JPS63210935A - 電子写真用感光体 - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、電荷発生物質を分散した層を有する電子写真
用感光体の改良に関する。
用感光体の改良に関する。
従来より、電荷発生物質と共に各種の樹脂を配合させた
電荷発生層を設けた電子写真用感光体は知られている。
電荷発生層を設けた電子写真用感光体は知られている。
このような例としては、ポリビニルブチラール(特開昭
58−105154号)、脂肪酸セルロースエステル(
特開昭58−166353号)、Tgが70℃以下で酸
価数10−40のアクリル樹脂(特開昭58−1920
40号)、Tgが70℃以下の樹脂と、Tgが75℃以
−ノ上の樹脂を混合したもの(特開昭58−19354
9号)。
58−105154号)、脂肪酸セルロースエステル(
特開昭58−166353号)、Tgが70℃以下で酸
価数10−40のアクリル樹脂(特開昭58−1920
40号)、Tgが70℃以下の樹脂と、Tgが75℃以
−ノ上の樹脂を混合したもの(特開昭58−19354
9号)。
電荷発生物質−樹脂−溶剤の系に相溶性のより低い樹脂
−溶剤系を加えて再分散したもの(特開昭56−126
46号)、ポリビニルピロリドン(特開昭56−113
140号)、ポリビニルホルマール樹脂(特開昭61−
235844号)等の樹脂を用いたものが挙げられる。
−溶剤系を加えて再分散したもの(特開昭56−126
46号)、ポリビニルピロリドン(特開昭56−113
140号)、ポリビニルホルマール樹脂(特開昭61−
235844号)等の樹脂を用いたものが挙げられる。
しかしながら、従来公知の感光体にあっては、電荷発生
物質とバインダー樹脂の混合比によって感度と前露光疲
労に対する帯電性が異なるという問題があった。
物質とバインダー樹脂の混合比によって感度と前露光疲
労に対する帯電性が異なるという問題があった。
即ち、従来の感光体は電荷発生物質に対するバインダー
樹脂の使用量を少くすると感度を増大することができる
が、前露光疲労に対する帯電性の低下が著しくなり、逆
に電荷発生物質に対するバインダー樹脂の使用量を多く
すると前露光疲労に対する帯電性の低下を抑制できるが
、感度が著しく低下するという問題点を包含する。
樹脂の使用量を少くすると感度を増大することができる
が、前露光疲労に対する帯電性の低下が著しくなり、逆
に電荷発生物質に対するバインダー樹脂の使用量を多く
すると前露光疲労に対する帯電性の低下を抑制できるが
、感度が著しく低下するという問題点を包含する。
また、従来の感光体は帯電と露光の繰り返しにおいて帯
電電位の低下が著しいという欠点も有している。
電電位の低下が著しいという欠点も有している。
本発明は、高感度であるとともに前露光疲労による帯電
性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返し
においても帯電電位が低下しない電子写真用感光体を提
供することを目的とする。
性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返し
においても帯電電位が低下しない電子写真用感光体を提
供することを目的とする。
本発明によれば、導電性支持体上に電荷発生物質を分散
した層を少なくとも有する電子写真用感光体において、
電荷発生物質を分散した層が電荷発生物質とN−アルキ
ロールカルボン酸アミドからなることを特徴とする電子
写真用感光体が提供される。
した層を少なくとも有する電子写真用感光体において、
電荷発生物質を分散した層が電荷発生物質とN−アルキ
ロールカルボン酸アミドからなることを特徴とする電子
写真用感光体が提供される。
本発明の電子写真用感光体は、電荷発生物質を分散した
層を電荷発生物質とN−アルキロールカルボン酸アミド
から構成したことがら、高感度であるとともに前露光疲
労による帯電性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露
光の繰り返しにおいても帯電電位が低下しないという顕
著な作用効果を奏する。一般に、高感度の感光体は前露
光疲労によって帯電性が低下する。この前震光疲労は光
吸収によって発生した電荷が、移動可能な状態で感光体
に残留している時間が長いほど、またその電荷数が多い
ほど、前露光疲労による帯電性の低下が著しくなる。即
ち、光吸収によって発生した電荷が残留している状態で
帯電操作をしても残留するキャリヤの移動で表面電荷が
中和されるため、残留電位が消費されるまで表面電位は
上昇しない。
層を電荷発生物質とN−アルキロールカルボン酸アミド
から構成したことがら、高感度であるとともに前露光疲
労による帯電性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露
光の繰り返しにおいても帯電電位が低下しないという顕
著な作用効果を奏する。一般に、高感度の感光体は前露
光疲労によって帯電性が低下する。この前震光疲労は光
吸収によって発生した電荷が、移動可能な状態で感光体
に残留している時間が長いほど、またその電荷数が多い
ほど、前露光疲労による帯電性の低下が著しくなる。即
ち、光吸収によって発生した電荷が残留している状態で
帯電操作をしても残留するキャリヤの移動で表面電荷が
中和されるため、残留電位が消費されるまで表面電位は
上昇しない。
したがって、前露光疲労分だけ表面電位の上昇が遅くな
り、見かけ上の帯電電位が低くなるわけである。
り、見かけ上の帯電電位が低くなるわけである。
本発明者らは、この点を改良すべく鋭意検討した結果、
電荷発生物質を分散した層にN−アルキロールカルボン
酸アミドを含有させると上記欠点が解消されることを見
い出し、本発明を完成するに到った。
電荷発生物質を分散した層にN−アルキロールカルボン
酸アミドを含有させると上記欠点が解消されることを見
い出し、本発明を完成するに到った。
本発明がこのような顕著な作用効果を有する理由は現地
点では必ずしも明らかでないが、電荷発生物質にN−ア
ルキロールカルボン酸アミドが化学吸着し、光吸収によ
って発生した電荷の再結合中心となるため、前露光疲労
で発生した電荷が速やかに再結合し、その電荷を消失す
ることによって感光体の帯電電位の低下が抑制されるこ
とに帰因するものと思われる。
点では必ずしも明らかでないが、電荷発生物質にN−ア
ルキロールカルボン酸アミドが化学吸着し、光吸収によ
って発生した電荷の再結合中心となるため、前露光疲労
で発生した電荷が速やかに再結合し、その電荷を消失す
ることによって感光体の帯電電位の低下が抑制されるこ
とに帰因するものと思われる。
更に、前記のような前露光疲労に対する効果は、帯電と
露光を繰り返す実際の使用時においても同様に発現する
ため1本発明に係る電子写真用感光体は、従来のものと
比較して、帯電と露光との繰り返しにおいても、帯電電
位の低下が著しく小さいものである。
露光を繰り返す実際の使用時においても同様に発現する
ため1本発明に係る電子写真用感光体は、従来のものと
比較して、帯電と露光との繰り返しにおいても、帯電電
位の低下が著しく小さいものである。
以下、添付図面に沿って本発明をさらに詳細に説明する
。
。
第1同−第3図は本発明の電子写真用感光体の代表的な
層構成を説明する図面である。
層構成を説明する図面である。
第1図は、導電性支持体3上に、電荷発生層1および電
荷移動層2が順次積層されたものであり、第2図は第1
図の電荷発生層1と電荷移動層2の積層順位を逆にした
ものであり、電荷発生層lの形成は、電荷移動層2を乱
さない様な塗工方法例えばスプレー塗工法等が採用され
る。
荷移動層2が順次積層されたものであり、第2図は第1
図の電荷発生層1と電荷移動層2の積層順位を逆にした
ものであり、電荷発生層lの形成は、電荷移動層2を乱
さない様な塗工方法例えばスプレー塗工法等が採用され
る。
第3図は、第1図において、導電性支持体3と電荷発生
層1との間に下引層4を設けたものである。
層1との間に下引層4を設けたものである。
下引層はレーザープリンター用感光体における光干渉防
止を目的とする場合は、光散乱性下引層又は光吸収性下
引層が用いられ、接着性・可撓性を目的とする場合は接
着性の良好なポリアミド、ポリエステル、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール等の樹脂下
引層が用いられる。
止を目的とする場合は、光散乱性下引層又は光吸収性下
引層が用いられ、接着性・可撓性を目的とする場合は接
着性の良好なポリアミド、ポリエステル、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール等の樹脂下
引層が用いられる。
つぎに1本発明で用いられる各構成材料について説明す
る。
る。
導電性支持体とは、帯電電荷と逆極性の電荷を基体側に
供給することを目的とするものであって。
供給することを目的とするものであって。
電気抵抗が101Ωcm以下で、かつ電荷発生層、電荷
移動層更には下引層の成膜条件に耐えられるものを使用
することができる。これらの例としては。
移動層更には下引層の成膜条件に耐えられるものを使用
することができる。これらの例としては。
AQ 、 Ni、Cr、Zn、ステンレス等の電気伝導
性の金属および合金並びにガラス、セラミックス等の無
機絶縁物質およびポリエステル、ポリイミド、フェノー
ル樹脂、ナイロン樹脂、紙等の有機絶縁性物質の表面を
、真空蒸着、スパッタリング、吹付塗装等の方法によっ
て、A Q 、 Ni、 Cr、 Zn、ステンレス、
炭素、SnO,、In、03等の電気導電性物質を被服
して導電処理を行なったもの等があげられる。
性の金属および合金並びにガラス、セラミックス等の無
機絶縁物質およびポリエステル、ポリイミド、フェノー
ル樹脂、ナイロン樹脂、紙等の有機絶縁性物質の表面を
、真空蒸着、スパッタリング、吹付塗装等の方法によっ
て、A Q 、 Ni、 Cr、 Zn、ステンレス、
炭素、SnO,、In、03等の電気導電性物質を被服
して導電処理を行なったもの等があげられる。
電荷発生物質を分散した層は、第1図、第2図及び第3
図のように積層型感光層における電荷発生層として構成
され、電荷発生物質とN−アルキロールカルボン酸アミ
ドから形成される。
図のように積層型感光層における電荷発生層として構成
され、電荷発生物質とN−アルキロールカルボン酸アミ
ドから形成される。
N−アルキロールカルボン酸アミドとしては、下記一般
式(1)及び一般式(If)で示される化合物が好まし
く用いられる。
式(1)及び一般式(If)で示される化合物が好まし
く用いられる。
(式中、Rは炭素数6以上の炭化水素基、Aは−C,H
40−。
40−。
−C,H,O−、−C,H,O−等のオキシアルキレン
基、Ω。
基、Ω。
m、 nは1以上の正の整数を表わす、)一般式(1)
及び一般式(II)で示される化合物は、例えば、カプ
リン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、バルミチン酸、マ
ルガリン酸、ステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸、パ
ルミトレン酸、オレイン酸、エルカ酸、2−メチルドデ
カン酸、イソステアリン酸等のカルボン酸のアミドにエ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイドあるいはブチ
レンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加するこ
とによって合成される。
及び一般式(II)で示される化合物は、例えば、カプ
リン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、バルミチン酸、マ
ルガリン酸、ステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸、パ
ルミトレン酸、オレイン酸、エルカ酸、2−メチルドデ
カン酸、イソステアリン酸等のカルボン酸のアミドにエ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイドあるいはブチ
レンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加するこ
とによって合成される。
本発明で好ましく用いられる一般式(1)の化合物の具
体例としては、例えば、三洋化成(株)製のプロファン
ME−20,プロファンAD−31、プロファンAB−
20、プロファンSME等が挙げられ、また一般式(■
)の化合物の具体例としては、三洋化成(株)Wiのプ
ロファンエキストラ24、プロファンAA−62EX。
体例としては、例えば、三洋化成(株)製のプロファン
ME−20,プロファンAD−31、プロファンAB−
20、プロファンSME等が挙げられ、また一般式(■
)の化合物の具体例としては、三洋化成(株)Wiのプ
ロファンエキストラ24、プロファンAA−62EX。
プロファン128エキストラ、日本油脂(株)IKのス
タホームF、スタホームDL、スタホームOFシリーズ
等が挙げられる。
タホームF、スタホームDL、スタホームOFシリーズ
等が挙げられる。
N−アルキロールカルボン酸アミドの使用量は、後記す
る電荷発生物質1重量部に対して0.001〜2重量部
、好ましくは0.111〜1重量部である。
る電荷発生物質1重量部に対して0.001〜2重量部
、好ましくは0.111〜1重量部である。
その使用量が上記範囲外であると、本発明の所期の目的
が充分に発揮されない。
が充分に発揮されない。
電荷発生物質としては、例えば、シーアイピグメントブ
ルー25〔カラーインデックス(CI)21180)、
シーアイピグメントレッド41(CI 21200)、
シーアイアシッドレッド52(CI 45100)、シ
ーアイベーシックレッド3(CI 45210)、さら
に、ポリフィリン骨格を有するフタロシアニン系顔料、
アズレニウム塩顔料、スクアリック塩顔料、カルバゾー
ル骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95033号公
報に記載)、スチルスチルベン骨格を有するアゾ顔料(
特開昭53−138229号公報に記載)、トリフェニ
ルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−1325
47号公報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格を有する
アゾ顔料(特開昭54−21728号公報に記載)、オ
キサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−1
2742号公報に記載)、フルオレノン骨格を有するア
ゾ顔料(特開昭54−22834号公報に記載)、ビス
スチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−177
33号公報に記載)、ジスチリルオキサジアゾール骨格
を有するアゾ顔料(特開昭54−2129号公報に記載
)、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特
開昭54−17734号公報に記載)、カルバゾール骨
格を有するトリアゾ顔料(特開昭57−195767号
公報、同57−195768号公報に記載)等、さらに
、シーアイピグメントブルー16(CI 74100)
等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラウン5
(CI 73410)、シーアイバットダイ(CI 7
3030)等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレットB
(バイオレット社製)、インダスレンスカーレットR(
バイエル社製)等のペリレン系顔料等の有機顔料を使用
することができる。
ルー25〔カラーインデックス(CI)21180)、
シーアイピグメントレッド41(CI 21200)、
シーアイアシッドレッド52(CI 45100)、シ
ーアイベーシックレッド3(CI 45210)、さら
に、ポリフィリン骨格を有するフタロシアニン系顔料、
アズレニウム塩顔料、スクアリック塩顔料、カルバゾー
ル骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95033号公
報に記載)、スチルスチルベン骨格を有するアゾ顔料(
特開昭53−138229号公報に記載)、トリフェニ
ルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−1325
47号公報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格を有する
アゾ顔料(特開昭54−21728号公報に記載)、オ
キサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−1
2742号公報に記載)、フルオレノン骨格を有するア
ゾ顔料(特開昭54−22834号公報に記載)、ビス
スチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−177
33号公報に記載)、ジスチリルオキサジアゾール骨格
を有するアゾ顔料(特開昭54−2129号公報に記載
)、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特
開昭54−17734号公報に記載)、カルバゾール骨
格を有するトリアゾ顔料(特開昭57−195767号
公報、同57−195768号公報に記載)等、さらに
、シーアイピグメントブルー16(CI 74100)
等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラウン5
(CI 73410)、シーアイバットダイ(CI 7
3030)等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレットB
(バイオレット社製)、インダスレンスカーレットR(
バイエル社製)等のペリレン系顔料等の有機顔料を使用
することができる。
これら電荷発生物質の中でも特にアゾ顔料が好適であり
、更にアゾ顔料の中でも以下に示すジスアゾ顔料あるい
はトリスアゾ顔料が最も好ましい。
、更にアゾ顔料の中でも以下に示すジスアゾ顔料あるい
はトリスアゾ顔料が最も好ましい。
アゾ顔料の具体例を以下に示す。
顔J虹b −−コし一一顔Jul!IQ
−一一Δ−−−履JLI!IQ
−一一へ−−−顔」L馳
−一一八−−一顔JLb
−一−Δ−−−顔」[陽 −一−
Δ−−−糺耗l −−コし一一 顔」L励 −一一り−一履J!Lm
−一一へ−−−顔JLh
−一一へ−−−厘Jfua
−一一へ一一一履」[b −−コし
−一顔」1シ −−コし一一顔4[醜
−m−Δ−−−し2 顔J[h −へ一 履」虹大 −一一八一一一顔」1h
−−コm 顔」[正 −一一Δ−−−顔!正
−一一へ−−−顔」1隈
−一一八一一一顔」1正 −
6− ・電荷発生層1の膜厚は、0.05〜2μm程
度が適当であり、好ましくは0.1〜1μ−である。
−一一Δ−−−履JLI!IQ
−一一へ−−−顔」L馳
−一一八−−一顔JLb
−一−Δ−−−顔」[陽 −一−
Δ−−−糺耗l −−コし一一 顔」L励 −一一り−一履J!Lm
−一一へ−−−顔JLh
−一一へ−−−厘Jfua
−一一へ一一一履」[b −−コし
−一顔」1シ −−コし一一顔4[醜
−m−Δ−−−し2 顔J[h −へ一 履」虹大 −一一八一一一顔」1h
−−コm 顔」[正 −一一Δ−−−顔!正
−一一へ−−−顔」1隈
−一一八一一一顔」1正 −
6− ・電荷発生層1の膜厚は、0.05〜2μm程
度が適当であり、好ましくは0.1〜1μ−である。
電荷発生層1は、適当な溶剤にN−アルキロールカルボ
ン酸アミドおよび電荷発生物質を溶解ないし分散し、こ
れを塗布、乾燥することによって形成できる。溶剤とし
て、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレン、ジ
クロルエタン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン
、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、ジオ
キサン。
ン酸アミドおよび電荷発生物質を溶解ないし分散し、こ
れを塗布、乾燥することによって形成できる。溶剤とし
て、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレン、ジ
クロルエタン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン
、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、ジオ
キサン。
テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブなどを単独または混合して用い
ることができる。
ルブ、エチルセロソルブなどを単独または混合して用い
ることができる。
電荷移動層2は、電荷移動物質および樹脂バインダーを
適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生WIl
上に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要
により可塑剤やレベリング剤等を添加することもできる
。
適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生WIl
上に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要
により可塑剤やレベリング剤等を添加することもできる
。
電荷移動物質としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール
およびその誘導体、ポリ−チーカルバゾリルエチルグル
タメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド
縮金物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニ
ルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾ
ール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン
誘導体、9−(P−ジエチルアミノスチリル)アントラ
セン、 1.1−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニ
ル)プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾ
リン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン
誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。
およびその誘導体、ポリ−チーカルバゾリルエチルグル
タメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド
縮金物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニ
ルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾ
ール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン
誘導体、9−(P−ジエチルアミノスチリル)アントラ
セン、 1.1−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニ
ル)プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾ
リン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン
誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。
樹脂バインダーとしては、ポリスチレン、スチレン−ア
クリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合
体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル
、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレー
ト樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セル
ロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコン
樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フ
ェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬
化性樹脂が挙げられる。
クリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合
体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル
、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレー
ト樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セル
ロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコン
樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フ
ェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬
化性樹脂が挙げられる。
このときの溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、トルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン
、塩化メチレン等が使用できる。
サン、トルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン
、塩化メチレン等が使用できる。
電荷移動層2の厚さは、5−100μ瞠程度が適当であ
る。
る。
更に、本発明においては、前記したように導電性支持体
と感光層の間に必要により下引層を設けることができる
。
と感光層の間に必要により下引層を設けることができる
。
光散乱性下引層及び光吸収性下引層は前述の様にプリン
ター用感光体における光干渉防止を目的とする層である
。光散乱性下引層は、例えば酸化スズ、酸化アンチモン
等の導電性粉体と酸化亜鉛。
ター用感光体における光干渉防止を目的とする層である
。光散乱性下引層は、例えば酸化スズ、酸化アンチモン
等の導電性粉体と酸化亜鉛。
硫化亜鉛、酸化チタン等の白色顔料とを下記の様な熱硬
化性樹脂中に分散して構成され、また光吸収性下引層は
、例えば炭素、各種金属等の導電性光吸収性顔料及びl
又は光吸収性有機顔料を同様な熱硬化性樹脂中に分散し
て構成される。ここで使用される熱硬化性樹脂は例えば
、活性水素(−〇H基、−NH2基、−NH基等の水素
)を複数個含有する化合物とインシアネート基を複数個
含有する化合物及び/又はエポキシ基を複数個含有する
化合物とを熱重合させたものである。活性水素を複数個
含有する化合物としては、例えばポリビニルブチラール
、フェノキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリ
エステル、ポリエチレングリコール。
化性樹脂中に分散して構成され、また光吸収性下引層は
、例えば炭素、各種金属等の導電性光吸収性顔料及びl
又は光吸収性有機顔料を同様な熱硬化性樹脂中に分散し
て構成される。ここで使用される熱硬化性樹脂は例えば
、活性水素(−〇H基、−NH2基、−NH基等の水素
)を複数個含有する化合物とインシアネート基を複数個
含有する化合物及び/又はエポキシ基を複数個含有する
化合物とを熱重合させたものである。活性水素を複数個
含有する化合物としては、例えばポリビニルブチラール
、フェノキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリ
エステル、ポリエチレングリコール。
ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、
ヒドロキシエチルメタアクリレート基等の活性水素を含
有するアクリル系樹脂等があげられる。イソシアネート
基を複数個含有する化合物としては、たとえば、トリレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート
、ジフェニルメタンジイソシアネート等とこれらのプレ
ポリマー等があげられ、エポキシ基を複数有する化合物
としては、ビスフェノール^型エポキシ樹脂等があげら
れる。
ヒドロキシエチルメタアクリレート基等の活性水素を含
有するアクリル系樹脂等があげられる。イソシアネート
基を複数個含有する化合物としては、たとえば、トリレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート
、ジフェニルメタンジイソシアネート等とこれらのプレ
ポリマー等があげられ、エポキシ基を複数有する化合物
としては、ビスフェノール^型エポキシ樹脂等があげら
れる。
いずれにしても光散乱性又は光吸収性下引層は以上の様
な成分を溶解又は分散した液を基体上に塗布し、50〜
200℃で熱重合させて形成される。なおこの下引層の
厚さは1〜lOμ臘が適当である。また導電性粉末と白
色顔料と前記熱硬化性樹脂との重量比は2〜671〜5
72〜6が適当であり、また光吸収性顔料と前記熱硬化
性樹脂との重量比は4〜971〜6が適当である。
な成分を溶解又は分散した液を基体上に塗布し、50〜
200℃で熱重合させて形成される。なおこの下引層の
厚さは1〜lOμ臘が適当である。また導電性粉末と白
色顔料と前記熱硬化性樹脂との重量比は2〜671〜5
72〜6が適当であり、また光吸収性顔料と前記熱硬化
性樹脂との重量比は4〜971〜6が適当である。
本発明の電子写真用感光体は、電荷発生物質を分散した
層が電荷発生物質とN−アルキロールカルボン酸アミド
から構成されているので、高感度であるとともに前露光
疲労による帯電性の低下が著しく小さく、シかも帯電と
露光の繰り返しにおいても帯電電位が低下しないという
顕著な作用効果を奏する。
層が電荷発生物質とN−アルキロールカルボン酸アミド
から構成されているので、高感度であるとともに前露光
疲労による帯電性の低下が著しく小さく、シかも帯電と
露光の繰り返しにおいても帯電電位が低下しないという
顕著な作用効果を奏する。
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
実施例1
〔電荷発生層用塗工液〕
表−1に示すアゾ顔料(顔料&l)5重量部とラウリン
酸ジェタノールアミド〔スタホームDL1日本油脂(株
)〕の00.78重量%シクロヘキサノン溶液160量
部とを72時間ボールミルで混合して顔料分散液を得、
ついでこの顔料分散液100重量部に、撹拌しながら、
メチルエチルケトン90重量部を追加混合して電荷発生
層塗工液とした。
酸ジェタノールアミド〔スタホームDL1日本油脂(株
)〕の00.78重量%シクロヘキサノン溶液160量
部とを72時間ボールミルで混合して顔料分散液を得、
ついでこの顔料分散液100重量部に、撹拌しながら、
メチルエチルケトン90重量部を追加混合して電荷発生
層塗工液とした。
テトラヒドロフラン 800重量部つぎに
、AQを真空蒸着した75μ閣のポリエステルフィルム
基板上に上記の電荷発生層用塗工液をブレード塗工し、
120℃で10分間加熱乾燥して約0.2μ園の電荷発
生層を形成した。ついで、電荷発生層の上に上記組成の
電荷移動層用塗工液をブレード塗工し、120℃で20
分間加熱乾燥して約20μ■の電荷移動層を形成し感光
体を作成した。
、AQを真空蒸着した75μ閣のポリエステルフィルム
基板上に上記の電荷発生層用塗工液をブレード塗工し、
120℃で10分間加熱乾燥して約0.2μ園の電荷発
生層を形成した。ついで、電荷発生層の上に上記組成の
電荷移動層用塗工液をブレード塗工し、120℃で20
分間加熱乾燥して約20μ■の電荷移動層を形成し感光
体を作成した。
実施例2
電荷発生層塗工液のアゾ顔料を顔料Na39に代えた以
外は実施例1と同様にして感光体を作成した。
外は実施例1と同様にして感光体を作成した。
実施例3
AQを真空蒸着した75μ■のポリエステルフィルム基
板上に実施例1で用いた電荷移動層用塗工液を実施例1
と同様にしてブレード塗工し、ついで乾燥して約20μ
−の電荷移動層を形成した。ついで、この電荷移動層の
上に実施例1で用いた電荷発生層用塗工液をスプレー塗
工し、120’Cで30分間加熱乾燥して約0.2μ−
の電荷発生層を形成し感光体を作成した。
板上に実施例1で用いた電荷移動層用塗工液を実施例1
と同様にしてブレード塗工し、ついで乾燥して約20μ
−の電荷移動層を形成した。ついで、この電荷移動層の
上に実施例1で用いた電荷発生層用塗工液をスプレー塗
工し、120’Cで30分間加熱乾燥して約0.2μ−
の電荷発生層を形成し感光体を作成した。
実施例4
電荷移動層用塗工液のα−フェニルスチルベン化合物を
下記構造の化合物に変更した以外は実施例1と同様にし
て感光体を作成した。
下記構造の化合物に変更した以外は実施例1と同様にし
て感光体を作成した。
実施例5
実施例2の電荷発生層用塗工液のラウリン酸ジェタノー
ルアミドをステアリン酸モノエタノールアミド【プロフ
ァンSME、三洋化成(株)〕に代えた以外は実施例2
と同様にして感光体を作成した。
ルアミドをステアリン酸モノエタノールアミド【プロフ
ァンSME、三洋化成(株)〕に代えた以外は実施例2
と同様にして感光体を作成した。
実施例6
酸化アンチモン10重量%を含有する酸化スズの微粉8
重量部と酸化チタン白色顔料粉末5重量部とポリビニル
ブチラール(商品名: BL−1、種水化学社製)の1
2重量%メチルエチルケトン溶液68重量部とを72時
間ボールミルで処理し1次にメチルエチルケトン47重
量部を追加して48時間再びボールミルで処理した6次
にこの顔料分散液80重量部を撹拌しながら8重量部の
トリレンジイソシアネートの20重量%メチルエチルケ
トン溶液を追加混合して光散乱用下引層塗工液とした。
重量部と酸化チタン白色顔料粉末5重量部とポリビニル
ブチラール(商品名: BL−1、種水化学社製)の1
2重量%メチルエチルケトン溶液68重量部とを72時
間ボールミルで処理し1次にメチルエチルケトン47重
量部を追加して48時間再びボールミルで処理した6次
にこの顔料分散液80重量部を撹拌しながら8重量部の
トリレンジイソシアネートの20重量%メチルエチルケ
トン溶液を追加混合して光散乱用下引層塗工液とした。
つぎに、AQを真空蒸着した75μmのポリエステルフ
ィルム基板上に上記光散乱用下引層塗工液をブレード塗
工し、120℃で30分間加熱硬化して約2.5μ重の
光散乱用下引層を形成した。
ィルム基板上に上記光散乱用下引層塗工液をブレード塗
工し、120℃で30分間加熱硬化して約2.5μ重の
光散乱用下引層を形成した。
次に、この光散乱用下引層の上に実施例2と同様にして
電荷発生層及び電荷移動層を形成した感光体を作成した
。
電荷発生層及び電荷移動層を形成した感光体を作成した
。
比較例1〜2
電荷発生層用塗工液のラウリン酸ジェタノールアミドを
ポリビニルブチラール(商品名:XY)IL、ユニオン
カーバイドプラスチック社製)にし、ポリビニルブチラ
ールの0.78重量%溶液で顔料分散液を作成した以外
は各々実施例1〜2と同様にして感光体を作成した。
ポリビニルブチラール(商品名:XY)IL、ユニオン
カーバイドプラスチック社製)にし、ポリビニルブチラ
ールの0.78重量%溶液で顔料分散液を作成した以外
は各々実施例1〜2と同様にして感光体を作成した。
比較例3
電荷発生層用塗工液のラウリン酸ジェタノールアミドを
比較例1〜2と同様にポリビニルブチラール(商品名:
XYHL、ユニオンカーバイドプラスチック社製)にし
た以外は実施例3と同様にして感光体を作成した。
比較例1〜2と同様にポリビニルブチラール(商品名:
XYHL、ユニオンカーバイドプラスチック社製)にし
た以外は実施例3と同様にして感光体を作成した。
比較例4
電荷発生層用塗工液のラウリン酸ジェタノールアミドを
比較例1〜2と同様にポリビニルブチラール(商品名:
XYHL、ユニオンカーバイドプラスチック社製)にし
た以外は実施例4と同様にして感光体を作成した。
比較例1〜2と同様にポリビニルブチラール(商品名:
XYHL、ユニオンカーバイドプラスチック社製)にし
た以外は実施例4と同様にして感光体を作成した。
比較例5
電荷発生層用塗工液のラウリン酸ジェタノールアミドを
比較例1〜2と同様にポリエステル(商品名:バイロン
200.東洋紡社製)にした以外は実施例2と同様にし
て感光体を作成した。
比較例1〜2と同様にポリエステル(商品名:バイロン
200.東洋紡社製)にした以外は実施例2と同様にし
て感光体を作成した。
比較例6
電荷発生層用塗工液作成時のラウリン酸ジェタノールア
ミドの0.78重量%シクロヘキサノン溶液をポリビニ
ルブチラール(商品名:XYHL、ユニオンカーバイド
プラスチック社製)の5.88重量%シクロヘキサノン
溶液にした以外は実施例1と同様にして感光体を作成し
た。
ミドの0.78重量%シクロヘキサノン溶液をポリビニ
ルブチラール(商品名:XYHL、ユニオンカーバイド
プラスチック社製)の5.88重量%シクロヘキサノン
溶液にした以外は実施例1と同様にして感光体を作成し
た。
比較例7
電荷発生層用塗工液作成時のラウリン酸ジェタノールア
ミドをリン酸トリステアリルエステルにした以外は実施
例2と同様にして感光体を作成した。
ミドをリン酸トリステアリルエステルにした以外は実施
例2と同様にして感光体を作成した。
比較例8
電荷発生層用塗工液の作成時に使用したメチルエチルケ
トン90重量部をポリエステル樹脂(商品名:バイロン
200.東洋紡社製)の4重量2メチルエチルケトン溶
液90重量部とした以外は実施例5と同様にして感光体
を作成した。
トン90重量部をポリエステル樹脂(商品名:バイロン
200.東洋紡社製)の4重量2メチルエチルケトン溶
液90重量部とした以外は実施例5と同様にして感光体
を作成した。
以上の様にして作成した電子写真用感光体を、静電複写
紙試験装置(川口電機製作所■、SP 428型)を使
用して、次の様に電子写真特性を評価した。まず、各感
光体に一6KVのコロナ放電を20秒間行なって、その
間にコロナ放電開始2秒後の帯電電位V2(volt)
を測定し、その後、暗所で放電して表面電位が一800
vになった時点でタングステン光を照射して1表面型位
が一400vに光減衰するのに必要な露光量5(lux
5ee)を求めた。その後、色温度2856@にのタ
ングステン光を100000 lux see照射の後
、再び前記と同様に光疲労後のits電位V、’ (v
olt)及び露光量S’ (lux 5ee)を求めた
。以上の結果を表−1に示す・ なお、第2図のタイプ感光体は+7KVのコロナ放電を
20秒間行なって、その間にコロナ放電開始後の帯電4
位v2を測定し、その後、暗所に放置して表面電位が+
800Vになった時点でタングステン光を照射して表面
電位が+80Vに減衰するのに必要な露光量Sを求めた
。その後前記と同様に100001ux see照射後
、光疲労後の帯電4位V、I及び露光量S′を求めた。
紙試験装置(川口電機製作所■、SP 428型)を使
用して、次の様に電子写真特性を評価した。まず、各感
光体に一6KVのコロナ放電を20秒間行なって、その
間にコロナ放電開始2秒後の帯電電位V2(volt)
を測定し、その後、暗所で放電して表面電位が一800
vになった時点でタングステン光を照射して1表面型位
が一400vに光減衰するのに必要な露光量5(lux
5ee)を求めた。その後、色温度2856@にのタ
ングステン光を100000 lux see照射の後
、再び前記と同様に光疲労後のits電位V、’ (v
olt)及び露光量S’ (lux 5ee)を求めた
。以上の結果を表−1に示す・ なお、第2図のタイプ感光体は+7KVのコロナ放電を
20秒間行なって、その間にコロナ放電開始後の帯電4
位v2を測定し、その後、暗所に放置して表面電位が+
800Vになった時点でタングステン光を照射して表面
電位が+80Vに減衰するのに必要な露光量Sを求めた
。その後前記と同様に100001ux see照射後
、光疲労後の帯電4位V、I及び露光量S′を求めた。
第1図−第3図は本発明に係る種々の電子写真用感光体
の模式断面図である。 1;電荷発生層 2;電荷移動層 3;導電性支持体 4;下引層
の模式断面図である。 1;電荷発生層 2;電荷移動層 3;導電性支持体 4;下引層
Claims (1)
- (1)導電性支持体上に電荷発生物質を分散した層を少
なくとも有する電子写真用感光体において、電荷発生物
質を分散した層が電荷発生物質とN−アルキロールカル
ボン酸アミドとからなることを特徴とする電子写真用感
光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62044642A JP2585571B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62044642A JP2585571B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 電子写真用感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63210935A true JPS63210935A (ja) | 1988-09-01 |
JP2585571B2 JP2585571B2 (ja) | 1997-02-26 |
Family
ID=12697084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62044642A Expired - Fee Related JP2585571B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2585571B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5868750A (ja) * | 1981-10-21 | 1983-04-23 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造法 |
-
1987
- 1987-02-27 JP JP62044642A patent/JP2585571B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5868750A (ja) * | 1981-10-21 | 1983-04-23 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2585571B2 (ja) | 1997-02-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |