JPS5882508A - 磁性薄膜材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は薄膜磁気ヘッドあるいはインダクタンス素子用
などに用いられる磁性薄膜材料あるいはその他磁性薄膜
を必要とする部品等に使用される磁性薄膜材料に関する
ものである。

ムＬ−８１−’Ｉ！ｅ合金で透磁率が非常に大きくなる
組成があることはよく知られており、硬くてもろい性質
をもっているが磁気ヘッドあるいはダストシア等に使用
されている。

しかし部品の小型化、磁気記録における高密度化記録の
要求、あるいは金属材料特有の電気伝導度が高いことに
起因し、表皮効果があり高い周波数では透磁率が減少す
ること、などから近年薄膜材料が要求されている。薄膜
の動量方法としてはスパッタ法、真空蒸着法、メッキ法
、イオンブレーティング法などがよく知られている。

本発明は上記駒造方法などの薄膜製造法により得ること
の出来るすぐれた特性をもった金属磁性薄膜を提供する
ことを目的とするものである。

本発明はムｔ−８１−４・合金に重量比で００１％−７
％のＯｒを副成分として含む合金薄膜を製造することに
より磁気特性、耐食性、耐摩耗性が凝れ基板となじみを
良くシ、薄膜の諸物性を着しく向上させたものである。

本発明において８１、Ａｔ量は磁気特性との関係から実
用上使用可能な範囲すなわち４〜１２％Ｓ１．３〜１０
％ムＬを違んだ。また副成分であるＯｒは１０％以上で
は磁気特性が著しく劣るため上記範囲であることが望ま
しい。

以下、本発明を実施例により詳述する。

実施例 所定の成分比となるようにＡＡ％　Ｂ１、Ｆｅおよび白
金属元素の原料を配合し、高周波真空炉で溶解し母合金
を作成した。得られた母合金から６０〜１００φの円板
を切り出しスパッタ用ターゲットを作成した。２×１０
″″”Ｔｏｒｒのムｒガス雰囲気中でスパッタをし磁性
薄膜を作成した。基板としてはガラスあるいは非磁性ス
テンレス、非磁性フェライトなどを用いた。スパッタ速
度はｆ、悄４であった。得られた薄膜の厚さは１０μｍ
で必要に応じて熱処理をし１磁気特性、耐食性、耐摩耗
性、基板との接着強度などを測定した。その結果を第１
表に示す。

第　　１　　表 透磁率μは光力−効果およびトロイダル巻線法で測定し
た。また、相対腐食量は５％塩水雰霧試験２４時間後の
腐食量を測定し合金Ａ１を１００として相対比較した。

また摩耗試験は試験片を２ｍ×３ｍの形状に切り出し１
常に厚さを一定とし家庭用前の回転ドラムに取り付け、
摩耗量を測定しＡｌを１００としての相対値を示した。

テープはｉＦ＠ｌｏｇを用いテープと試験片の相対速度
は＆８ｍ／ｓｅａである。

以上説明したようにムＬｚ　８１、Ｆｅ合金に副成分と
して１０％のＯｒを加えることにより、磁気特性、耐食
性、耐摩耗性、基板との密着が良く非常に特性め良い薄
膜を製造することが可能である。

尚、実施例ではλバッタ法についてのみ記したが真空蒸
着法、イオンブレーティング法、その他のｆ１膜線造法
でも同様に浸れた薄膜を得ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 重量比で３〜１０％のＡｔ、　４〜１２％の８１、α０
   １ＡｌＯ％のＯｒおよび残部ｙａからなる高透磁率磁性
   薄膜材料Ｏ