JP2585571B2 - 電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体Info
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- JP2585571B2 JP2585571B2 JP62044642A JP4464287A JP2585571B2 JP 2585571 B2 JP2585571 B2 JP 2585571B2 JP 62044642 A JP62044642 A JP 62044642A JP 4464287 A JP4464287 A JP 4464287A JP 2585571 B2 JP2585571 B2 JP 2585571B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0503—Inert supplements
- G03G5/051—Organic non-macromolecular compounds
-
- G—PHYSICS
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- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
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- G03G5/0514—Organic non-macromolecular compounds not comprising cyclic groups
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、電荷発生物質を分散した層を有する電子写
真用感光体の改良に関する。
真用感光体の改良に関する。
従来より、電荷発生物質と共に各種の樹脂を配合させ
た電荷発生層を設けた電子写真用感光体は知られてい
る。このような例としては、ポリビニルブチラール（特
開昭58−105154号）、脂肪酸セルロースエステル（特開
昭58−166353号）、Tgが70℃以下で酸価数10〜40のアク
リル樹脂（特開昭58−192040号）、Tgが70℃以下の樹脂
と、Tgが75℃以上の樹脂を混合したもの（特開昭58−19
3549号）、電荷発生物質−樹脂−溶剤の系に相溶性のよ
り低い樹脂−溶剤系を加えて再分散したもの（特開昭56
−12646号）、ポリビニルピロリドン（特開昭56−11314
0号）、ポリビニルホルマール樹脂（特開昭61−235844
号）等の樹脂を用いたものが挙げられる。
た電荷発生層を設けた電子写真用感光体は知られてい
る。このような例としては、ポリビニルブチラール（特
開昭58−105154号）、脂肪酸セルロースエステル（特開
昭58−166353号）、Tgが70℃以下で酸価数10〜40のアク
リル樹脂（特開昭58−192040号）、Tgが70℃以下の樹脂
と、Tgが75℃以上の樹脂を混合したもの（特開昭58−19
3549号）、電荷発生物質−樹脂−溶剤の系に相溶性のよ
り低い樹脂−溶剤系を加えて再分散したもの（特開昭56
−12646号）、ポリビニルピロリドン（特開昭56−11314
0号）、ポリビニルホルマール樹脂（特開昭61−235844
号）等の樹脂を用いたものが挙げられる。
しかしながら、従来公知の感光体にあっては、電荷発
生物質とバインダー樹脂の混合比によって感度と前露光
疲労に対する帯電性が異なるという問題があった。
生物質とバインダー樹脂の混合比によって感度と前露光
疲労に対する帯電性が異なるという問題があった。
即ち、従来の感光体は電荷発生物質に対するバインダ
ー樹脂の使用量を少くすると感度を増大することができ
るが、前露光疲労に対する帯電性の低下が著しくなり、
逆に電荷発生物質に対するバインダー樹脂の使用量を多
くすると前露光疲労に対する帯電性の低下を抑制できる
が、感度が著しく低下するという問題点を包含する。
ー樹脂の使用量を少くすると感度を増大することができ
るが、前露光疲労に対する帯電性の低下が著しくなり、
逆に電荷発生物質に対するバインダー樹脂の使用量を多
くすると前露光疲労に対する帯電性の低下を抑制できる
が、感度が著しく低下するという問題点を包含する。
また、従来の感光体は帯電と露光の繰り返しにおいて
帯電電位の低下が著しいという欠点も有している。
帯電電位の低下が著しいという欠点も有している。
本発明は、高感度であるとともに前露光疲労による帯
電性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返
しにおいても帯電電位が低下しない電子写真用感光体を
提供することを目的とする。
電性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返
しにおいても帯電電位が低下しない電子写真用感光体を
提供することを目的とする。
本発明によれば、導電性支持体上に電荷発生物質を分
散した層を少なくとも有する電子写真用感光体におい
て、電荷発生物質を分散した層が電荷発生物質とＮ−ア
ルキロールカルボン酸アミドからなることを特徴とする
電子写真用感光体が提供される。
散した層を少なくとも有する電子写真用感光体におい
て、電荷発生物質を分散した層が電荷発生物質とＮ−ア
ルキロールカルボン酸アミドからなることを特徴とする
電子写真用感光体が提供される。
すなわち、本発明によれば、非イオン界面活性剤をＮ
−アルキロールカルボン酸アミドに特定することによ
り、電荷発生物質を分散した層に従来用いられてきた結
着剤を用いることなく、電荷発生物質を分散した層が電
荷発生物質とＮ−アルキロールカルボン酸アミドとから
なることとした電子写真用感光体が提供される。
−アルキロールカルボン酸アミドに特定することによ
り、電荷発生物質を分散した層に従来用いられてきた結
着剤を用いることなく、電荷発生物質を分散した層が電
荷発生物質とＮ−アルキロールカルボン酸アミドとから
なることとした電子写真用感光体が提供される。
本発明の電子写真用感光体の電荷発生物質を分散した
層を電荷発生物質とＮ−アルキロールカルボン酸アミド
により構成したことにより、電子写真感光体を高感度の
ものとし、前露光疲労による帯電性の低下を著しく小さ
くすることができ、しかも帯電と露光の繰り返しにおい
ても帯電電位の低下を防ぐことができるという従来知ら
れていなかった電子写真感光体を作り出すことができた
ものである。
層を電荷発生物質とＮ−アルキロールカルボン酸アミド
により構成したことにより、電子写真感光体を高感度の
ものとし、前露光疲労による帯電性の低下を著しく小さ
くすることができ、しかも帯電と露光の繰り返しにおい
ても帯電電位の低下を防ぐことができるという従来知ら
れていなかった電子写真感光体を作り出すことができた
ものである。
従来から電子写真感光体には結着剤を用いることが不
可欠とされ、その作用は電荷発生物質の露光疲労による
帯電性の低下を抑制するものであるとされてきたが、前
述のように本発明では結着剤を用いなくても、Ｎ−アル
キロールカルボン酸アミドを特定して用いることにより
前露光疲労による帯電性の低下を小さくすることを可能
とすると共に帯電と露光の繰り返しによる帯電電位を低
下させないことを可能としたものである。本発明で用い
られるＮ−アルキロールカルボン酸アミドは電荷発生に
際し感度を向上せしめるという従来の非イオン界面活性
剤がはたしてきた作用とは相違する前述の従来知られて
いなかった作用をはたしているものと考えられる。一般
に、高感度の電子写真用感光体は帯電及び露光を繰返す
ことによって、その帯電性が低下する、いわゆる露光疲
労という現象が発生する。この露光疲労は光吸収によっ
て発生した電荷が、移動可能な状態で感光体に残留して
いる時間が長いほど、またその電荷数が多いほど、露光
疲労による帯電性の低下が著しくなる。即ち、光吸収に
よって発生した電荷が残留している状態においては、さ
らに露光することによる帯電操作を行っても残留するキ
ャリアの移動のために、表面電荷が中和されるため、残
留電位が消費されるまで表面電位は上昇しない現象がお
こる。したがって、露光疲労分だけ表面電位の上昇が遅
くなり、見かけ上の帯電電位が低くなるとされている。
可欠とされ、その作用は電荷発生物質の露光疲労による
帯電性の低下を抑制するものであるとされてきたが、前
述のように本発明では結着剤を用いなくても、Ｎ−アル
キロールカルボン酸アミドを特定して用いることにより
前露光疲労による帯電性の低下を小さくすることを可能
とすると共に帯電と露光の繰り返しによる帯電電位を低
下させないことを可能としたものである。本発明で用い
られるＮ−アルキロールカルボン酸アミドは電荷発生に
際し感度を向上せしめるという従来の非イオン界面活性
剤がはたしてきた作用とは相違する前述の従来知られて
いなかった作用をはたしているものと考えられる。一般
に、高感度の電子写真用感光体は帯電及び露光を繰返す
ことによって、その帯電性が低下する、いわゆる露光疲
労という現象が発生する。この露光疲労は光吸収によっ
て発生した電荷が、移動可能な状態で感光体に残留して
いる時間が長いほど、またその電荷数が多いほど、露光
疲労による帯電性の低下が著しくなる。即ち、光吸収に
よって発生した電荷が残留している状態においては、さ
らに露光することによる帯電操作を行っても残留するキ
ャリアの移動のために、表面電荷が中和されるため、残
留電位が消費されるまで表面電位は上昇しない現象がお
こる。したがって、露光疲労分だけ表面電位の上昇が遅
くなり、見かけ上の帯電電位が低くなるとされている。
本発明者らは、この点を改善すべく鋭意検討したもの
であり、電荷発生物質を分散した層に結着剤を存在させ
ることなくＮ−アルキロールカルボン酸アミドを含有さ
せると、露光疲労による帯電電位の低下が解消されるこ
とを新しく見い出したものである。
であり、電荷発生物質を分散した層に結着剤を存在させ
ることなくＮ−アルキロールカルボン酸アミドを含有さ
せると、露光疲労による帯電電位の低下が解消されるこ
とを新しく見い出したものである。
本発明がこのような顕著な作用効果を有する理由は現
地点では必ずしも明らかでないが、電荷発生物質にＮ−
アルキロールカルボン酸アミドが化学吸着され、光吸収
によって発生した電荷は再結合されるため、前露光疲労
で発生した電荷が速やかに再結合し、その電荷を消失す
ることによって感光体の帯電電位の低下が抑制されるこ
とに帰因するものと思われる。
地点では必ずしも明らかでないが、電荷発生物質にＮ−
アルキロールカルボン酸アミドが化学吸着され、光吸収
によって発生した電荷は再結合されるため、前露光疲労
で発生した電荷が速やかに再結合し、その電荷を消失す
ることによって感光体の帯電電位の低下が抑制されるこ
とに帰因するものと思われる。
更に、前記のような前露光疲労に対する効果は、帯電
と露光を繰り返す実際の使用時においても同様に発現す
るため、本発明に係る電子写真用感光体は、従来のもの
と比較して、帯電と露光との繰り返しにおいても、帯電
電位の低下を著しく小さくすることを可能にしたもので
ある。
と露光を繰り返す実際の使用時においても同様に発現す
るため、本発明に係る電子写真用感光体は、従来のもの
と比較して、帯電と露光との繰り返しにおいても、帯電
電位の低下を著しく小さくすることを可能にしたもので
ある。
以下、添付図面に沿って本発明をさらに詳細に説明す
る。
る。
第１図〜第３図は本発明の電子写真用感光体の代表的
な層構成を説明する図面である。
な層構成を説明する図面である。
第１図は、導電性支持体３上に、電荷発生層１および
電荷移動層２が順次積層されたものであり、第２図は第
１図の電荷発生層１と電荷移動層２の積層順位を逆にし
たものであり、電荷発生層１の形成は、電荷移動層２を
乱さない様な塗工方法例えばスプレー塗工法等が採用さ
れる。
電荷移動層２が順次積層されたものであり、第２図は第
１図の電荷発生層１と電荷移動層２の積層順位を逆にし
たものであり、電荷発生層１の形成は、電荷移動層２を
乱さない様な塗工方法例えばスプレー塗工法等が採用さ
れる。
第３図は、第１図において、導電性支持体３と電荷発
生層１との間に下引層４を設けたものである。
生層１との間に下引層４を設けたものである。
下引層はレーザープリンター用感光体における光干渉
防止を目的とする場合は、光散乱性下引層又は光吸収性
下引層が用いられ、接着性・可撓性を目的とする場合は
接着性の良好なポリアミド、ポリエステル、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール等の樹脂
下引層が用いられる。
防止を目的とする場合は、光散乱性下引層又は光吸収性
下引層が用いられ、接着性・可撓性を目的とする場合は
接着性の良好なポリアミド、ポリエステル、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール等の樹脂
下引層が用いられる。
つぎに、本発明で用いられる各構成材料について説明
する。
する。
導電性支持体とは、帯電電荷と逆極性の電荷を基体側
に供給することを目的とするものであって、電気抵抗が
108Ωcm以下で、かつ電荷発生層、電荷移動層更には下
引層の成膜条件に耐えられるものを使用することができ
る。これらの例としては、Al、Ni、Cr、Zn、ステンレス
等の電気伝導性の金属および合金並びにガラス、セラミ
ックス等の無機絶縁物質およびポリエステル、ポリイミ
ド、フェノール樹脂、ナイロン樹脂、紙等の有機絶縁性
物質の表面を、真空蒸着、スパッタリング、吹付塗装等
の方法によって、Al、Ni、Cr、Zn、ステンレス、炭素、
SnO2、In2O3等の電気導電性物質を被服して導電処理を
行なったもの等があげられる。
に供給することを目的とするものであって、電気抵抗が
108Ωcm以下で、かつ電荷発生層、電荷移動層更には下
引層の成膜条件に耐えられるものを使用することができ
る。これらの例としては、Al、Ni、Cr、Zn、ステンレス
等の電気伝導性の金属および合金並びにガラス、セラミ
ックス等の無機絶縁物質およびポリエステル、ポリイミ
ド、フェノール樹脂、ナイロン樹脂、紙等の有機絶縁性
物質の表面を、真空蒸着、スパッタリング、吹付塗装等
の方法によって、Al、Ni、Cr、Zn、ステンレス、炭素、
SnO2、In2O3等の電気導電性物質を被服して導電処理を
行なったもの等があげられる。
電荷発生物質を分散した層は、第１図、第２図及び第
３図のように積層型感光層における電荷発生層として構
成され、電荷発生物質とＮ−アルキロールカルボン酸ア
ミドから形成される。
３図のように積層型感光層における電荷発生層として構
成され、電荷発生物質とＮ−アルキロールカルボン酸ア
ミドから形成される。
Ｎ−アルキロールカルボン酸アミドとしては、下記一
般式（Ｉ）及び一般式（II）で示される化合物が好まし
く用いられる。
般式（Ｉ）及び一般式（II）で示される化合物が好まし
く用いられる。
（式中、Ｒは炭素数６以上の炭化水素基、Ａは−C2H4O
−、−C3H6O−、−C4H8O−等のオキシアルキレン基、
ｌ、ｍ、ｎは１以上の正の整数を表わす。） 一般式（Ｉ）及び一般式（II）で示される化合物は、
例えば、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、アラキン酸、
ベヘン酸、パルミトレン酸、オレイン酸、エルカ酸、２
−メチルドデカン酸、イソステアリン酸等のカルボン酸
のアミドにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド
あるいはブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイド
を付加することによって合成される。
−、−C3H6O−、−C4H8O−等のオキシアルキレン基、
ｌ、ｍ、ｎは１以上の正の整数を表わす。） 一般式（Ｉ）及び一般式（II）で示される化合物は、
例えば、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、アラキン酸、
ベヘン酸、パルミトレン酸、オレイン酸、エルカ酸、２
−メチルドデカン酸、イソステアリン酸等のカルボン酸
のアミドにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド
あるいはブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイド
を付加することによって合成される。
本発明で好ましく用いられる一般式（Ｉ）の化合物の
具体例としては、例えば、三洋化成（株）製のプロファ
ンME−20、プロファンAD−31、プロファンAB−20、プロ
ファンSME等が挙げられ、また一般式（II）の化合物の
具体例としては、三洋化成（株）製のプロファンエキス
トラ24、プロファンAA−62EX、プロファン128エキスト
ラ、日本油脂（株）製のスタホームＦ、スタホームDL、
スタホームDFシリーズ等が挙げられる。
具体例としては、例えば、三洋化成（株）製のプロファ
ンME−20、プロファンAD−31、プロファンAB−20、プロ
ファンSME等が挙げられ、また一般式（II）の化合物の
具体例としては、三洋化成（株）製のプロファンエキス
トラ24、プロファンAA−62EX、プロファン128エキスト
ラ、日本油脂（株）製のスタホームＦ、スタホームDL、
スタホームDFシリーズ等が挙げられる。
Ｎ−アルキロールカルボン酸アミドの使用量は、後記
する電荷発生物質１重量部に対して0.001〜２重量部、
好ましくは0.111〜１重量部である。
する電荷発生物質１重量部に対して0.001〜２重量部、
好ましくは0.111〜１重量部である。
その使用量が上記範囲外であると、本発明の所期の目
的が充分に発揮されない。
的が充分に発揮されない。
電荷発生物質としては、例えば、シーアイピグメント
ブルー25〔カラーインデックス（CI）21180〕、シーア
イピグメントレッド41（CI 21200）、シーアイアシッド
レッド52（CI 45100）、シーアイベーシックレッド３
（CI 45210）、さらに、ポリフィリン骨格を有するフタ
ロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクアリック
塩顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭53
−95033号公報に記載）、スチルスチルベン骨格を有す
るアゾ顔料（特開昭53−138229号公報に記載）、トリフ
ェニルアミン骨格を有するアゾ顔料（特開昭53−132547
号公報に記載）、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ
顔料（特開昭54−21728号公報に記載）、オキサジアゾ
ール骨格を有するアゾ顔料（特開昭54−12742号公報に
記載）、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料（特開昭54
−22834号公報に記載）、ビススチルベン骨格を有する
アゾ顔料（特開昭54−17733号公報に記載）、ジスチリ
ルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭54−
2129号公報に記載）、ジスチリルカルバゾール骨格を有
するアゾ顔料（特開昭54−17734号公報に記載）、カル
バゾール骨格を有するトリアゾ顔料（特開昭57−195767
号公報、同57−195768号公報に記載）等、さらに、シー
アイピグメントブルー16（CI 74100）等のフタロシアニ
ン系顔料、シーアイバットブラウン５（CI 73410）、シ
ーアイバットダイ（CI 73030）等のインジゴ系顔料、ア
ルゴスカーレットＢ（バイオレット社製）、インダスレ
ンスカーレットＲ（バイエル社製）等のペリレン系顔料
等の有機顔料を使用することができる。
ブルー25〔カラーインデックス（CI）21180〕、シーア
イピグメントレッド41（CI 21200）、シーアイアシッド
レッド52（CI 45100）、シーアイベーシックレッド３
（CI 45210）、さらに、ポリフィリン骨格を有するフタ
ロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクアリック
塩顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭53
−95033号公報に記載）、スチルスチルベン骨格を有す
るアゾ顔料（特開昭53−138229号公報に記載）、トリフ
ェニルアミン骨格を有するアゾ顔料（特開昭53−132547
号公報に記載）、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ
顔料（特開昭54−21728号公報に記載）、オキサジアゾ
ール骨格を有するアゾ顔料（特開昭54−12742号公報に
記載）、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料（特開昭54
−22834号公報に記載）、ビススチルベン骨格を有する
アゾ顔料（特開昭54−17733号公報に記載）、ジスチリ
ルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭54−
2129号公報に記載）、ジスチリルカルバゾール骨格を有
するアゾ顔料（特開昭54−17734号公報に記載）、カル
バゾール骨格を有するトリアゾ顔料（特開昭57−195767
号公報、同57−195768号公報に記載）等、さらに、シー
アイピグメントブルー16（CI 74100）等のフタロシアニ
ン系顔料、シーアイバットブラウン５（CI 73410）、シ
ーアイバットダイ（CI 73030）等のインジゴ系顔料、ア
ルゴスカーレットＢ（バイオレット社製）、インダスレ
ンスカーレットＲ（バイエル社製）等のペリレン系顔料
等の有機顔料を使用することができる。
これら電荷発生物質の中でも特にアゾ顔料が好適であ
り、更にアゾ顔料の中でも以下に示すジスアゾ顔料ある
いはトリスアゾ顔料が最も好ましい。
り、更にアゾ顔料の中でも以下に示すジスアゾ顔料ある
いはトリスアゾ顔料が最も好ましい。
アゾ顔料の具体例を以下に示す。
電荷発生層１の膜厚は、0.05〜２μｍ程度が適当であ
り、好ましくは0.1〜１μｍである。
り、好ましくは0.1〜１μｍである。
電荷発生層１は、適当な溶剤にＮ−アルキロールカル
ボン酸アミドおよび電荷発生物質を溶解ないし分散し、
これを塗布、乾燥することによって形成できる。溶剤と
して、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレン、
ジクロルエタン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブなどを単独または混
合して用いることができる。
ボン酸アミドおよび電荷発生物質を溶解ないし分散し、
これを塗布、乾燥することによって形成できる。溶剤と
して、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレン、
ジクロルエタン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブなどを単独または混
合して用いることができる。
電荷移動層２は、電荷移動物質および樹脂バインダー
を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層１
上に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要
により可塑剤やレベリング剤等を添加することもでき
る。
を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層１
上に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要
により可塑剤やレベリング剤等を添加することもでき
る。
電荷移動物質としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ルおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグ
ルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒ
ド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビ
ニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジア
ゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミ
ン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）アント
ラセン、1,1−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニ
ル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾ
リン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン
誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。
ルおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグ
ルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒ
ド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビ
ニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジア
ゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミ
ン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）アント
ラセン、1,1−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニ
ル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾ
リン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン
誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。
樹脂バインダーとしては、ポリスチレン、スチレン−
アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重
合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステ
ル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリ
レート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸
セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエ
ン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シ
リコン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹
脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性また
は熱硬化性樹脂が挙げられる。
アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重
合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステ
ル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリ
レート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸
セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエ
ン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シ
リコン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹
脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性また
は熱硬化性樹脂が挙げられる。
このときの溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、トルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタ
ン、塩化メチレン等が使用できる。
キサン、トルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタ
ン、塩化メチレン等が使用できる。
電荷移動層２の厚さは、５〜100μｍ程度が適当であ
る。
る。
更に、本発明においては、前記したように導電性支持
体と感光層の間に必要により下引層を設けることができ
る。
体と感光層の間に必要により下引層を設けることができ
る。
光散乱性下引層及び光吸収性下引層は前述の様にプリ
ンター用感光体における光干渉防止を目的とする層であ
る。光散乱性下引層は、例えば酸化スズ、酸化アンチモ
ン等の導電性粉体と酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化チタン等
の白色顔料とを下記の様な熱硬化性樹脂中に分散して構
成され、また光吸収性下引層は、例えば炭素、各種金属
等の導電性光吸収性顔料及び／又は光吸収性有機顔料を
同様な熱硬化性樹脂中に分散して構成される。ここで使
用される熱硬化性樹脂は例えば、活性水素（−OH基、−
NH2基、−NH基等の水素）を複数個含有する化合物とイ
ソシアネート基を複数個含有する化合物及び／又はエポ
キシ基を複数個含有する化合物とを熱重合させたもので
ある。活性水素を複数個含有する化合物としては、例え
ばポリビニルブチラール、フェノキシ樹脂、フェノール
樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコ
ール、ヒドロキシエチルメタアクリレート基等の活性水
素を含有するアクリル系樹脂等があげられる。イソシア
ネート基を複数個含有する化合物としては、たとえば、
トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等とこれら
のプレポリマー等があげられ、エポキシ基を複数有する
化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂等が
あげられる。
ンター用感光体における光干渉防止を目的とする層であ
る。光散乱性下引層は、例えば酸化スズ、酸化アンチモ
ン等の導電性粉体と酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化チタン等
の白色顔料とを下記の様な熱硬化性樹脂中に分散して構
成され、また光吸収性下引層は、例えば炭素、各種金属
等の導電性光吸収性顔料及び／又は光吸収性有機顔料を
同様な熱硬化性樹脂中に分散して構成される。ここで使
用される熱硬化性樹脂は例えば、活性水素（−OH基、−
NH2基、−NH基等の水素）を複数個含有する化合物とイ
ソシアネート基を複数個含有する化合物及び／又はエポ
キシ基を複数個含有する化合物とを熱重合させたもので
ある。活性水素を複数個含有する化合物としては、例え
ばポリビニルブチラール、フェノキシ樹脂、フェノール
樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコ
ール、ヒドロキシエチルメタアクリレート基等の活性水
素を含有するアクリル系樹脂等があげられる。イソシア
ネート基を複数個含有する化合物としては、たとえば、
トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等とこれら
のプレポリマー等があげられ、エポキシ基を複数有する
化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂等が
あげられる。
いずれにしても光散乱性又は光吸収性下引層は以上の
様な成分を溶解又は分散した液を基体上に塗布し、50〜
200℃で熱重合させて形成される。なおこの下引層の厚
さは１〜10μｍが適当である。また導電性粉末と白色顔
料と前記熱硬化性樹脂との重量比は２〜6/1〜5/2〜６が
適当であり、また光吸収性顔料と前記熱硬化性樹脂との
重量比は４〜9/1〜６が適当である。
様な成分を溶解又は分散した液を基体上に塗布し、50〜
200℃で熱重合させて形成される。なおこの下引層の厚
さは１〜10μｍが適当である。また導電性粉末と白色顔
料と前記熱硬化性樹脂との重量比は２〜6/1〜5/2〜６が
適当であり、また光吸収性顔料と前記熱硬化性樹脂との
重量比は４〜9/1〜６が適当である。
本発明の電子写真用感光体は、電荷発生物質を分散し
た層が電荷発生物質とＮ−アルキロールカルボン酸アミ
ドから構成されているので、高感度であるとともに前露
光疲労による帯電性の低下が著しく小さく、しかも帯電
と露光の繰り返しにおいても帯電電位が低下しないとい
う顕著な作用効果を奏する。
た層が電荷発生物質とＮ−アルキロールカルボン酸アミ
ドから構成されているので、高感度であるとともに前露
光疲労による帯電性の低下が著しく小さく、しかも帯電
と露光の繰り返しにおいても帯電電位が低下しないとい
う顕著な作用効果を奏する。
以下、実施例により本発明を詳細に説明する。
実施例１ 〔電荷発生層用塗工液〕 表−１に示すアゾ顔料（顔料No.1）５重量部とラウリ
ン酸ジエタノールアミド〔スタホームDL、日本油脂
（株）〕の0.78重量％シクロヘキサノン溶液160重量部
とを72時間ボールミルで混合して顔料分散液を得、つい
でこの顔料分散液100重量部に、攪拌しながら、メチル
エチルケトン90重量部を追加混合して電荷発生層塗工液
とした。
ン酸ジエタノールアミド〔スタホームDL、日本油脂
（株）〕の0.78重量％シクロヘキサノン溶液160重量部
とを72時間ボールミルで混合して顔料分散液を得、つい
でこの顔料分散液100重量部に、攪拌しながら、メチル
エチルケトン90重量部を追加混合して電荷発生層塗工液
とした。
α−フェニルスチルベン系電荷移動物質 （下記の化合物） 100重量部 ポリカーボネート （商品名、パンライトC1400:帝人（株）） 100重量部 シリコン油（商品名、KF50:信越シリコーン（株）） 0.1重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 つぎに、Alを真空蒸着した75μｍのポリエステルフィ
ルム基板上に上記の電荷発生層用塗工液をブレード塗工
し、120℃で10分間加熱乾燥して約0.2μｍの電荷発生層
を形成した。ついで、電荷発生層の上に上記組成の電荷
移動層用塗工液をブレード塗工し、120℃で20分間加熱
乾燥して約20μｍの電荷移動層を形成し感光体を作成し
た。
ルム基板上に上記の電荷発生層用塗工液をブレード塗工
し、120℃で10分間加熱乾燥して約0.2μｍの電荷発生層
を形成した。ついで、電荷発生層の上に上記組成の電荷
移動層用塗工液をブレード塗工し、120℃で20分間加熱
乾燥して約20μｍの電荷移動層を形成し感光体を作成し
た。
実施例２ 電荷発生層塗工液のアゾ顔料を顔料No.39に代えた以
外は実施例１と同様にして感光体を作成した。
外は実施例１と同様にして感光体を作成した。
実施例３ Alを真空蒸着した75μｍのポリエステルフィルム基板
上に実施例１で用いた電荷移動層用塗工液を実施例１と
同様にしてブレード塗工し、ついで乾燥して約20μｍの
電荷移動層を形成した。ついで、この電荷移動層の上に
実施例１で用いた電荷発生層用塗工液をスプレー塗工
し、120℃で30分間加熱乾燥して約0.2μｍの電荷発生層
を形成し感光体を作成した。
上に実施例１で用いた電荷移動層用塗工液を実施例１と
同様にしてブレード塗工し、ついで乾燥して約20μｍの
電荷移動層を形成した。ついで、この電荷移動層の上に
実施例１で用いた電荷発生層用塗工液をスプレー塗工
し、120℃で30分間加熱乾燥して約0.2μｍの電荷発生層
を形成し感光体を作成した。
実施例４ 電荷移動層用塗工液のα−フェニルスチルベン化合物
を下記構造の化合物に変更した以外は実施例１と同様に
して感光体を作成した。
を下記構造の化合物に変更した以外は実施例１と同様に
して感光体を作成した。
実施例５ 実施例２の電荷発生層用塗工液のラウリン酸ジエタノ
ールアミドをステアリン酸モノエタノールアミド〔プロ
ファンSME、三洋化成（株）〕に代えた以外は実施例２
と同様にして感光体を作成した。
ールアミドをステアリン酸モノエタノールアミド〔プロ
ファンSME、三洋化成（株）〕に代えた以外は実施例２
と同様にして感光体を作成した。
実施例６ 酸化アンチモン10重量％を含有する酸化スズの微粉８
重量部と酸化チタン白色顔料粉末５重量部とポリビニル
ブチラール（商品名:BL−１、積水化学社製）の12重量
％メチルエチルケトン溶液68重量部とを72時間ボールミ
ルで処理し、次にメチルエチルケトン47重量部を追加し
て48時間再びボールミルで処理した。次にこの顔料分散
液80重量部を攪拌しながら８重量部のトリレンジイソシ
アネートの20重量％メチルエチルケトン溶液を追加混合
して光散乱用下引層塗工液とした。
重量部と酸化チタン白色顔料粉末５重量部とポリビニル
ブチラール（商品名:BL−１、積水化学社製）の12重量
％メチルエチルケトン溶液68重量部とを72時間ボールミ
ルで処理し、次にメチルエチルケトン47重量部を追加し
て48時間再びボールミルで処理した。次にこの顔料分散
液80重量部を攪拌しながら８重量部のトリレンジイソシ
アネートの20重量％メチルエチルケトン溶液を追加混合
して光散乱用下引層塗工液とした。
つぎに、Alを真空蒸着した75μｍのポリエステルフィ
ルム基板上に上記光散乱用下引層塗工液をブレード塗工
し、120℃で30分間加熱硬化して約2.5μｍの光散乱用下
引層を形成した。
ルム基板上に上記光散乱用下引層塗工液をブレード塗工
し、120℃で30分間加熱硬化して約2.5μｍの光散乱用下
引層を形成した。
次に、この光散乱用下引層の上に実施例２と同様にし
て電荷発生層及び電荷移動層を形成した感光体を作成し
た。
て電荷発生層及び電荷移動層を形成した感光体を作成し
た。
比較例１〜２ 電荷発生層用塗工液のラウリン酸ジエタノールアミド
をポリビニルブチラール（商品名:XYHL、ユニオンカー
バイドプラスチック社製）にし、ポリビニルブチラール
の0.78重量％溶液で顔料分散液を作成した以外は各々実
施例１〜２と同様にして感光体を作成した。
をポリビニルブチラール（商品名:XYHL、ユニオンカー
バイドプラスチック社製）にし、ポリビニルブチラール
の0.78重量％溶液で顔料分散液を作成した以外は各々実
施例１〜２と同様にして感光体を作成した。
比較例３ 電荷発生層用塗工液のアルリン酸ジエタノールアミド
を比較例１〜２と同様にポリビニルブチラール（商品
名:XYHL、ユニオンカーバイドプラスチック社製）にし
た以外は実施例３と同様にして感光体を作成した。
を比較例１〜２と同様にポリビニルブチラール（商品
名:XYHL、ユニオンカーバイドプラスチック社製）にし
た以外は実施例３と同様にして感光体を作成した。
比較例４ 電荷発生層用塗工液のラウリン酸ジエタノールアミド
を比較例１〜２と同様にポリビニルブチラール（商品
名:XYHL、ユニオンカーバイドプラスチック社製）にし
た以外は実施例４と同様にして感光体を作成した。
を比較例１〜２と同様にポリビニルブチラール（商品
名:XYHL、ユニオンカーバイドプラスチック社製）にし
た以外は実施例４と同様にして感光体を作成した。
比較例５ 電荷発生層用塗工液のラウリン酸ジエタノールアミド
を比較例１〜２と同様にポリエステル（商品名：バイロ
ン200、東洋紡社製）にした以外は実施例２と同様にし
て感光体を作成した。
を比較例１〜２と同様にポリエステル（商品名：バイロ
ン200、東洋紡社製）にした以外は実施例２と同様にし
て感光体を作成した。
比較例６ 電荷発生層用塗工液作成時のラウリン酸ジエタノール
アミドの0.78重量％シクロヘキサノン溶液をポリビニル
ブチラール（商品名:XYHL、ユニオンカーバイドプラス
チック社製）の5.88重量％シクロヘキサノン溶液にした
以外は実施例１と同様にして感光体を作成した。
アミドの0.78重量％シクロヘキサノン溶液をポリビニル
ブチラール（商品名:XYHL、ユニオンカーバイドプラス
チック社製）の5.88重量％シクロヘキサノン溶液にした
以外は実施例１と同様にして感光体を作成した。
比較例７ 電荷発生層用塗工液作成時のラウリン酸ジエタノール
アミドをリン酸トリステアリルエステルにした以外は実
施例２と同様にして感光体を作成した。
アミドをリン酸トリステアリルエステルにした以外は実
施例２と同様にして感光体を作成した。
比較例８ 電荷発層用塗工液の作成時に使用したメチルエチルケ
トン90重量部をポリエステル樹脂（商品名：バイロン20
0、東洋紡社製）の４重量％メチルエチルケトン溶液90
重量部とした以外は実施例５と同様にして感光体を作成
した。
トン90重量部をポリエステル樹脂（商品名：バイロン20
0、東洋紡社製）の４重量％メチルエチルケトン溶液90
重量部とした以外は実施例５と同様にして感光体を作成
した。
以上の様にして作成した電子写真用感光体を、静電複
写紙試験装置（川口電機製作所（株）、SP428型）を使
用して、次の様に電子写真特性を評価した。まず、各感
光体に−6KVのコロナ放電を20秒間行なって、その間に
コロナ放電開始２秒後の帯電電位V2（volt）を測定し、
その後、暗所で放電して表面電位が−800Vになった時点
でタングステン光を照射して、表面電位が−400Vに光減
衰するのに必要な露光量Ｓ（lux sec）を求めた。その
後、色温度2856゜Kのタングステン光を100000lux sec照
射の後、再び前記と同様に光疲労後の帯電電位V2′（vo
lt）及び露光量Ｓ′（lux sec）を求めた。以上の結果
を表−１に示す。
写紙試験装置（川口電機製作所（株）、SP428型）を使
用して、次の様に電子写真特性を評価した。まず、各感
光体に−6KVのコロナ放電を20秒間行なって、その間に
コロナ放電開始２秒後の帯電電位V2（volt）を測定し、
その後、暗所で放電して表面電位が−800Vになった時点
でタングステン光を照射して、表面電位が−400Vに光減
衰するのに必要な露光量Ｓ（lux sec）を求めた。その
後、色温度2856゜Kのタングステン光を100000lux sec照
射の後、再び前記と同様に光疲労後の帯電電位V2′（vo
lt）及び露光量Ｓ′（lux sec）を求めた。以上の結果
を表−１に示す。
なお、第２図のタイプ感光体は＋7KVのコロナ放電を2
0秒間行なって、その間にコロナ放電開始後の帯電々位V
2を測定し、その後、暗所に放置して表面電位が＋800V
になった時点でタングステン光を照射して表面電位が＋
400Vに減衰するのに必要な露光量Ｓを求めた。その後前
記と同様に100000lux.sec照射後、光疲労後の帯電々位V
2′及び露光量Ｓ′を求めた。
0秒間行なって、その間にコロナ放電開始後の帯電々位V
2を測定し、その後、暗所に放置して表面電位が＋800V
になった時点でタングステン光を照射して表面電位が＋
400Vに減衰するのに必要な露光量Ｓを求めた。その後前
記と同様に100000lux.sec照射後、光疲労後の帯電々位V
2′及び露光量Ｓ′を求めた。
第１図〜第３図は本発明に係る種々の電子写真用感光体
の模式断面図である。 1;電荷発生層 2;電荷移動層 3;導電性支持体 4;下引層
の模式断面図である。 1;電荷発生層 2;電荷移動層 3;導電性支持体 4;下引層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 深貝 俊夫 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株 式会社リコー内 (72)発明者 谷口 淑 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株 式会社リコー内 (56)参考文献 特開 昭58−68750（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】導電性支持体上に電荷発生物質を分散した
層を少なくとも有する電子写真用感光体において、電荷
発生物質を分散した層が電荷発生物質とＮ−アルキロー
ルカルボン酸アミドとからなることを特徴とする電子写
真用感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62044642A JP2585571B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62044642A JP2585571B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 電子写真用感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63210935A JPS63210935A (ja) | 1988-09-01 |
| JP2585571B2 true JP2585571B2 (ja) | 1997-02-26 |
Family
ID=12697084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62044642A Expired - Fee Related JP2585571B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2585571B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5868750A (ja) * | 1981-10-21 | 1983-04-23 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造法 |
-
1987
- 1987-02-27 JP JP62044642A patent/JP2585571B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63210935A (ja) | 1988-09-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |