JP2580151B2 - 電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体Info
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- JP2580151B2 JP2580151B2 JP5480587A JP5480587A JP2580151B2 JP 2580151 B2 JP2580151 B2 JP 2580151B2 JP 5480587 A JP5480587 A JP 5480587A JP 5480587 A JP5480587 A JP 5480587A JP 2580151 B2 JP2580151 B2 JP 2580151B2
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- Japan
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- layer
- resin
- charge
- weight
- bisphenol
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0567—Other polycondensates comprising oxygen atoms in the main chain; Phenol resins
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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- G03G5/043—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
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Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、電荷発生物質を分散した層を有する電子写
真用感光体の改良に関する。
真用感光体の改良に関する。
従来より、電荷発生物質と共に各種の樹脂を配合させ
た電荷発生層を設けた電子写真用感光体は知られてい
る。このような例としては、ポリビニルブチラール(特
開昭58−105154号)、脂肪酸セルロースエステル(特開
昭58−166353号)、Tgが70℃以下で酸価数10〜40のアク
リル樹脂(特開昭58−192040号)、Tgが70℃以下の樹脂
と、Tgが75℃以上の樹脂を混合したもの(特開昭58−19
3549号)、電荷発生物質−樹脂−溶剤の系に相溶性のよ
り低い樹脂−溶剤系を加えて再分散したもの(特開昭56
−12646号)、ポリビニルピロリドン(特開昭56−11314
0号)、ポリビニルホリマール樹脂(特開昭61−235844
号)等の樹脂を用いたものが挙げられる。
た電荷発生層を設けた電子写真用感光体は知られてい
る。このような例としては、ポリビニルブチラール(特
開昭58−105154号)、脂肪酸セルロースエステル(特開
昭58−166353号)、Tgが70℃以下で酸価数10〜40のアク
リル樹脂(特開昭58−192040号)、Tgが70℃以下の樹脂
と、Tgが75℃以上の樹脂を混合したもの(特開昭58−19
3549号)、電荷発生物質−樹脂−溶剤の系に相溶性のよ
り低い樹脂−溶剤系を加えて再分散したもの(特開昭56
−12646号)、ポリビニルピロリドン(特開昭56−11314
0号)、ポリビニルホリマール樹脂(特開昭61−235844
号)等の樹脂を用いたものが挙げられる。
しかしながら、従来公知の感光体にあっては、電荷発
生物質とバインダー樹脂の混合比によって感度と前露光
疲労に対する帯電性が異なるという問題があった。
生物質とバインダー樹脂の混合比によって感度と前露光
疲労に対する帯電性が異なるという問題があった。
即ち、従来の感光体は電荷発生物質に対するバインダ
ー樹脂の使用量を少くすると感度を増大することができ
るが、前露光疲労に対する帯電性の低下が著しくなり、
逆に電荷発生物質に対するバインダー樹脂の使用量を多
くすると前露光疲労に対する帯電性の低下を抑制できる
が、感度が著しく低下するという問題点を包含する。
ー樹脂の使用量を少くすると感度を増大することができ
るが、前露光疲労に対する帯電性の低下が著しくなり、
逆に電荷発生物質に対するバインダー樹脂の使用量を多
くすると前露光疲労に対する帯電性の低下を抑制できる
が、感度が著しく低下するという問題点を包含する。
また、従来の感光対は帯電と露光の繰り返しにおいて
帯電電位の低下が著しいという欠点も有している。
帯電電位の低下が著しいという欠点も有している。
本発明は、高感度であるとともに前露光疲労による帯
電性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返
しにおいても帯電電位が低下しない電子写真用感光体を
提供することを目的とする。
電性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り返
しにおいても帯電電位が低下しない電子写真用感光体を
提供することを目的とする。
本発明によれば、導電性支持体上に電荷発生物質を分
散した層を少なくとも有する電子写真用感光体におい
て、電荷発生物質を分散した層がポリオキシエチレン、
ポリオキシプロピレン又はこれらの共重合体のビスフェ
ノールAエーテルを含有することを特徴とする電子写真
用感光体が提供される。
散した層を少なくとも有する電子写真用感光体におい
て、電荷発生物質を分散した層がポリオキシエチレン、
ポリオキシプロピレン又はこれらの共重合体のビスフェ
ノールAエーテルを含有することを特徴とする電子写真
用感光体が提供される。
本発明の電子写真用感光体は、電荷発生物質を分散し
た層にポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン又は
これらの共重合体のビスフェノールAエーテルを含有さ
せたことから、高感度であるとともに前露光疲労による
帯電性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り
返しにおいても帯電電位が低下しないという顕著な作用
効果を奏する。
た層にポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン又は
これらの共重合体のビスフェノールAエーテルを含有さ
せたことから、高感度であるとともに前露光疲労による
帯電性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り
返しにおいても帯電電位が低下しないという顕著な作用
効果を奏する。
一般に、高感度の感光体は前露光疲労によって帯電性
が低下する。この前露光疲労は光吸収によって発生した
電荷が、移動可能な状態で感光体に残留している時間が
長いほど、またその電荷数が多いほど、前露光疲労によ
る帯電性の低下が著しくなる。即ち、光吸収によって発
生した電荷が残留している状態で帯電操作をしても残留
するキャリヤの移動で表面電荷が中和されるため、残留
電荷が消費されるまで表面電位は上昇しない。したがっ
て、前露光疲労分だけ表面電位の上昇が遅くなり、見か
け上の帯電電位が低くなるわけである。
が低下する。この前露光疲労は光吸収によって発生した
電荷が、移動可能な状態で感光体に残留している時間が
長いほど、またその電荷数が多いほど、前露光疲労によ
る帯電性の低下が著しくなる。即ち、光吸収によって発
生した電荷が残留している状態で帯電操作をしても残留
するキャリヤの移動で表面電荷が中和されるため、残留
電荷が消費されるまで表面電位は上昇しない。したがっ
て、前露光疲労分だけ表面電位の上昇が遅くなり、見か
け上の帯電電位が低くなるわけである。
本発明者らは、この点を改良すべく鋭意検討した結
果、電荷発生物質を分散した層にポリオキシエチレン、
ポリオキシプロピレン又はこれらの共重合体のビスフェ
ノールAエーテルを含有させると上記欠点が解消される
ことを見い出し、本発明を完成するに到った。
果、電荷発生物質を分散した層にポリオキシエチレン、
ポリオキシプロピレン又はこれらの共重合体のビスフェ
ノールAエーテルを含有させると上記欠点が解消される
ことを見い出し、本発明を完成するに到った。
本発明がこのような顕著な作用効果を有する理由は現
時点では必ずしも明らかでないが、電荷発生物質に前記
重合体のビスフェノールAエーテルが化学吸着し、光吸
収によって発生した電荷の再結合中心となるため、前露
光疲労で発生した電荷が速やかに再結合し、その電荷を
消失することによって感光体の帯電電位の低下が抑制さ
れることに帰因するものと思われる。
時点では必ずしも明らかでないが、電荷発生物質に前記
重合体のビスフェノールAエーテルが化学吸着し、光吸
収によって発生した電荷の再結合中心となるため、前露
光疲労で発生した電荷が速やかに再結合し、その電荷を
消失することによって感光体の帯電電位の低下が抑制さ
れることに帰因するものと思われる。
更に、前記のような前露光疲労に対する効果は、帯電
と露光を繰り返す実際の使用時においても同様に発現す
るため、本発明に係る電子写真用感光体は、従来のもの
と比較して、帯電と露光との繰り返しにおいても、帯電
電位の低下が著しく小さいものである。
と露光を繰り返す実際の使用時においても同様に発現す
るため、本発明に係る電子写真用感光体は、従来のもの
と比較して、帯電と露光との繰り返しにおいても、帯電
電位の低下が著しく小さいものである。
以下、添付図面に沿って本発明をさらに詳細に説明す
る。
る。
第1図〜第4図は本発明の電子写真用感光体の代表的
な層構成を説明する図面である。
な層構成を説明する図面である。
第1図は、導電性支持体3上に、電荷発生層1および
電荷移動層2が順次積層されたものであり、第2図は第
1図の電荷発生層1と電荷移動層2の積層順位を逆にし
たものであり、電荷発生層1の形成は、電荷移動層2を
乱さない様な塗工方法例えばスプレー塗工法等が採用さ
れる。
電荷移動層2が順次積層されたものであり、第2図は第
1図の電荷発生層1と電荷移動層2の積層順位を逆にし
たものであり、電荷発生層1の形成は、電荷移動層2を
乱さない様な塗工方法例えばスプレー塗工法等が採用さ
れる。
第3図は第1図〜第2図の積層型感光層とは異なり、
電荷発生機能と電荷移動機能を1つの層に持たせた単層
型感光層からなる感光体を示すものである。
電荷発生機能と電荷移動機能を1つの層に持たせた単層
型感光層からなる感光体を示すものである。
第4図は、第1図において、導電性支持体3と電荷発
生層1との間に下引層5を設けたものである。このよう
な下引層5は第2図及び第3図の構成のものにおいても
同様に適用することができる。
生層1との間に下引層5を設けたものである。このよう
な下引層5は第2図及び第3図の構成のものにおいても
同様に適用することができる。
下引層はレーザープリンター用感光体における光干渉
防止を目的とする場合は、光散乱性下引層又は光吸収性
下引層が用いられ、接着性・可撓性を目的とする場合は
接着性の良好なポリアミド、ポリエステル、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール等の樹脂
下引層が用いられる。
防止を目的とする場合は、光散乱性下引層又は光吸収性
下引層が用いられ、接着性・可撓性を目的とする場合は
接着性の良好なポリアミド、ポリエステル、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール等の樹脂
下引層が用いられる。
つぎに、本発明で用いられる各構成材料について説明
する。
する。
導電性支持体とは、帯電電荷と逆極性の電荷を基体側
に供給することを目的とするものであって、電気抵抗が
108Ωcm以下で、かつ電荷発生層、電荷移動層更には下
引層の成膜条件に耐えられるものを使用することができ
る。これらの例としては、Al、Ni、Cr、Zn、ステンレス
等の電気伝導性の金属および合金並びにガラス、セラミ
ックス等の無機絶縁物質およびポリエステル、ポリイミ
ド、フェノール樹脂、ナイロン樹脂、紙等の有機絶縁性
物質の表面を、真空蒸着、スパッタリング、吹付塗装等
の方法によって、Al、Ni、Cr、Zn、ステンレス、炭素、
SnO2、In2O3等の電気導電性物質を被服して導電処理を
行なったもの等があげられる。
に供給することを目的とするものであって、電気抵抗が
108Ωcm以下で、かつ電荷発生層、電荷移動層更には下
引層の成膜条件に耐えられるものを使用することができ
る。これらの例としては、Al、Ni、Cr、Zn、ステンレス
等の電気伝導性の金属および合金並びにガラス、セラミ
ックス等の無機絶縁物質およびポリエステル、ポリイミ
ド、フェノール樹脂、ナイロン樹脂、紙等の有機絶縁性
物質の表面を、真空蒸着、スパッタリング、吹付塗装等
の方法によって、Al、Ni、Cr、Zn、ステンレス、炭素、
SnO2、In2O3等の電気導電性物質を被服して導電処理を
行なったもの等があげられる。
電荷発生物質を分散した層は、第1図、第2図及び第
4図のように積層型感光層にあっては、電荷発生層とし
て構成され、また、第3図のような単層型感光層におい
ては、該感光層内に形成される。
4図のように積層型感光層にあっては、電荷発生層とし
て構成され、また、第3図のような単層型感光層におい
ては、該感光層内に形成される。
また、積層型感光層においては、電荷発生層は、電荷
発生物質と樹脂バインダーから構成される。
発生物質と樹脂バインダーから構成される。
本発明においては、該樹脂バインダーとしてポリオキ
シエチレン、ポリオキシプロピレン又はこれらの共重合
体のビスフェノールAエーテルを用いる。ポリオキシエ
チレンのビスフェノールAエーテルとしては、平均分子
量930〜10000のポリオキシエチレンのビスフェノールA
エーテルが挙げられ、このような化合物の具体例として
は、日本油脂(株)製のユニオールDA−350F、ユニオー
ルDA−400、ユニオールDA−700等が例示される。
シエチレン、ポリオキシプロピレン又はこれらの共重合
体のビスフェノールAエーテルを用いる。ポリオキシエ
チレンのビスフェノールAエーテルとしては、平均分子
量930〜10000のポリオキシエチレンのビスフェノールA
エーテルが挙げられ、このような化合物の具体例として
は、日本油脂(株)製のユニオールDA−350F、ユニオー
ルDA−400、ユニオールDA−700等が例示される。
ポリオキシプロピレンのビスフェノールAエーテルと
しては平均分子量940〜100000のポリオキシプロピレン
のビスフェノールAエーテルが挙げられ、このような化
合物の具体例としては、日本油脂(株)製のユニオール
DB−366、ユニオールDA400、ユニオールDB900、ユニオ
ールDB−2000等が例示される。
しては平均分子量940〜100000のポリオキシプロピレン
のビスフェノールAエーテルが挙げられ、このような化
合物の具体例としては、日本油脂(株)製のユニオール
DB−366、ユニオールDA400、ユニオールDB900、ユニオ
ールDB−2000等が例示される。
また、ポリオキシエチレンとポリオキシプロピレンと
の共重合体のビスフェノールAエーテルとしては、例え
ば日本油脂(株)製のユニオールDAB−800等が例示され
る。
の共重合体のビスフェノールAエーテルとしては、例え
ば日本油脂(株)製のユニオールDAB−800等が例示され
る。
また、本発明の電荷発生物質を分散した層は、樹脂バ
インダーとして前記重合体のビスフェノールAエーテル
を含むものであるが、必要に応じこの種の電荷発生層に
用いられる他の樹脂バインダーを併用することもでき
る。
インダーとして前記重合体のビスフェノールAエーテル
を含むものであるが、必要に応じこの種の電荷発生層に
用いられる他の樹脂バインダーを併用することもでき
る。
このような樹脂バインダーとしては、ポリスチレン、
スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、
ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リアクリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネー
ト、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
トルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹
脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレ
タン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑
性または熱硬化性樹脂が挙げられる。
スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、
ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リアクリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネー
ト、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
トルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹
脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレ
タン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑
性または熱硬化性樹脂が挙げられる。
バインダー樹脂は、その総量として電荷発生物質100
重量部に対して0.01〜200重量部用いるのが適当であ
り、好ましくは1〜50重量部である。また、ポリオキシ
エチレン、ポリオキシプロピレン又はこれらの共重合体
のビスフェノールAエーテルは電荷発生物質100重量部
に対して少なくとも0.01重量部、好ましくは1重量部以
上含有させることが必要である。
重量部に対して0.01〜200重量部用いるのが適当であ
り、好ましくは1〜50重量部である。また、ポリオキシ
エチレン、ポリオキシプロピレン又はこれらの共重合体
のビスフェノールAエーテルは電荷発生物質100重量部
に対して少なくとも0.01重量部、好ましくは1重量部以
上含有させることが必要である。
電荷発生物質としては、例えば、シーアイピグメント
ブルー25〔カラーインデックス(CI)21180〕、シーア
イピグメントレッド41(CI 21200)、シーアイシッドレ
ッド52(CI 45100)、シーアイベーシックレッド3(CI
45210)、さらに、ポリフィリン骨格を有するフタロシ
アニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクアリック塩顔
料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95
033号公報に記載)、スチルスチルベン骨格を有するア
ゾ顔料(特開昭53−138229号公報に記載)、トリフェニ
ルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−132547号公
報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料
(特開昭54−21728号公報に記載)、オキサジアゾール
骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−12742号公報に記
載)、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−
22834号公報に記載)、ビススチルベン骨格を有するア
ゾ顔料(特開昭54−17733号公報に記載)、ジスチリル
オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−21
29号公報に記載)、ジスチリルカルバゾール骨格を有す
るアゾ顔料(特開昭54−17734号公報に記載)、カルバ
ゾール骨格を有するトリアゾ顔料(特開昭57−195767号
公報、同57−195768号公報に記載)等、さらに、シーア
イピグメントブルー16(CI 74100)等のフタロシアニン
系顔料、シーアイバットブラウン5(CI 73410)、シー
アイバットダイ(CI 73030)等のインジゴ系顔料、アル
ゴスカーレットB(バイオレット社製)、インダスレン
スカーレットR(バイエル社製)等のペリレン系顔料等
の有機顔料を使用することができる。
ブルー25〔カラーインデックス(CI)21180〕、シーア
イピグメントレッド41(CI 21200)、シーアイシッドレ
ッド52(CI 45100)、シーアイベーシックレッド3(CI
45210)、さらに、ポリフィリン骨格を有するフタロシ
アニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクアリック塩顔
料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95
033号公報に記載)、スチルスチルベン骨格を有するア
ゾ顔料(特開昭53−138229号公報に記載)、トリフェニ
ルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−132547号公
報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料
(特開昭54−21728号公報に記載)、オキサジアゾール
骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−12742号公報に記
載)、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−
22834号公報に記載)、ビススチルベン骨格を有するア
ゾ顔料(特開昭54−17733号公報に記載)、ジスチリル
オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−21
29号公報に記載)、ジスチリルカルバゾール骨格を有す
るアゾ顔料(特開昭54−17734号公報に記載)、カルバ
ゾール骨格を有するトリアゾ顔料(特開昭57−195767号
公報、同57−195768号公報に記載)等、さらに、シーア
イピグメントブルー16(CI 74100)等のフタロシアニン
系顔料、シーアイバットブラウン5(CI 73410)、シー
アイバットダイ(CI 73030)等のインジゴ系顔料、アル
ゴスカーレットB(バイオレット社製)、インダスレン
スカーレットR(バイエル社製)等のペリレン系顔料等
の有機顔料を使用することができる。
これら電荷発生物質の中でも特にアゾ顔料が好適であ
り、更にアゾ顔料の中でも以下に示すジスアゾ顔料ある
いはトリスアゾ顔料が最も好ましい。
り、更にアゾ顔料の中でも以下に示すジスアゾ顔料ある
いはトリスアゾ顔料が最も好ましい。
アゾ顔料の具体例を以下に示す。
電荷発生層1の膜厚は、0.05〜2μm程度が適当であ
り、好ましくは0.1〜1μmである。
り、好ましくは0.1〜1μmである。
電荷発生層1は、適当な溶剤に樹脂バインダーおよび
電荷発生物質を溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥す
ることによって形成できる。溶剤として、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、塩化メチレン、ジクロルエタン、モ
ノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、酢酸エチル、酢
酸ブチル、メチルエチルケトン、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブなどを単独または混合して用いることが
できる。
電荷発生物質を溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥す
ることによって形成できる。溶剤として、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、塩化メチレン、ジクロルエタン、モ
ノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、酢酸エチル、酢
酸ブチル、メチルエチルケトン、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブなどを単独または混合して用いることが
できる。
電荷移動層2は、電荷移動物質および樹脂バインダー
を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層1
上に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要
により可塑剤やレベリング剤等を添加することもでき
る。
を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層1
上に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要
により可塑剤やレベリング剤等を添加することもでき
る。
電荷移動物質としては、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ルおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグ
ルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒ
ド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビ
ニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジア
ゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミ
ン誘導体、9−(p−ジエチルアミノスチリル)アント
ラセン、1,1−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニ
ル)プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾ
リン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン
誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。
ルおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグ
ルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒ
ド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビ
ニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジア
ゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミ
ン誘導体、9−(p−ジエチルアミノスチリル)アント
ラセン、1,1−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニ
ル)プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾ
リン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン
誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。
樹脂バインダーとしては、前記電荷発生層で用いたポ
リスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ス
チレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン
酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリアクリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポ
リカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロー
ス樹脂、ポニビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、メラ
ミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド
樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられる。
リスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ス
チレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン
酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリアクリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポ
リカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロー
ス樹脂、ポニビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、メラ
ミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド
樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられる。
このときの溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、トルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタ
ン、塩化メチレン等が使用できる。
キサン、トルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタ
ン、塩化メチレン等が使用できる。
電荷移動層2の厚さは、5〜100μm程度が適当であ
る。
る。
また、電荷発生物質を分散した層が第3図に示される
ような単層型感光層であるものは、前記した電荷発生層
で用いた電荷発生物質、前記重合体のビスフェノールA
エーテル、樹脂バインダー更には必要により前記した電
荷移動層で用いた電荷移動物質を混合し、これらの塗工
液を導電性支持体等上に塗布乾燥することによって形成
することができる。
ような単層型感光層であるものは、前記した電荷発生層
で用いた電荷発生物質、前記重合体のビスフェノールA
エーテル、樹脂バインダー更には必要により前記した電
荷移動層で用いた電荷移動物質を混合し、これらの塗工
液を導電性支持体等上に塗布乾燥することによって形成
することができる。
更に、本発明においては、前記したように導電性支持
体と感光層の間に必要により下引層を設けることができ
る。
体と感光層の間に必要により下引層を設けることができ
る。
光散乱性下引層及び光吸収性下引層は前述の様にプリ
ンター用感光体における光干渉防止を目的とする層であ
る。光散乱性下引層は、例えば酸化スズ、酸化アンチモ
ン等の導電性粉体と酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化チタン等
の白色顔料とを下記の様な熱硬化性樹脂中に分散して構
成され、また光吸収性下引層は、例えば炭素、各種金属
等の導電性光吸収性顔料及び/又は光吸収性有機顔料を
同様な熱硬化性樹脂中に分散して構成される。ここで使
用される熱硬化性樹脂は例えば、活性水素(−OH基、−
NH2基、−NH基等の水素)を複数個含有する化合物とイ
ソシアネート基を複数個含有する化合物及び/又はエポ
キシ基を複数個含有する化合物とを熱重合させたもので
ある。活性水素を複数個含有する化合物としては、例え
ばポリビニルブチラール、フェノキシ樹脂、フェノール
樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコ
ール、ヒドロキシメチルメタアクリレート基等の活性水
素を含有するアクリル系樹脂等があげられる。イソシア
ネート基を複数個含有する化合物としては、たとえば、
トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等とこれら
のプレポリマー等があげられ、エポキシ基を複数有する
化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂等が
あげられる。
ンター用感光体における光干渉防止を目的とする層であ
る。光散乱性下引層は、例えば酸化スズ、酸化アンチモ
ン等の導電性粉体と酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化チタン等
の白色顔料とを下記の様な熱硬化性樹脂中に分散して構
成され、また光吸収性下引層は、例えば炭素、各種金属
等の導電性光吸収性顔料及び/又は光吸収性有機顔料を
同様な熱硬化性樹脂中に分散して構成される。ここで使
用される熱硬化性樹脂は例えば、活性水素(−OH基、−
NH2基、−NH基等の水素)を複数個含有する化合物とイ
ソシアネート基を複数個含有する化合物及び/又はエポ
キシ基を複数個含有する化合物とを熱重合させたもので
ある。活性水素を複数個含有する化合物としては、例え
ばポリビニルブチラール、フェノキシ樹脂、フェノール
樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコ
ール、ヒドロキシメチルメタアクリレート基等の活性水
素を含有するアクリル系樹脂等があげられる。イソシア
ネート基を複数個含有する化合物としては、たとえば、
トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等とこれら
のプレポリマー等があげられ、エポキシ基を複数有する
化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂等が
あげられる。
いずれにしても光散乱性又は光吸収性下引層は以上の
様な成分を溶解又は分散した液を基体上に塗布し、50〜
200℃で熱重合させて形成される。なおこの下引層の厚
さは1〜10μmが適当である。また導電性粉末と白色顔
料と前記熱硬化性樹脂との重量比は2〜6/1〜5/2〜6が
適当であり、また光吸収性顔料と前記熱硬化性樹脂との
重量比は4〜9/1〜6が適当である。
様な成分を溶解又は分散した液を基体上に塗布し、50〜
200℃で熱重合させて形成される。なおこの下引層の厚
さは1〜10μmが適当である。また導電性粉末と白色顔
料と前記熱硬化性樹脂との重量比は2〜6/1〜5/2〜6が
適当であり、また光吸収性顔料と前記熱硬化性樹脂との
重量比は4〜9/1〜6が適当である。
本発明の電子写真用感光体は、電荷発生物質を分散し
た層にポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン又は
これらの共重合体のビスフェノールAエーテルを含有さ
せたことから、高感度であるとともに前露光疲労による
帯電性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り
返しにおいても帯電電位が低下しないという顕著な作用
効果を奏する。
た層にポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン又は
これらの共重合体のビスフェノールAエーテルを含有さ
せたことから、高感度であるとともに前露光疲労による
帯電性の低下が著しく小さく、しかも帯電と露光の繰り
返しにおいても帯電電位が低下しないという顕著な作用
効果を奏する。
以下、実施例により本発明を詳細に説明する。
実施例1 〔電荷発生層用塗工液〕 表−1に示すアゾ顔料(顔料No1)5重量部とポリオ
キシエチレンのビスフェノールAエーテル〔ユニオール
DA350F、日本油脂(株)〕の0.78重量%シクロヘキサノ
ン溶液160重量部とを72時間ボールミルで混合して顔料
分散液を得、ついでこの顔料分散液100重量部に、撹拌
しながら、メチルエチルケトン90重量部を追加混合して
電荷発生層塗工液とした。
キシエチレンのビスフェノールAエーテル〔ユニオール
DA350F、日本油脂(株)〕の0.78重量%シクロヘキサノ
ン溶液160重量部とを72時間ボールミルで混合して顔料
分散液を得、ついでこの顔料分散液100重量部に、撹拌
しながら、メチルエチルケトン90重量部を追加混合して
電荷発生層塗工液とした。
α−フェニルスチルベン系電荷移動物質 (下記の化合物) 100重量部 ポリカーボネート(商品名、パンライトC 1400:帝人
(株)) 100重量部 シリコン油(商品名、KF 50:信越シリコーン(株))0.
1重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 つぎに、Alを真空蒸着した75μmのポリエステルフィ
ルム基板上に上記の電荷発生層用塗工液をブレード塗工
し、120℃で10分間加熱乾燥して約0.2μmの電荷発生層
を形成した。ついで、電荷発生層の上に上記組成の電荷
移動層用塗工液をブレード塗工し、120℃で20分間加熱
乾燥して約20μmの電荷移動層を形成し感光体を作成し
た。
(株)) 100重量部 シリコン油(商品名、KF 50:信越シリコーン(株))0.
1重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 つぎに、Alを真空蒸着した75μmのポリエステルフィ
ルム基板上に上記の電荷発生層用塗工液をブレード塗工
し、120℃で10分間加熱乾燥して約0.2μmの電荷発生層
を形成した。ついで、電荷発生層の上に上記組成の電荷
移動層用塗工液をブレード塗工し、120℃で20分間加熱
乾燥して約20μmの電荷移動層を形成し感光体を作成し
た。
実施例2 電荷発生層塗工液のアゾ顔料を顔料No39に代えた以外
は実施例1と同様にして感光体を作成した。
は実施例1と同様にして感光体を作成した。
実施例3 Alを真空蒸着した75μmのポリエステルフィルム基板
上に実施例1で用いた電荷移動層用塗工液を実施例1と
同様にしてブレード塗工し、ついで乾燥して約20μmの
電荷移動層を形成した。ついで、この電荷移動層の上に
実施例1で用いた電荷発生層用塗工液をスプレー塗工
し、120℃で30分間加熱乾燥して約0.2μmの電荷発生層
を形成し感光体を作成した。
上に実施例1で用いた電荷移動層用塗工液を実施例1と
同様にしてブレード塗工し、ついで乾燥して約20μmの
電荷移動層を形成した。ついで、この電荷移動層の上に
実施例1で用いた電荷発生層用塗工液をスプレー塗工
し、120℃で30分間加熱乾燥して約0.2μmの電荷発生層
を形成し感光体を作成した。
実施例4 電荷移動層用塗工液のα−フェニルスチルベン化合物
を下記構造の化合物の変更した以外は実施例1と同様に
して感光体を作成した。
を下記構造の化合物の変更した以外は実施例1と同様に
して感光体を作成した。
実施例5 電荷発生層用塗工液の作成に使用したポリオキシエチ
レンのビスフェノールAエーテル(ユニオールDA350F、
日本油脂(株))の0.78重量%シクロヘキサノン溶液を
ポリオキシプロピレンのビスフェノールAエーテル〔ユ
ニオールDB2000、日本油脂(株)〕の0.156重量%シク
ロヘキサノン溶液とした以外は実施例2と同様にして感
光体を作成した。
レンのビスフェノールAエーテル(ユニオールDA350F、
日本油脂(株))の0.78重量%シクロヘキサノン溶液を
ポリオキシプロピレンのビスフェノールAエーテル〔ユ
ニオールDB2000、日本油脂(株)〕の0.156重量%シク
ロヘキサノン溶液とした以外は実施例2と同様にして感
光体を作成した。
実施例6 電荷発生層用塗工液の作成に使用したメチルエチルケ
トン90重量部をポリビニルブチラール(商品名:XYHL、
ユニオンカーバイドプラスチック社製)の0.67重量%メ
チルエチルケトン溶液90重量部とした以外は実施例5と
同様にして感光体を作成した。
トン90重量部をポリビニルブチラール(商品名:XYHL、
ユニオンカーバイドプラスチック社製)の0.67重量%メ
チルエチルケトン溶液90重量部とした以外は実施例5と
同様にして感光体を作成した。
実施例7 酸化アンチモン10重量%を含有する酸化スズの微粉8
重量部と酸化チタン白色顔料粉末5重量部とポリビニル
ブチラール(商品名:BL−1、積水化学社製)の12重量
%メチルエチルケトン溶液68重量部とを72時間ボールミ
ルで処置し、次にメチルエチルケトン47重量部を追加し
て48時間再びボールミルで処理した。次にこの顔料分散
液80重量部を撹拌しながら8重量部のトリレンジイソシ
アネートの20重量%メチルエチルケトン溶液を追加混合
して光散乱用下引層塗工液とした。
重量部と酸化チタン白色顔料粉末5重量部とポリビニル
ブチラール(商品名:BL−1、積水化学社製)の12重量
%メチルエチルケトン溶液68重量部とを72時間ボールミ
ルで処置し、次にメチルエチルケトン47重量部を追加し
て48時間再びボールミルで処理した。次にこの顔料分散
液80重量部を撹拌しながら8重量部のトリレンジイソシ
アネートの20重量%メチルエチルケトン溶液を追加混合
して光散乱用下引層塗工液とした。
つぎに、Alを真空蒸着した75μmのポリエステルフィ
ルム基板上に上記光散乱用下引層塗工液をブレード塗工
し、120℃で30分間加熱硬化して約2.5μmの光散乱用下
引層を形成した。
ルム基板上に上記光散乱用下引層塗工液をブレード塗工
し、120℃で30分間加熱硬化して約2.5μmの光散乱用下
引層を形成した。
次に、この光散乱用下引層の上に実施例2と同様にし
て電荷発生層及び電荷移動層を形成した感光体を作成し
た。
て電荷発生層及び電荷移動層を形成した感光体を作成し
た。
比較例1〜2 電荷発生層用塗工液のポリオキシエチレンのビスフェ
ノールAエーテル(DA350F)をポリビニルブチラール
(商品名:XYHL、ユニオンカーバイドプラスチック社
製)にした以外は各々実施例1〜2と同様にして感光体
を作成した。
ノールAエーテル(DA350F)をポリビニルブチラール
(商品名:XYHL、ユニオンカーバイドプラスチック社
製)にした以外は各々実施例1〜2と同様にして感光体
を作成した。
比較例3 電荷発生層用塗工液のポリオキシエチレンビスフェノ
ールAエーテル(ユニオールDA350F)をポリビニルブチ
ラール(商品名:XYHL、ユニオンカーバイドプラスチッ
ク社製)にした以外は実施例3と同様にして感光体を作
成した。
ールAエーテル(ユニオールDA350F)をポリビニルブチ
ラール(商品名:XYHL、ユニオンカーバイドプラスチッ
ク社製)にした以外は実施例3と同様にして感光体を作
成した。
比較例4 電荷発生層用塗工液のポリオキシエチレンのビスフェ
ノールAエーテル(ユニオールDA350F)をポリビニルブ
チラール(商品名:XYHL、ユニオンカーバイドプラスチ
ック社製)にした以外は実施例4と同様にして感光体を
作成した。
ノールAエーテル(ユニオールDA350F)をポリビニルブ
チラール(商品名:XYHL、ユニオンカーバイドプラスチ
ック社製)にした以外は実施例4と同様にして感光体を
作成した。
比較例5 電荷発生層用塗工液のポリオキシエチレンのビスフェ
ノールAエーテル(ユニオールDA350F)をポリエステル
(商品名:バイロン200、東洋紡社製)にした以外は実
施例2と同様にして感光体を作成した。
ノールAエーテル(ユニオールDA350F)をポリエステル
(商品名:バイロン200、東洋紡社製)にした以外は実
施例2と同様にして感光体を作成した。
比較例6 電荷発生層用塗工液作成時のポリオキシエチレンのビ
スフェノールAエーテル(ユニオールDA350F)の0.78重
量%シクロヘキサノン溶液をポリビニルブチラール(商
品名:XYHL、ユニオンカーバイドプラスチック社製)の
5.88重量%シクロヘキサノン溶液にした以外は実施例1
と同様にして感光体を作成した。
スフェノールAエーテル(ユニオールDA350F)の0.78重
量%シクロヘキサノン溶液をポリビニルブチラール(商
品名:XYHL、ユニオンカーバイドプラスチック社製)の
5.88重量%シクロヘキサノン溶液にした以外は実施例1
と同様にして感光体を作成した。
以上の様にして作成した電子写真用感光体を、静電複
写紙試験装置(川口電機製作所(株)、SP 428型)を使
用して、次の様に電子写真特性を評価した。まず、各感
光体に−6KVのコロナ放電を20秒間行なって、その間に
コロナ放電開始2秒後の帯電電位V2(volt)を測定し、
その後、暗所に放置して表面電位が−800Vになった時点
でタングステン光を照射して、表面電位が−400Vに光減
衰するのに必要な露光量S(lux sec)を求めた。その
後、色温度2856゜Kのタングステン光を100000 lux sec
照射の後、再び前記と同様に光疲労後の帯電電位V2′
(volt)及び露光量S′(lux sec)を求めた。以上の
結果を表−1に示す。
写紙試験装置(川口電機製作所(株)、SP 428型)を使
用して、次の様に電子写真特性を評価した。まず、各感
光体に−6KVのコロナ放電を20秒間行なって、その間に
コロナ放電開始2秒後の帯電電位V2(volt)を測定し、
その後、暗所に放置して表面電位が−800Vになった時点
でタングステン光を照射して、表面電位が−400Vに光減
衰するのに必要な露光量S(lux sec)を求めた。その
後、色温度2856゜Kのタングステン光を100000 lux sec
照射の後、再び前記と同様に光疲労後の帯電電位V2′
(volt)及び露光量S′(lux sec)を求めた。以上の
結果を表−1に示す。
なお、第2図のタイプ感光体は+7KVのコロナ放電を2
0秒間行って、その間にコロナ放電開始2秒後の帯電々
位V2を測定し、その後、暗所に放置して表面電位が+80
0Vになった時点でタングステン光を照射して、表面電位
が+400Vに光減衰するのに必要な露光量Sを求めた。そ
の後前記と同様に100000 lux sec照射後、光疲労後の帯
電々位V2′及び露光量S′を求めた。
0秒間行って、その間にコロナ放電開始2秒後の帯電々
位V2を測定し、その後、暗所に放置して表面電位が+80
0Vになった時点でタングステン光を照射して、表面電位
が+400Vに光減衰するのに必要な露光量Sを求めた。そ
の後前記と同様に100000 lux sec照射後、光疲労後の帯
電々位V2′及び露光量S′を求めた。
第1図〜第4図は本発明に係る種々の電子写真用感光体
の模式断面図である。 1;電荷発生層 2;電荷移動層 3;導電性支持体 4;単層型感光層 5;下引層
の模式断面図である。 1;電荷発生層 2;電荷移動層 3;導電性支持体 4;単層型感光層 5;下引層
フロントページの続き (72)発明者 深貝 俊夫 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株 式会社リコー内 (72)発明者 谷口 淑 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株 式会社リコー内 (56)参考文献 特開 昭59−81646(JP,A) 特開 昭50−210936(JP,A) 特開 昭63−206755(JP,A) 特開 昭63−206756(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】導電性支持体上に電荷発生物質を分散した
層を少なくとも有する電子写真用感光体において、電荷
発生物質を分散した層がポリオキシエチレン、ポリオキ
シプロピレン又はこれらの共重合体のビスフェノールA
エーテルを含有することを特徴とする電子写真用感光
体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5480587A JP2580151B2 (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5480587A JP2580151B2 (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | 電子写真用感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63220152A JPS63220152A (ja) | 1988-09-13 |
JP2580151B2 true JP2580151B2 (ja) | 1997-02-12 |
Family
ID=12980949
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5480587A Expired - Fee Related JP2580151B2 (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2580151B2 (ja) |
-
1987
- 1987-03-09 JP JP5480587A patent/JP2580151B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63220152A (ja) | 1988-09-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |