JPS632124B2 - - Google Patents
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- JPS632124B2 JPS632124B2 JP56181453A JP18145381A JPS632124B2 JP S632124 B2 JPS632124 B2 JP S632124B2 JP 56181453 A JP56181453 A JP 56181453A JP 18145381 A JP18145381 A JP 18145381A JP S632124 B2 JPS632124 B2 JP S632124B2
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- magnetic
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/14—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing iron or nickel
- H01F10/142—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing iron or nickel containing Si
- H01F10/145—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing iron or nickel containing Si containing Al, e.g. SENDUST
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
本発明は薄膜磁気ヘツド、あるいはインダクタ
ンス素子用などに用いられる磁性薄膜材料あるい
はその他磁性薄膜を必要とする部品等に使用され
る磁性薄膜材料に関するものである。 Al―Si―Fe合金で透磁率が非常に大きくなる
組成があることはよく知られており、硬くてもろ
い性質をもつているが磁気ヘツドあるいはダスト
コア等に使用されている。 しかし部品の小型化、磁気記録における高密度
化記録の要求、あるいは金属材料特有の電気伝導
度が高いことに起因し、表皮効果があり高い周波
数では透磁率が減少すること、などから近年薄膜
材料が要求されている。薄膜の製造方法としては
スパツタ法、真空蒸着法、メツキ法、イオンプレ
ーテイング法などがよく知られている。 本発明は上記製造方法などの薄膜製造法により
得ることの出来るすぐれた特性をもつた金属磁性
薄膜を提供することを目的とするものである。 本発明はAl―Si―Fe合金に重量比で0.01％〜
2.0％の白金属元素とａ属の１種もしくは２種
以上を副成分として含む合金薄膜を製造すること
により磁気特性、耐食性、耐摩耗性が優れ基板と
なじみを良くし、薄膜の諸特性を著しく向上させ
たものである。 本発明においてSi、Al量は磁気特性との関係
から実用上使用可能な範囲、すなわち４〜12％
Si、３〜10％Alを選んだ。また副成分である白
金属元素およびａ属元素の含有量については、
白金属元素が２％を越えたり、またはａ属元素
が５％を越えたりすると、磁気特性が著しく劣る
ので、夫々２％および５％を上限とする。一方、
白金属元素、およびａ属元素の含有量が0.01％
未満の場合には、これら元素の添加含有による耐
食性、耐摩耗性、基板との密着性等の改善効果が
少ないため上記範囲であることが望ましい。 以下、本発明を実施例により詳述する。 実施例 所定の成分比となるようにAl、Si、Feおよび
白金属元素の原料を配合し、高周波真空炉で溶解
し母合金を作成した。得られた母合金から60〜
100φの円板を切り出しスパツタ用ターゲツトを
作成した。２×10-3TorrのArガス雰囲気中でス
パツタをし磁性薄膜を作成した。基板としてはガ
ラスあるいは非磁性ステンレス、非磁性フエライ
トなどを用いた。スパツタ速度は20μ／ｈであつ
た。得られた薄膜の厚さは10μmで必要に応じて
熱処理をし、磁気特性、耐食性、耐摩耗性、基板
との接着強度などを測定した。その結果を第１表
に示す。
ンス素子用などに用いられる磁性薄膜材料あるい
はその他磁性薄膜を必要とする部品等に使用され
る磁性薄膜材料に関するものである。 Al―Si―Fe合金で透磁率が非常に大きくなる
組成があることはよく知られており、硬くてもろ
い性質をもつているが磁気ヘツドあるいはダスト
コア等に使用されている。 しかし部品の小型化、磁気記録における高密度
化記録の要求、あるいは金属材料特有の電気伝導
度が高いことに起因し、表皮効果があり高い周波
数では透磁率が減少すること、などから近年薄膜
材料が要求されている。薄膜の製造方法としては
スパツタ法、真空蒸着法、メツキ法、イオンプレ
ーテイング法などがよく知られている。 本発明は上記製造方法などの薄膜製造法により
得ることの出来るすぐれた特性をもつた金属磁性
薄膜を提供することを目的とするものである。 本発明はAl―Si―Fe合金に重量比で0.01％〜
2.0％の白金属元素とａ属の１種もしくは２種
以上を副成分として含む合金薄膜を製造すること
により磁気特性、耐食性、耐摩耗性が優れ基板と
なじみを良くし、薄膜の諸特性を著しく向上させ
たものである。 本発明においてSi、Al量は磁気特性との関係
から実用上使用可能な範囲、すなわち４〜12％
Si、３〜10％Alを選んだ。また副成分である白
金属元素およびａ属元素の含有量については、
白金属元素が２％を越えたり、またはａ属元素
が５％を越えたりすると、磁気特性が著しく劣る
ので、夫々２％および５％を上限とする。一方、
白金属元素、およびａ属元素の含有量が0.01％
未満の場合には、これら元素の添加含有による耐
食性、耐摩耗性、基板との密着性等の改善効果が
少ないため上記範囲であることが望ましい。 以下、本発明を実施例により詳述する。 実施例 所定の成分比となるようにAl、Si、Feおよび
白金属元素の原料を配合し、高周波真空炉で溶解
し母合金を作成した。得られた母合金から60〜
100φの円板を切り出しスパツタ用ターゲツトを
作成した。２×10-3TorrのArガス雰囲気中でス
パツタをし磁性薄膜を作成した。基板としてはガ
ラスあるいは非磁性ステンレス、非磁性フエライ
トなどを用いた。スパツタ速度は20μ／ｈであつ
た。得られた薄膜の厚さは10μmで必要に応じて
熱処理をし、磁気特性、耐食性、耐摩耗性、基板
との接着強度などを測定した。その結果を第１表
に示す。
【表】
透磁率μは光力―効果および巻線をし、インダ
クタンスを測定し求めた。 また、相対腐食量は５％塩水雰霧試験24時間後
の腐食量を測定し合金No.１を100として相対比較
した。また摩耗試験は試験片を２mm×３mmの形状
に切り出し、常に厚さを一定とし家庭用VTRの
回転ドラムに取り付け、摩耗量を測定しNo.１を
100としての相対値を示した。テープはγFe2O3を
用いテープと試験片の相対速度は5.8ｍ／secであ
る。 以上説明したようにAl、Si、Fe合金に副成分
として白金属元素を0.01％〜2.0％、ａ属元素
の１種または２種以上を0.01％〜５％を加えるこ
とにより、磁気特性、耐食性、耐摩耗性、基板と
の密着が良く非常に特性の良い薄膜を製造するこ
とが可能である。 尚、実施例ではスパツタ法についてのみ記した
が真空蒸着法、イオンプレーテイング法、その他
の薄膜製造法でも同様に優れた薄膜を得ることが
できる。
クタンスを測定し求めた。 また、相対腐食量は５％塩水雰霧試験24時間後
の腐食量を測定し合金No.１を100として相対比較
した。また摩耗試験は試験片を２mm×３mmの形状
に切り出し、常に厚さを一定とし家庭用VTRの
回転ドラムに取り付け、摩耗量を測定しNo.１を
100としての相対値を示した。テープはγFe2O3を
用いテープと試験片の相対速度は5.8ｍ／secであ
る。 以上説明したようにAl、Si、Fe合金に副成分
として白金属元素を0.01％〜2.0％、ａ属元素
の１種または２種以上を0.01％〜５％を加えるこ
とにより、磁気特性、耐食性、耐摩耗性、基板と
の密着が良く非常に特性の良い薄膜を製造するこ
とが可能である。 尚、実施例ではスパツタ法についてのみ記した
が真空蒸着法、イオンプレーテイング法、その他
の薄膜製造法でも同様に優れた薄膜を得ることが
できる。
Claims (1)
- １ 重量比で３〜10％のAl、４〜12％のSi、白
金属元素0.01〜２％とａ属元素（Ti、Zr、Hf）
の１種もしくは２種以上を0.01〜５％含み残部Fe
からなる高透磁率磁性薄膜材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18145381A JPS5882507A (ja) | 1981-11-12 | 1981-11-12 | 磁性薄膜材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18145381A JPS5882507A (ja) | 1981-11-12 | 1981-11-12 | 磁性薄膜材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5882507A JPS5882507A (ja) | 1983-05-18 |
| JPS632124B2 true JPS632124B2 (ja) | 1988-01-18 |
Family
ID=16101021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18145381A Granted JPS5882507A (ja) | 1981-11-12 | 1981-11-12 | 磁性薄膜材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5882507A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60220914A (ja) * | 1984-04-18 | 1985-11-05 | Sony Corp | 磁性薄膜 |
| JPS60220913A (ja) * | 1984-04-18 | 1985-11-05 | Sony Corp | 磁性薄膜 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53104516A (en) * | 1978-02-24 | 1978-09-11 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Corrosion resistant high magnetic permeability alloy |
| JPS5690953A (en) * | 1979-12-25 | 1981-07-23 | Nippon Mining Co Ltd | Corrosion-resistant high-permeability alloy |
-
1981
- 1981-11-12 JP JP18145381A patent/JPS5882507A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53104516A (en) * | 1978-02-24 | 1978-09-11 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Corrosion resistant high magnetic permeability alloy |
| JPS5690953A (en) * | 1979-12-25 | 1981-07-23 | Nippon Mining Co Ltd | Corrosion-resistant high-permeability alloy |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5882507A (ja) | 1983-05-18 |
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