JPS5882506A - 磁性薄膜材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は薄膜磁気ヘッドあるいはインダクタンス素子用
などに用いられる磁性薄膜材料あるいはその他磁性薄膜
を必要とする部品等に使用される磁性薄膜材料に関する
ものである。

ｋｌ−８ｉ−］Ｆｅ合金で透磁率か非常に大きくなる組
成があることはよく知られており、硬くてもろい性質を
もっているが磁気ヘッドあるいはダストコ等 磁性に使用されてい番。

しかし部品の小型化、磁気記録における高密度化記録の
要求、あるいは金属材料特有の電気伝一度が高いことに
起因し、表皮効果があり高い周波数では透磁率が減少す
ること、などから近年薄層材料が要求されている。薄膜
の一遣方法としてはスパッタ法、真空蒸着法、メッキ法
、イオンブレーティング法などがよく知られている。

本発明は上記ｌｉＩ造方法などの薄膜朧造法により得る
ことの出来るすぐれた特性をもった金属磁性薄膜を提供
することを目的とするものである。

本発明はムｔ−ａｔ−ｖ・合金に重量比で００１％−４
０％の白金属元素とＶ＆属の１種もしくは２種以上を副
成分として含む合金薄膜を皺造することにより磁気特性
１耐食性、耐摩耗性が凝れ基板となじみを良くシ、薄膜
の緒特性を着しく向上させたものであるＯ 本発明において８１、ムＬ量は磁気特性との関係から実
用上使用可能な範囲すなわち４〜１２％Ｓ１．３属 〜１０％ムｔを選んだ。また副成分である一白金資元素
。

は２％以上、Ｖａ属元素Ｂ％以上では磁気特性が著“７
く劣るため上記範囲であることが望ましい。

以下、本発明を実Ｉにより詳述する。

実施例 所定の成分比となるようにムｔ、１８１、ＩＦ・および
ｒ金属元素の原料を配合し、高周波真空炉で溶解し母合
金を作成した。得られた母合金から６（ｌＮ１００φの
円板を切り出しスパッタ用ターゲットを作成した。２Ｘ
１０″″’ＴｏｒｒのＡｒガス雰囲気中でスパッタをし
磁性薄膜を作成した。基板としてはガラスあるいは非磁
性ステンレス、非磁性フェライトなどを用いた。スパッ
タ速度は時４であった。得られた薄膜の厚さは１０μｍ
で必要に応じて熱処理をし、磁気特性、耐食性、耐摩耗
性、基板との接層強度などを測定した。その結果を第１
表に示す。

第　　１　　表 透磁率μは光力−効果および巻線法で測定したまた１相
対腐食量は５％塩水雰霧試験２４時間後の腐食量を測定
し合金Ａ１を１００として相対比較した。

また摩耗試験は試験片をｇ　＄Ｉ　Ｘ　３１１１の形状
に切り出し、常に厚さを一走とし家庭用司の回転ドラム
に取り付け１摩耗量を測定しＡ１を１００としての相対
値を示した。テープはγ７・１０１１を用いテープと試
験片の相対速度は＆８ｍ／ｓ＠ａである。

以上説明したようにムＬ、　８１．７ｅ合金に副成分と
して白金属元素をαｏ１４唱０％、　Ｖａ属元素の１種
または２種以上を００１〜Ｉを加えることにより、磁気
特性、耐食性、耐摩耗性、基板との密着が良く非常に特
性の良い薄膜を製造することが可能である。

尚、実施例ではスパッタ法についてのみ記したが真空蒸
着法、−イオンブレーティング法、その他の薄膜製造法
でも同様に優れた薄膜を得ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 重量比で３〜ｌＯ％のＡｔ、　４〜１２％の８１、白金
   属元素α０Ｘ−ｊｉ＋％、Ｖ’ａ属元素（Ｖ、ｊｉｂ、
   Ｔａ）の１種もしくは２種以上を００１−５％含み残部
   １・からなる高逃磁率磁性７ｉＩ展材料。