重量平均分子量が5,
000〜500,000であるトリメチルシリルメチルポリシラン
の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4637687A JPH064700B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | トリメチルシリルメチルポリシランおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4637687A JPH064700B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | トリメチルシリルメチルポリシランおよびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63213528A JPS63213528A (ja) | 1988-09-06 |
| JPH064700B2 true JPH064700B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=12745428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4637687A Expired - Fee Related JPH064700B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | トリメチルシリルメチルポリシランおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH064700B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113429573B (zh) * | 2021-07-19 | 2023-09-26 | 王军 | 一种超声钠缩合制备聚二甲基硅烷的方法及聚二甲基硅烷 |
-
1987
- 1987-02-27 JP JP4637687A patent/JPH064700B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63213528A (ja) | 1988-09-06 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |