JPH05140173A - 有機ケイ素化合物及びその製造方法 - Google Patents
有機ケイ素化合物及びその製造方法Info
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- JPH05140173A JPH05140173A JP3331441A JP33144191A JPH05140173A JP H05140173 A JPH05140173 A JP H05140173A JP 3331441 A JP3331441 A JP 3331441A JP 33144191 A JP33144191 A JP 33144191A JP H05140173 A JPH05140173 A JP H05140173A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 一般式(3)で示されるジクロルシランと一
般式(4)で示されるシクロトリシロキサンとをプロト
ンを持たない極性溶媒の存在下で反応させて得られる一
般式(2)で示されるα,ω−ジクロルシロキサンをア
ルカリ金属と反応させることにより、一般式(1)で示
される有機ケイ素化合物を得る。 (ArはC6〜14の置換アリール基、R1〜R3はC1
〜6の1価炭化水素基を示す。) 【効果】 紫外領域に大きなUV吸収帯を持つ有機ケイ
素化合物を高収率、高純度で合成することができる。
般式(4)で示されるシクロトリシロキサンとをプロト
ンを持たない極性溶媒の存在下で反応させて得られる一
般式(2)で示されるα,ω−ジクロルシロキサンをア
ルカリ金属と反応させることにより、一般式(1)で示
される有機ケイ素化合物を得る。 (ArはC6〜14の置換アリール基、R1〜R3はC1
〜6の1価炭化水素基を示す。) 【効果】 紫外領域に大きなUV吸収帯を持つ有機ケイ
素化合物を高収率、高純度で合成することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フェニル基、トリル
基、ナフチル基等のアリール基と結合したSi−Si結
合を持つ環状の有機ケイ素化合物及びかかる有機ケイ素
化合物を得るための製造方法に関する。
基、ナフチル基等のアリール基と結合したSi−Si結
合を持つ環状の有機ケイ素化合物及びかかる有機ケイ素
化合物を得るための製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来か
ら、Si−Si結合をシロキサンの中に組み込むことで
シロキサンの反応性を高め、レジスト材等へ応用する試
みは、例えば「イシカワ,ジャーナルポリマーサイエン
ス,21,p657(1983)」で報告されているよ
うに種々行われているが、コントロールされた量のSi
−Si結合を高重合度のSi−OSi結合中に導入する
ことは困難であった。
ら、Si−Si結合をシロキサンの中に組み込むことで
シロキサンの反応性を高め、レジスト材等へ応用する試
みは、例えば「イシカワ,ジャーナルポリマーサイエン
ス,21,p657(1983)」で報告されているよ
うに種々行われているが、コントロールされた量のSi
−Si結合を高重合度のSi−OSi結合中に導入する
ことは困難であった。
【0003】また、シリコーン工業においては高分子量
のポリシロキサンを得るため、オクタメチルシクロテト
ラシロキサン等の環状シロキサンを酸又はアルカリ触媒
により開環重合する方法が採用されているが、この場合
Si−Si結合を持つシロキサンを高収率、高純度で得
る方法があれば、コントロールされた量のSi−Si結
合をポリシロキサン中に導入することができる。しか
し、従来法では十分満足し得る方法でSi−Si結合を
持つシロキサンを得ることが困難であった。
のポリシロキサンを得るため、オクタメチルシクロテト
ラシロキサン等の環状シロキサンを酸又はアルカリ触媒
により開環重合する方法が採用されているが、この場合
Si−Si結合を持つシロキサンを高収率、高純度で得
る方法があれば、コントロールされた量のSi−Si結
合をポリシロキサン中に導入することができる。しか
し、従来法では十分満足し得る方法でSi−Si結合を
持つシロキサンを得ることが困難であった。
【0004】例えばSi−Si結合を持つポリシロキサ
ンの合成方法として、従来、「ウー,ジャーナル ケミ
カル エンジニアリング データー,18(3),p3
50(1973)」にはシラノールとクロルシランの縮
合により合成する方法が報告されており、「ウエスト,
オーガノメタリックス,2(12),p1801(19
83)」にはポリシランの酸化により合成する方法が報
告されており、「ウェーバー,ジヤーナル オーガノメ
タリック ケミストリー,133(2)C17(197
7)」にはシリレンをシロキサンに導入することにより
合成する方法が報告されているが、これらの方法は原料
の入手が困難であったり、生成物の収量が低かったりし
て、決して工業的に利用できる製造方法ではなかった。
ンの合成方法として、従来、「ウー,ジャーナル ケミ
カル エンジニアリング データー,18(3),p3
50(1973)」にはシラノールとクロルシランの縮
合により合成する方法が報告されており、「ウエスト,
オーガノメタリックス,2(12),p1801(19
83)」にはポリシランの酸化により合成する方法が報
告されており、「ウェーバー,ジヤーナル オーガノメ
タリック ケミストリー,133(2)C17(197
7)」にはシリレンをシロキサンに導入することにより
合成する方法が報告されているが、これらの方法は原料
の入手が困難であったり、生成物の収量が低かったりし
て、決して工業的に利用できる製造方法ではなかった。
【0005】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
フェニル基、トリル基、ナフチル基等の非置換又は置換
アリール基と結合したSi−Si結合を有する環状シロ
キサン(有機ケイ素化合物)及びこれを高収率、高純度
で得ることができる該有機ケイ素化合物の製造方法を提
供することを目的とする。
フェニル基、トリル基、ナフチル基等の非置換又は置換
アリール基と結合したSi−Si結合を有する環状シロ
キサン(有機ケイ素化合物)及びこれを高収率、高純度
で得ることができる該有機ケイ素化合物の製造方法を提
供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は上記
目的を達成するため鋭意検討を行った結果、例えば下記
式(3)で示されるジクロルシランと下記式(4)で示
されるシクロトリシロキサンとをプロトンを持たない極
性溶媒の存在下で反応させるなどして得られる下記式
(2)で示されるα,ω−ジクロルシロキサンをアルカ
リ金属と反応させた場合、下記式(1)で示される環状
の有機ケイ素化合物を高収率、高純度で合成できること
を見い出した。また、得られた式(1)の有機ケイ素化
合物はλ=260〜230nmの領域に大きな紫外吸収
帯を持つので光反応性官能基として利用することがで
き、また、環状シロキサンと共重合することにより、コ
ントロールされた量のSi−Si結合をポリシロキサン
中に導入することができるのでレジスト材等の光反応性
材料の原料とすることができ、更に、下記反応式(5)
で示されるようにPd錯体等の触媒の存在下にArC≡
CHと反応させることによりSi−Si結合が容易に反
応し、新しい環状シロキサンを合成することができるこ
とを知見し、本発明をなすに至った。
目的を達成するため鋭意検討を行った結果、例えば下記
式(3)で示されるジクロルシランと下記式(4)で示
されるシクロトリシロキサンとをプロトンを持たない極
性溶媒の存在下で反応させるなどして得られる下記式
(2)で示されるα,ω−ジクロルシロキサンをアルカ
リ金属と反応させた場合、下記式(1)で示される環状
の有機ケイ素化合物を高収率、高純度で合成できること
を見い出した。また、得られた式(1)の有機ケイ素化
合物はλ=260〜230nmの領域に大きな紫外吸収
帯を持つので光反応性官能基として利用することがで
き、また、環状シロキサンと共重合することにより、コ
ントロールされた量のSi−Si結合をポリシロキサン
中に導入することができるのでレジスト材等の光反応性
材料の原料とすることができ、更に、下記反応式(5)
で示されるようにPd錯体等の触媒の存在下にArC≡
CHと反応させることによりSi−Si結合が容易に反
応し、新しい環状シロキサンを合成することができるこ
とを知見し、本発明をなすに至った。
【0007】
【化4】 (但し、Arは炭素数6〜14の非置換又は置換アリー
ル基、R1,R2,R3はそれぞれ互いに同一又は異種の
炭素数1〜6の1価炭化水素基を示す。)
ル基、R1,R2,R3はそれぞれ互いに同一又は異種の
炭素数1〜6の1価炭化水素基を示す。)
【0008】
【化5】 (但し、Meはメチル基を示し、Arは上記と同様の意
味を示す。)
味を示す。)
【0009】従って、本発明は上記一般式(1)で示さ
れる有機ケイ素化合物、及び、上記一般式(2)で示さ
れるα,ω−ジクロルシロキサンをアルカリ金属と反応
させることを特徴とする上記一般式(1)で示される有
機ケイ素化合物の製造方法を提供する。
れる有機ケイ素化合物、及び、上記一般式(2)で示さ
れるα,ω−ジクロルシロキサンをアルカリ金属と反応
させることを特徴とする上記一般式(1)で示される有
機ケイ素化合物の製造方法を提供する。
【0010】以下、本発明を更に詳しく説明すると、本
発明の有機ケイ素化合物は下記式(1)で示されるもの
である。
発明の有機ケイ素化合物は下記式(1)で示されるもの
である。
【0011】
【化6】
【0012】ここで、Arは炭素数6〜14の非置換又
は置換アリール基を表し、具体的にはフェニル基,トリ
ル基,ナフチル基などが挙げられ、このうちフェニル基
が特に好ましい。また、R1,R2,R3は炭素数1〜6
の同一又は異種の1価炭化水素基であり、具体的にはメ
チル基,エチル基,プロピル基等のアルキル基、フェニ
ル基などを挙げることができる。
は置換アリール基を表し、具体的にはフェニル基,トリ
ル基,ナフチル基などが挙げられ、このうちフェニル基
が特に好ましい。また、R1,R2,R3は炭素数1〜6
の同一又は異種の1価炭化水素基であり、具体的にはメ
チル基,エチル基,プロピル基等のアルキル基、フェニ
ル基などを挙げることができる。
【0013】このような化合物としては、具体的に下記
のものが挙げられる。
のものが挙げられる。
【0014】
【化7】 (但し、Meはメチル基、Phはフェニル基を示す。)
【0015】上記式(1)の化合物は、下記式(2)で
示されるα,ω−ジクロルシロキサンとアルカリ金属と
を脱塩素反応により合成することができる。
示されるα,ω−ジクロルシロキサンとアルカリ金属と
を脱塩素反応により合成することができる。
【0016】
【化8】
【0017】この場合、アルカリ金属としては、ナトリ
ウム、リチウムが特に好適に用いられ、使用量は式
(2)の化合物1モルに対して2〜2.5モルとするこ
とが好ましい。なお、ナトリウムを用いる場合は、トル
エン,キシレン,ドデカン等の無極性溶媒の存在下で8
0〜180℃、好ましくは溶媒の還流温度で1〜8時間
かけて合成することができる。また、リチウムを用いる
場合は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等の極
性溶媒を用い、−75〜40℃、好ましくは室温付近で
1〜8時間かけて反応させることにより合成することが
できるが、いずれの場合も反応は窒素ガス等の不活性ガ
ス中で行うことが好ましい。
ウム、リチウムが特に好適に用いられ、使用量は式
(2)の化合物1モルに対して2〜2.5モルとするこ
とが好ましい。なお、ナトリウムを用いる場合は、トル
エン,キシレン,ドデカン等の無極性溶媒の存在下で8
0〜180℃、好ましくは溶媒の還流温度で1〜8時間
かけて合成することができる。また、リチウムを用いる
場合は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等の極
性溶媒を用い、−75〜40℃、好ましくは室温付近で
1〜8時間かけて反応させることにより合成することが
できるが、いずれの場合も反応は窒素ガス等の不活性ガ
ス中で行うことが好ましい。
【0018】ここで、上記式(2)のα,ω−ジクロル
シロキサンは、式(3)のジクロルシランと式(4)の
シクロトリシロキサンとをプロトンを持たない極性溶媒
の存在下に反応させることにより、容易に得ることがで
きる。この場合、式(3)で示されるジクロルシランや
式(4)で示されるシクロトリシロキサンは1種を単独
で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
シロキサンは、式(3)のジクロルシランと式(4)の
シクロトリシロキサンとをプロトンを持たない極性溶媒
の存在下に反応させることにより、容易に得ることがで
きる。この場合、式(3)で示されるジクロルシランや
式(4)で示されるシクロトリシロキサンは1種を単独
で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
【0019】
【化9】
【0020】上記式(3)で示されるクロルシランと上
記式(4)で示されるシクロトリシロキサンとは同当量
を反応させることが好ましい。また、反応条件は0〜5
0℃で0.1〜3時間、特に25℃で0.5時間とする
ことが好ましい。この場合、反応温度が高すぎると平衡
化反応によりSiの数が4つの化合物以外にSiの数が
3つ及び5つ以上のα,ω−ジクロルシロキサンが生成
するので望ましくない。
記式(4)で示されるシクロトリシロキサンとは同当量
を反応させることが好ましい。また、反応条件は0〜5
0℃で0.1〜3時間、特に25℃で0.5時間とする
ことが好ましい。この場合、反応温度が高すぎると平衡
化反応によりSiの数が4つの化合物以外にSiの数が
3つ及び5つ以上のα,ω−ジクロルシロキサンが生成
するので望ましくない。
【0021】この反応においては、上述したようにプロ
トンを持たない極性溶媒を触媒として用いるが、このよ
うな極性溶媒としてはHMPA(ヘキサメチルホスホリ
ックトリアミド),DMSO(ジメチルスルホキシ
ド),DMF(ジメチルホルムアミド)などが挙げられ
る。この極性溶媒の添加量は上記式(3)で示されるジ
クロルシランと上記式(4)で示されるシクロシロキサ
ンの合計量の0.01〜10%(重量%、以下同じ)、
特に0.1〜2%とすることが好ましい。添加量が0.
01%未満では反応が完了するのに長時間を必要とする
場合があり、10%を超えると生成物に極性溶媒が混入
し分離が困難となる場合がある。
トンを持たない極性溶媒を触媒として用いるが、このよ
うな極性溶媒としてはHMPA(ヘキサメチルホスホリ
ックトリアミド),DMSO(ジメチルスルホキシ
ド),DMF(ジメチルホルムアミド)などが挙げられ
る。この極性溶媒の添加量は上記式(3)で示されるジ
クロルシランと上記式(4)で示されるシクロシロキサ
ンの合計量の0.01〜10%(重量%、以下同じ)、
特に0.1〜2%とすることが好ましい。添加量が0.
01%未満では反応が完了するのに長時間を必要とする
場合があり、10%を超えると生成物に極性溶媒が混入
し分離が困難となる場合がある。
【0022】以上のようにして得られる式(1)の化合
物は、λ=260〜230nmの領域に大きな紫外吸収
帯を持ち、光反応性官能基として利用でき、また環状シ
ロキサンと共重合させることにより、ポリシロキサン中
にコントロールされた量のSi−Si結合を導入するこ
とができ、このため光反応性材料の原料として非常に有
用である。
物は、λ=260〜230nmの領域に大きな紫外吸収
帯を持ち、光反応性官能基として利用でき、また環状シ
ロキサンと共重合させることにより、ポリシロキサン中
にコントロールされた量のSi−Si結合を導入するこ
とができ、このため光反応性材料の原料として非常に有
用である。
【0023】また、この式(1)の化合物を出発原料と
し、アセチレン化合物とPd錯体触媒の存在下で反応さ
せることにより、Ar基(Arは上記と同様の意味を示
す)と炭素−炭素二重結合を持った環状シロキサンを合
成でき、この環状シロキサンはモノマー原料として環状
シロキサンと共重合させることで、ポリシロキサン化合
物に架橋に利用できる炭素−炭素二重結合を持つ−Si
−O−Si−結合を導入することができる。
し、アセチレン化合物とPd錯体触媒の存在下で反応さ
せることにより、Ar基(Arは上記と同様の意味を示
す)と炭素−炭素二重結合を持った環状シロキサンを合
成でき、この環状シロキサンはモノマー原料として環状
シロキサンと共重合させることで、ポリシロキサン化合
物に架橋に利用できる炭素−炭素二重結合を持つ−Si
−O−Si−結合を導入することができる。
【0024】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。なお、下記例でMeはメチル基、Phはフ
ェニル基を示。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。なお、下記例でMeはメチル基、Phはフ
ェニル基を示。
【0025】[実施例]ヘキサメチルシクロトリシロキ
サン11.1g(50ミリモル)、フェニルメチルジク
ロロシラン9.5g(50ミリモル)を50mlのナス
フラスコに仕込み、これに触媒としてHMPA0.2g
(1%)を加え、室温で0.5時間撹拌した。反応混合
物を蒸留ポットに移し、2mmHgの減圧で100〜1
04℃の留分を集めたところ、18.8g(収率91
%)のα,ω−ジクロルシロキサンが得られた。なお、
この反応を下記反応式(6)に示す。
サン11.1g(50ミリモル)、フェニルメチルジク
ロロシラン9.5g(50ミリモル)を50mlのナス
フラスコに仕込み、これに触媒としてHMPA0.2g
(1%)を加え、室温で0.5時間撹拌した。反応混合
物を蒸留ポットに移し、2mmHgの減圧で100〜1
04℃の留分を集めたところ、18.8g(収率91
%)のα,ω−ジクロルシロキサンが得られた。なお、
この反応を下記反応式(6)に示す。
【0026】
【化10】
【0027】次に、100mlの3つ口フラスコにキシ
レン20ml、金属ナトリウム0.48g(21ミリモ
ル)を入れ、窒素ガスを流した。加熱還流下に十分撹拌
しながら上記の合成で得られたα,ω−ジクロルシロキ
サン4.13g(10ミリモル)を滴下した。この滴下
により発熱反応が起こり、金属ナトリウムが消費され
た。
レン20ml、金属ナトリウム0.48g(21ミリモ
ル)を入れ、窒素ガスを流した。加熱還流下に十分撹拌
しながら上記の合成で得られたα,ω−ジクロルシロキ
サン4.13g(10ミリモル)を滴下した。この滴下
により発熱反応が起こり、金属ナトリウムが消費され
た。
【0028】3時間還流した後、反応混合液中に水1m
lを添加し、更にトルエン50ml、水100ml加え
て水洗した。水洗後、有機層を分離し、硫酸マグネシウ
ムで脱水した。塩を瀘過した後、減圧蒸留でトルエン、
キシレンを除き、最後に2mmHgで80〜120℃の
留分を集め、Ph−Si−Si結合を持つ下記式(7)
で示される環状シロキサン2.6g(収率75%)を得
た。
lを添加し、更にトルエン50ml、水100ml加え
て水洗した。水洗後、有機層を分離し、硫酸マグネシウ
ムで脱水した。塩を瀘過した後、減圧蒸留でトルエン、
キシレンを除き、最後に2mmHgで80〜120℃の
留分を集め、Ph−Si−Si結合を持つ下記式(7)
で示される環状シロキサン2.6g(収率75%)を得
た。
【0029】また、蒸留残分として、下記式(8)で示
されるポリマー0.68g(収率20%)を得た。下記
式(7)で示される環状シロキサンのUVスペクトルを
図1にAで示し、NMRスペクトルを図3に示し、IR
スペクトルを図4に示す。また、下記式(8)で示され
るポリマーのUVスペクトルを図2にBで示す。
されるポリマー0.68g(収率20%)を得た。下記
式(7)で示される環状シロキサンのUVスペクトルを
図1にAで示し、NMRスペクトルを図3に示し、IR
スペクトルを図4に示す。また、下記式(8)で示され
るポリマーのUVスペクトルを図2にBで示す。
【0030】
【化11】
【0031】[比較例1]フェニルジクロルシランの代
わりにジメチルジクロルシラン6.4gを用いた以外は
実施例と同様に操作し、下記反応式(9)で示される反
応によりα,ω−ジクロルシロキサンを得た。
わりにジメチルジクロルシラン6.4gを用いた以外は
実施例と同様に操作し、下記反応式(9)で示される反
応によりα,ω−ジクロルシロキサンを得た。
【0032】
【化12】
【0033】次いで、実施例と同様に金属ナトリウムと
キシレンとの混合物中に上記反応で得られたα,ω−ジ
クロルシランを滴下したが、発熱はみられなかった。次
いで、3時間加熱還流を行ったが、少量のナトリウムし
か反応していなかった。反応混合物をガスクロマトグラ
フィーで分析したところ、一部未反応のα,ω−ジクロ
ルシロキサンも残っており、Si−Si結合を持つ環状
シロキサンはほとんど生成していなかった。
キシレンとの混合物中に上記反応で得られたα,ω−ジ
クロルシランを滴下したが、発熱はみられなかった。次
いで、3時間加熱還流を行ったが、少量のナトリウムし
か反応していなかった。反応混合物をガスクロマトグラ
フィーで分析したところ、一部未反応のα,ω−ジクロ
ルシロキサンも残っており、Si−Si結合を持つ環状
シロキサンはほとんど生成していなかった。
【0034】反応液中のナトリウムを瀘過によって除
き、次いでα,ω−ジクロルシロキサンを減圧蒸留で除
いた残りのキシレン溶液を水洗後、MgSO4で乾燥
後、ストリップでフェニル基を持たないSi−Si結合
を含むシロキサンポリマー0.72g(収率25%)を
得た。この反応を下記反応式(10)に示す。また、こ
のシロキサンポリマーのUVスペクトルを図2にCで示
す。
き、次いでα,ω−ジクロルシロキサンを減圧蒸留で除
いた残りのキシレン溶液を水洗後、MgSO4で乾燥
後、ストリップでフェニル基を持たないSi−Si結合
を含むシロキサンポリマー0.72g(収率25%)を
得た。この反応を下記反応式(10)に示す。また、こ
のシロキサンポリマーのUVスペクトルを図2にCで示
す。
【0035】
【化13】
【0036】[比較例2]実施例で得られたα,ω−ジ
クロルシロキサン5gをジエチルエーテル15mlに溶
解し、この混合物を水中に添加して加水分解させた。得
られたエーテル層を水洗、乾燥後、減圧蒸留でPh−S
i結合を持ち、Si−Si結合を持たない環状シロキサ
ンを得た。この反応を下記反応式(11)に示す。ま
た、得られた環状シロキサンのUVスペクトルを図1に
Dで示す。
クロルシロキサン5gをジエチルエーテル15mlに溶
解し、この混合物を水中に添加して加水分解させた。得
られたエーテル層を水洗、乾燥後、減圧蒸留でPh−S
i結合を持ち、Si−Si結合を持たない環状シロキサ
ンを得た。この反応を下記反応式(11)に示す。ま
た、得られた環状シロキサンのUVスペクトルを図1に
Dで示す。
【0037】
【化14】
【0038】次に、参考例として本発明にかかる環状シ
ロキサンを用いた新たな環状シロキサンの合成方法につ
いて説明する。
ロキサンを用いた新たな環状シロキサンの合成方法につ
いて説明する。
【0039】[参考例]ナスフラスコに実施例で得られ
た式(7)で示される環状シロキサン0.342g(1
ミリモル)、フェニルアセチレン0.302g(2ミリ
モル)を入れ、アルゴン置換後、PdCl2(CH3C
N)22.6mg(0.01ミリモル)、P(OCH2)
3CC2H53.2mg(0.02ミリモル)を加え、再
度アルゴン置換し、次に窒素気流下、120℃で1.5
時間反応させた。ガスクロマトグラフィーによると、上
記環状シロキサンはすべて消費されていた。
た式(7)で示される環状シロキサン0.342g(1
ミリモル)、フェニルアセチレン0.302g(2ミリ
モル)を入れ、アルゴン置換後、PdCl2(CH3C
N)22.6mg(0.01ミリモル)、P(OCH2)
3CC2H53.2mg(0.02ミリモル)を加え、再
度アルゴン置換し、次に窒素気流下、120℃で1.5
時間反応させた。ガスクロマトグラフィーによると、上
記環状シロキサンはすべて消費されていた。
【0040】次いで減圧蒸留したところ、下記反応式
(12)に示されるようにSi−Si結合間にアセチレ
ンが挿入された2種の化合物が合計量で0.30g
(0.68ミリモル)得られた。収率は68%であっ
た。この生成物のNMRスペクトルを図5に、赤外スペ
クトルを図6に示す。
(12)に示されるようにSi−Si結合間にアセチレ
ンが挿入された2種の化合物が合計量で0.30g
(0.68ミリモル)得られた。収率は68%であっ
た。この生成物のNMRスペクトルを図5に、赤外スペ
クトルを図6に示す。
【0041】
【化15】
【0042】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、アリール基
と結合した紫外領域に大きなUV吸収帯を持つSi−S
i結合を持つ有機ケイ素化合物を高収率、高純度で合成
することができ、得られた新規有機ケイ素化合物を環状
シロキサンなどと共重合することにより所定量のSi−
Si結合を種々のポリマーに導入することができる。
と結合した紫外領域に大きなUV吸収帯を持つSi−S
i結合を持つ有機ケイ素化合物を高収率、高純度で合成
することができ、得られた新規有機ケイ素化合物を環状
シロキサンなどと共重合することにより所定量のSi−
Si結合を種々のポリマーに導入することができる。
【図1】本発明の実施例及び比較例2で得られた有機ケ
イ素化合物の紫外吸収スペクトルのチャートである。
イ素化合物の紫外吸収スペクトルのチャートである。
【図2】本発明の実施例及び比較例1で得られた有機ケ
イ素化合物の紫外吸収スペクトルのチャートである。
イ素化合物の紫外吸収スペクトルのチャートである。
【図3】本発明の実施例で得られた有機ケイ素化合物の
NMRスペクトルのチャートである。
NMRスペクトルのチャートである。
【図4】本発明の実施例で得られた有機ケイ素化合物の
赤外スペクトルのチャートである。
赤外スペクトルのチャートである。
【図5】本発明の参考例で得られた有機ケイ素化合物の
NMRスペクトルのチャートである。
NMRスペクトルのチャートである。
【図6】本発明の参考例で得られた有機ケイ素化合物の
赤外スペクトルのチャートである。
赤外スペクトルのチャートである。
Claims (3)
- 【請求項1】 下記一般式(1)で示される有機ケイ素
化合物。 【化1】 (式中、Arは炭素数6〜14の非置換又は置換アリー
ル基、R1,R2,R3はそれぞれ炭素数1〜6の同一又
は異種の1価炭化水素基を表す。) - 【請求項2】 下記一般式(2)で示されるα,ω−ジ
クロルシロキサンをアルカリ金属と反応させることを特
徴とする請求項1記載の式(1)で示される有機ケイ素
化合物の製造方法。 【化2】 (式中、Arは炭素数6〜14の非置換又は置換アリー
ル基、R1,R2,R3はそれぞれ炭素数1〜6の同一又
は異種の1価炭化水素基を表す。) - 【請求項3】 上記一般式(2)のα,ω−ジクロルシ
ロキサンが、下記一般式(3)で示されるジクロルシラ
ンと下記一般式(4)で示されるシクロトリシロキサン
とをプロトンを持たない極性溶媒の存在下に反応させる
ことにより得られたものである請求項2記載の製造方
法。 【化3】 (式中、Ar,R1,R2,R3は上記と同様の意味を示
す。)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3331441A JP2541060B2 (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 有機ケイ素化合物の製造方法 |
US07/978,543 US5233068A (en) | 1991-11-20 | 1992-11-19 | Organic silicon compounds and method for making |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3331441A JP2541060B2 (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 有機ケイ素化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05140173A true JPH05140173A (ja) | 1993-06-08 |
JP2541060B2 JP2541060B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=18243698
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3331441A Expired - Fee Related JP2541060B2 (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 有機ケイ素化合物の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5233068A (ja) |
JP (1) | JP2541060B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08157487A (ja) * | 1994-12-02 | 1996-06-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シクロテトラシロキサンの製造方法 |
JP2013519615A (ja) * | 2010-02-15 | 2013-05-30 | ユニベルシテ デ―マルセイユ | ホスフィンオキシド触媒を用いた、水素キャリアとしてのシリル化誘導体からの水素の製造方法 |
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---|---|---|---|---|
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GB1087595A (en) * | 1964-12-14 | 1967-10-18 | Gen Electric | Improvements in cyclic organosilicon compounds |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3165494A (en) * | 1960-12-28 | 1965-01-12 | Union Carbide Corp | Organosiloxane compositions containing alkoxydisilanes as room temperature cross-linking agents |
US4626583A (en) * | 1985-07-11 | 1986-12-02 | Petrarch Systems Inc. | Polysilane-siloxane oligomers and copolymers and methods of making the same |
US4962174A (en) * | 1990-01-18 | 1990-10-09 | Dow Corning Corporation | Preparation of alkoxysilethylene endblocked polydiorganosiloxane |
-
1991
- 1991-11-20 JP JP3331441A patent/JP2541060B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-11-19 US US07/978,543 patent/US5233068A/en not_active Expired - Fee Related
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JP2013519615A (ja) * | 2010-02-15 | 2013-05-30 | ユニベルシテ デ―マルセイユ | ホスフィンオキシド触媒を用いた、水素キャリアとしてのシリル化誘導体からの水素の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5233068A (en) | 1993-08-03 |
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