JPS5882509A - 磁性薄膜材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は薄膜磁気ヘッドあるいはインダクタンス素子用
などに用いられる磁性薄膜材料あるいはその他磁性薄膜
を必要とする部品等に使用される磁性薄膜材料に関する
ものである。

ムＬ−８１−Ｆｅ合金で透磁率が非常に大きくなる組成
があることはよく知られており、硬くてもろい性質をも
っているが磁気ヘッドあるいはダストコア等に使用され
ている。

しかし部品の小型化、磁気記録における高密度化記録の
要求、あるいは金属材料特有の電気伝導度が高いことに
起因し、表皮効果があり高い周波数では透磁率が減少す
ること、などから近年薄膜材料が要求されている。薄膜
の製造方法としてはスパッタ法、真空蒸着法、メッキ法
、イオンブレーティング法などがよく知られている。

本発明は、上記製造方法などの薄膜製造法により得るこ
との出来るすぐれた特性をもった金属磁性薄膜を提供す
ることを目的とするものである。

本発明はムｔ−８ｌ−ＩＦ・合金に重量比で００１％−
４０％のＯｒとα０ｌ−４０％のＶ’ａ属元素を副成分
として含む合金薄膜を親造することにより磁気特性、耐
食性、耐摩耗性が優れ基板となじみを良くシ、薄膜の緒
特性を著しく向上させたものである。

本発明において８１、ムを量は磁気特性との関係から実
用上使用可能な範囲すなわち４〜１８％Ｓ１．３〜１０
％ムｔを選ん邂０また副成分はＯｒは４０％以上、Ｖ’
ａ属は２％以上では磁気特性が著しく劣るため上記範囲
であることが望ましい。

以下、本発明を実施例により詳述する。

実施例 所定の成分比となるようにムｔ、８１、ＩＩｓおよび白
金属元素の原料を配合し、高周波真空炉で溶解し母合金
を作成した。得られた母合金から６０〜１００φの円板
を切り出しスパッタ用ターゲットを作成した。２ＸＩＯ
−３Ｔｏｒｒのムｒガス雰囲気中でスパッタをし磁性薄
膜を作成した。基板としてはガラスあるいは非磁性ステ
ンレス、非磁性フェライトなどを用いた。スパッタ速度
はｚｏｙｈであった。得られた薄膜の厚ざはｌｏｐｍで
必要に応じて熱処理をし、磁気特性、副食性、耐摩耗性
、基板との接着強度などを測面した。その結果を第１表
に示す。

第　　１　　表゛ 透磁率μは光力−効果およびトロイダル巻線法で測定し
た。

また、相対腐食量は５％塩水雰霧試験２４時間後の腐食
量をｉ１宕し合金＆１をＺｏｏとして相対比較した。

また摩耗試験は試験片を２■Ｘ３ｍ１１の形状に切り出
し、常に厚さを一定とし家庭用背の回転ドラムに取り付
け、摩耗量を測定しＡｌを１００としての相対値を示し
た。テープはγ１・ＳＯＳを用いテープと試験片の相対
速度は＆８ｍ／ｓ・０である。

以上説明したようにムｔ、　８１、ＩＦ・合金に０．０
１Ａ−６，０劫Ｏｒと’Ｖａｌｊ４元素αＯＭＯ％を加
えることにより、磁気特性、耐食性、耐摩耗性、基板と
の密着が良く非常に特性の良い薄膜を製造することが可
能である。

尚、実施例ではスパッタ法についてのみ記したが真空蒸
着法１、イオンブレーティング法、そ０他の薄膜製造法
でも同様に優れた薄膜を得ることかできる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 重量比で３〜１０％め”ｓ　４〜１２１％の８１、Ｏｒ
   を００１〜２％、ｖａ属元素をαｏ　ｚ−ｅ、ｏＮ％お
   よび残部１・からなる高透磁率磁性薄膜材料〇