JPS5884956A - 磁性薄膜材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は薄膜磁気ヘッド、あるいはインダクタ＼。

ンス素子用などに用いられる磁性薄膜材料あるいはその
他磁性薄膜を必要とする部品等に使用される磁性薄膜材
料に関するものである。

ムｔ−８１−？・合金で透磁率が非常に大きくなる組成
があることはよく知られており、硬くてもろい性質をも
っているが磁気ヘッドあるいはダストコア等に使用され
ている。

しかし部品の小型化、磁気記録における高密度化記録の
要求、あるいは金属材料特有の電気伝導度が高いことに
起因し、表皮効果があり高い周波数では透磁率が減少す
ること、などから近年薄膜材料が要求されている。薄膜
の皺造方法としてはスパッタ法、真空蒸層法、メッキ法
、イオンブレーティング法などがよく知られている。

本発明は上記族造方法などのｓ＆峡造法により得ること
の出来るすぐれた特性をもった金＃４Ｍ！性薄膜を提供
することを目的とするものである。

本発明はムＬ　　８ｌ−ＩＦｅ合金に重量比でα０１％
〜２０％の白金属元素を副成分として加えた合金から薄
膜を製造することにより磁気特性、耐食性、耐摩耗性が
優れ基板となじみを良くシ、薄膜の１特性を着しく向上
逃せたちのである。

本発明においてＳｉ、Ａｔ量は磁気特性との関係から実
用上使用可能な範囲すなわち４〜１８％ｓ１．３〜１０
％ＡＡを違んだ。また副成分である白金属元素著 は組以上では磁気特性が祢しく劣るため上記範囲である
ことが値ましい。

以下、本発明を実施例により詳述する。

実施例 所定の成分比となるようにＡＬ、　８１、Ｆｅおよび白
金属元素の原料を配合し１高周波真空炉で溶解し母合金
を作成した。−得られた母合金から６０−１００φの円
板を切り出しスパッタ用ターゲットを作成した。２ＸＩ
Ｏ’″”Ｔｏｒｒのムｒガス雰囲気中でスパッタをし磁
性薄層を作成した。。基板としてはガラスあるいは非磁
性ステンレス、非磁性フェライトなどを用いた。スパッ
タ速度は２０μ／ｈであった。得られた薄膜の厚さは１
０μｍで必要に応じて熱処理をし磁気特性１耐食性、耐
摩耗性、基板との接着強度などを測定した。その結果を
第１表に示す。

透磁率μは光力−効果および巻線法で測定したＯまだ、
相対腐食量は５％塩水雰霧試験ｎ時間後の腐出し、常に
厚さを一定とし家庭用鷺の回転ドラムに取り付け、摩耗
量を測定しＡ１を１００としての相対値を示した。テー
プはγ１・１１０５を用いテープと試験片の相対速度は
５−８ｍ／ｓ・０である。

以上説明したようにＡｔｓ　”’、’・合金に副成分と
して白金属元素をα０１％〜ＬＯ％を加えることにより
磁気特性、耐食性、耐摩耗性、基板との密着か良く非常
に特性の良い薄膜を駒造することか可能である。

尚、実施例ではスパッタ法についてのみ記したが真空蒸
着法、イオンブレーティング法、その他の薄膜製造法で
も同様に慶れた薄膜を得ることかできる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 重量比で３〜１０％のムｔＳ４〜１２％の８ｉ、白金属
   元素αＯｌ−４％　、および残部１・からなる高透磁率
   磁性薄膜材料。