JPS63201061A - 透光性酸化イットリウム - Google Patents
透光性酸化イットリウムInfo
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- JPS63201061A JPS63201061A JP63022676A JP2267688A JPS63201061A JP S63201061 A JPS63201061 A JP S63201061A JP 63022676 A JP63022676 A JP 63022676A JP 2267688 A JP2267688 A JP 2267688A JP S63201061 A JPS63201061 A JP S63201061A
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- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 36
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 27
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 18
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 238000000280 densification Methods 0.000 claims description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 9
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 4
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 4
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- -1 indolium oxide Chemical compound 0.000 description 2
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 2
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150034533 ATIC gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 210000003746 feather Anatomy 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/50—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on rare-earth compounds
- C04B35/505—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on rare-earth compounds based on yttrium oxide
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/30—Vessels; Containers
- H01J61/302—Vessels; Containers characterised by the material of the vessel
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、概して光学材料に関し、特に透光性(opt
ically transparent)酸化イツトリ
ウム体を形成する方法に関する。
ically transparent)酸化イツトリ
ウム体を形成する方法に関する。
(従来の技術)
周知のごとく、高度に耐久性があり、可視光線および赤
外線の両方の領域において実質的に透光性を有する材料
に対する需要が存在する。このような材料の応用には、
金属蒸気ランプ、オプティカル−ウィンドウ(opti
cal window)、ならびに、航空機用光学的画
像装置(optical imagingsystem
)のような軍用のシステムが含まれている。
外線の両方の領域において実質的に透光性を有する材料
に対する需要が存在する。このような材料の応用には、
金属蒸気ランプ、オプティカル−ウィンドウ(opti
cal window)、ならびに、航空機用光学的画
像装置(optical imagingsystem
)のような軍用のシステムが含まれている。
赤外熱線追尾ミサイルにみられるような光学的画像装置
は、ミサイルの外面部に装着される窓あるいはドームの
ごとき光学的要素(optical element)
を一つまたはそれ以上備えている。これらの外部要素は
、その撮像装置の他の光学系を、ミサイルが飛行する外
部環境から隔離するために設けられている。したがって
、これらの外部要素には、外部環境への曝露にたいして
、特に大きな耐性を有すること、該画像装置の動作中に
他の構成部品を保護するだけの十分な強度を有すること
、および可視光線および/または赤外線領域において、
前述のごとく実質的に透過性(通過性; transp
arency)を有することが必要である。
は、ミサイルの外面部に装着される窓あるいはドームの
ごとき光学的要素(optical element)
を一つまたはそれ以上備えている。これらの外部要素は
、その撮像装置の他の光学系を、ミサイルが飛行する外
部環境から隔離するために設けられている。したがって
、これらの外部要素には、外部環境への曝露にたいして
、特に大きな耐性を有すること、該画像装置の動作中に
他の構成部品を保護するだけの十分な強度を有すること
、および可視光線および/または赤外線領域において、
前述のごとく実質的に透過性(通過性; transp
arency)を有することが必要である。
このような応用面には、何種類かの材料が有力な候補に
挙げられている。かかる材料は通常それぞれ高い強度を
もち、また特に約2ミクロンから5ミクロンの波長範囲
において、理論的に比較的高度の赤外線透過性を示し得
るものでもある。
挙げられている。かかる材料は通常それぞれ高い強度を
もち、また特に約2ミクロンから5ミクロンの波長範囲
において、理論的に比較的高度の赤外線透過性を示し得
るものでもある。
約2ミクロンから5ミクロンの波長範囲における透光性
に関する前述の光学的要件に加え、ある種の応用面では
該光学要素が5ミクロンを越える波長を透過(通過*
transparent) させ得ることが望まれる
。たとえば、きわめて高速で長時間飛行するように作ら
れたミサイルでは、その先端部に取り付けたドームは高
温になる。そのドームがたとえば5ミクロンを越える長
波長を伝導(通過;transmi t)させ得ない材
料で作られていると、有害な放射(emission)
が生じ、ひいてはドームで遮蔽された光学的画像装置の
システム・ノイズを増すことになる。
に関する前述の光学的要件に加え、ある種の応用面では
該光学要素が5ミクロンを越える波長を透過(通過*
transparent) させ得ることが望まれる
。たとえば、きわめて高速で長時間飛行するように作ら
れたミサイルでは、その先端部に取り付けたドームは高
温になる。そのドームがたとえば5ミクロンを越える長
波長を伝導(通過;transmi t)させ得ない材
料で作られていると、有害な放射(emission)
が生じ、ひいてはドームで遮蔽された光学的画像装置の
システム・ノイズを増すことになる。
そのような1高温の“ドームに関連する一つの要件は、
ドームの材料が、空力学的に表面が加熱されることから
生じる熱応力に耐えるものであるということである。Y
2O3ドームを作るためのい(つかの技法には、Y、O
5体を実質的に完全密度まで焼結する方法が含まれる。
ドームの材料が、空力学的に表面が加熱されることから
生じる熱応力に耐えるものであるということである。Y
2O3ドームを作るためのい(つかの技法には、Y、O
5体を実質的に完全密度まで焼結する方法が含まれる。
そうした技法では、高密度を達成するために、Laのよ
うな焼結助媒剤(sintering aid)を10
重量係まで加えている。
うな焼結助媒剤(sintering aid)を10
重量係まで加えている。
このような焼結助媒剤の添加には一つの欠点がある。、
Y2O,のような材料に該焼結助媒剤を加えるとその熱
伝導性は低下し、ひいてはドームの耐熱衝撃性が低下し
、結局高温ドームは損傷しやすくなる、 (問題点を解決するための手段) 本発明によれば、透明な酸化イツトリウム体を形成する
方法は、酸化イツトリウムからなる粉末を用意し、その
粉末を所定の寸法と形状に固結する(consolid
ate)という手順からなる。該固結体は、高温で緻密
化される。その温度については、該固結体を少なくとも
空隙の閉じた状態(closedporosity 5
tate)まで緻密化(densify)するのに十分
な時間だけ、1700から1900℃の範囲にするのが
よ<、1800ないし1900℃の範囲にするとさらに
よい。模範的には、該酸化イツトリウム体におけるかか
る空隙の閉じた状態というのは、酸化イツトリウムの理
論密度の少なくとも91チ、望ましくは94係から96
係の場合である。焼結され、空隙の閉じられた物体は、
望ましくは1700ないし1900℃の範囲の高温で、
模範的には1/2ないし10時間、所望の25000な
いし600ロOpsi (17,577〜21.092
kgJ’zW)の範囲の高圧を加えることによって、実
質的に理論密度の100%まで緻密化される。この実質
的に十分緻密化された物体は、高温および高圧環境に曝
されている間に本体から失われた酸素を取り戻させるた
めに、空気中で加熱(anneal) される。
Y2O,のような材料に該焼結助媒剤を加えるとその熱
伝導性は低下し、ひいてはドームの耐熱衝撃性が低下し
、結局高温ドームは損傷しやすくなる、 (問題点を解決するための手段) 本発明によれば、透明な酸化イツトリウム体を形成する
方法は、酸化イツトリウムからなる粉末を用意し、その
粉末を所定の寸法と形状に固結する(consolid
ate)という手順からなる。該固結体は、高温で緻密
化される。その温度については、該固結体を少なくとも
空隙の閉じた状態(closedporosity 5
tate)まで緻密化(densify)するのに十分
な時間だけ、1700から1900℃の範囲にするのが
よ<、1800ないし1900℃の範囲にするとさらに
よい。模範的には、該酸化イツトリウム体におけるかか
る空隙の閉じた状態というのは、酸化イツトリウムの理
論密度の少なくとも91チ、望ましくは94係から96
係の場合である。焼結され、空隙の閉じられた物体は、
望ましくは1700ないし1900℃の範囲の高温で、
模範的には1/2ないし10時間、所望の25000な
いし600ロOpsi (17,577〜21.092
kgJ’zW)の範囲の高圧を加えることによって、実
質的に理論密度の100%まで緻密化される。この実質
的に十分緻密化された物体は、高温および高圧環境に曝
されている間に本体から失われた酸素を取り戻させるた
めに、空気中で加熱(anneal) される。
この特別な手順によって、実質的に100%の酸化イツ
トリウムから成り、約2ないし6ミクロンの波長範囲に
わたって70俤以上の透光性を有し、かつ少なくとも7
ミクロンの波長に対し−ζ、少なくとも60俤の透光性
を有する固結体が得られる。
トリウムから成り、約2ないし6ミクロンの波長範囲に
わたって70俤以上の透光性を有し、かつ少なくとも7
ミクロンの波長に対し−ζ、少なくとも60俤の透光性
を有する固結体が得られる。
該醸化イツトリウム体は、実質的に100係の酸化イツ
トリウム(少なくとも999チの酸化インドリウム)よ
り成る。したがって、この酸化イツトリウムは実質的に
約5ミクロンを越える透光性を有することにより高い熱
伝導性と高い熱衝撃耐性を発揮する。そのため、該酸化
イツトリウム体が高速ミサイルのドームとして使用され
た場合、それが空力学的に加熱されることに由来するシ
ステム・ノイズは十分減少する。
トリウム(少なくとも999チの酸化インドリウム)よ
り成る。したがって、この酸化イツトリウムは実質的に
約5ミクロンを越える透光性を有することにより高い熱
伝導性と高い熱衝撃耐性を発揮する。そのため、該酸化
イツトリウム体が高速ミサイルのドームとして使用され
た場合、それが空力学的に加熱されることに由来するシ
ステム・ノイズは十分減少する。
本発明をさらに別の面から見るに、透過性酸化イツトリ
ウム裂ドームを形成する方法は、平均粒径が1ないし2
.opm、最大凝集粒径が10μmで、酸化イツトリウ
ム含有量が実質上9999%の酸化イツトリウム粉を用
意する手順を含む。この酸化イツトリウム粉は、ドーム
の形状を規定するテフロンで被a (coating)
されたアルミニウム製内型(mandre 1 )およ
びラテックス・ラバー(latex rubber)
またはウレタン・ラバー(urethane rub
ber)の膜より成るプレス用モールド(賦形型;mo
ld)を使用して冷間で等方性静圧プレス(isost
atic press)することによって、所定の寸法
と形状のドームに固結される。粉末を上記モールドに入
れ、モールドを等方性静圧プレスのなかに置き、250
00〜30000 psi(17,577〜21.09
2 kgf /xi )の範囲の圧力で圧密する。圧密
されたドームは、理論的最大密度の約75係になるまで
、1650〜1450℃の範囲の温度で、所定時間、焼
成される。この手順は、主として結合用賦形剤と分散剤
(dispersant)を除去する目的でふまれる。
ウム裂ドームを形成する方法は、平均粒径が1ないし2
.opm、最大凝集粒径が10μmで、酸化イツトリウ
ム含有量が実質上9999%の酸化イツトリウム粉を用
意する手順を含む。この酸化イツトリウム粉は、ドーム
の形状を規定するテフロンで被a (coating)
されたアルミニウム製内型(mandre 1 )およ
びラテックス・ラバー(latex rubber)
またはウレタン・ラバー(urethane rub
ber)の膜より成るプレス用モールド(賦形型;mo
ld)を使用して冷間で等方性静圧プレス(isost
atic press)することによって、所定の寸法
と形状のドームに固結される。粉末を上記モールドに入
れ、モールドを等方性静圧プレスのなかに置き、250
00〜30000 psi(17,577〜21.09
2 kgf /xi )の範囲の圧力で圧密する。圧密
されたドームは、理論的最大密度の約75係になるまで
、1650〜1450℃の範囲の温度で、所定時間、焼
成される。この手順は、主として結合用賦形剤と分散剤
(dispersant)を除去する目的でふまれる。
しかし、高温環境に曝されている間に、上記により圧密
されたドームはさらに若干緻密化する。圧密され、緻密
化されたドームは、次に1700〜1900℃の範囲の
温度で真空炉で焼結することにより、理論密度の約95
係まで密度がさらに高められ、あるいは空隙の閉じた状
態にされる。この焼結され、高密度化されたドームは、
酸化イツトリウムの理論密度の100係に実質的に等し
い密度に達するのに十分な時間、25000〜3000
0psi(17,577〜21.[]92kli’f/
−)の高圧アルゴン・ガスおよび1700〜190口℃
の範囲の高温のもとにおかれる。この最後の緻密化の段
階で、処理物(ドーム)から酸素が失われる。この完全
に緻密化されたドームは、それに酸素を取り戻させるた
めに空気中で加熱され、透明な状態、従って化学量論的
組成にされる。模範的には、この加熱は1400〜18
00℃の温度範囲、望ましくは1450℃の温度にて試
料の大きさと厚さにより、最高温度での保持時間を30
〜60分として行なわれる。
されたドームはさらに若干緻密化する。圧密され、緻密
化されたドームは、次に1700〜1900℃の範囲の
温度で真空炉で焼結することにより、理論密度の約95
係まで密度がさらに高められ、あるいは空隙の閉じた状
態にされる。この焼結され、高密度化されたドームは、
酸化イツトリウムの理論密度の100係に実質的に等し
い密度に達するのに十分な時間、25000〜3000
0psi(17,577〜21.[]92kli’f/
−)の高圧アルゴン・ガスおよび1700〜190口℃
の範囲の高温のもとにおかれる。この最後の緻密化の段
階で、処理物(ドーム)から酸素が失われる。この完全
に緻密化されたドームは、それに酸素を取り戻させるた
めに空気中で加熱され、透明な状態、従って化学量論的
組成にされる。模範的には、この加熱は1400〜18
00℃の温度範囲、望ましくは1450℃の温度にて試
料の大きさと厚さにより、最高温度での保持時間を30
〜60分として行なわれる。
(作 用)
上記特別な方法により、透過性酸化イツトリウムは、高
い熱衝撃耐性と高い透光性(厚さ2.8ミリメートルの
試料の場合、波長3.0ないし5.0ミクロンでは70
係を超え、5ないし7ミクロンでは少なくとも60係)
を有するものとなり、また6ないし5ミクロンの光学波
長帯では0.1 am−”;’s。
い熱衝撃耐性と高い透光性(厚さ2.8ミリメートルの
試料の場合、波長3.0ないし5.0ミクロンでは70
係を超え、5ないし7ミクロンでは少なくとも60係)
を有するものとなり、また6ないし5ミクロンの光学波
長帯では0.1 am−”;’s。
満ぐらいの比較的低い吸収係数を得ることができる。
(実施例)
酸化イツトリウムからなる透光性物体の製造について説
明する。実質的に999%の純粋酸化イツトリウム、望
ましくは99.994のY2O3からなり、1.0〜2
.0μmの平均粒径な持ち、最大凝集粒径10.0μm
の粉末を用意する。上記の仕様の酸化イツトリウム粉は
、以下のようにして準備される。
明する。実質的に999%の純粋酸化イツトリウム、望
ましくは99.994のY2O3からなり、1.0〜2
.0μmの平均粒径な持ち、最大凝集粒径10.0μm
の粉末を用意する。上記の仕様の酸化イツトリウム粉は
、以下のようにして準備される。
酸化イツトリウム粉は、ニューヨーク州ホワイト・プレ
ーンのユニオン・モリー社から、表面積範囲20〜45
m/11、平均凝集粒径1〜6ミクロンのものが入手
できる。この粉末の代表例は、99、99 %の純粋な
酸化イツトリウムである。この粉末を、ポリエチレンの
容器またはゴム引きの容器に入れ、酸化ジルコニウムま
たは酸化・イツトリウムのようなセラミック製粉砕媒(
grindingmedia) を用いて、たとえば
5ないし24時間ボール会ミルにかけ、凝集をほぐす(
de−agglomerate)。
ーンのユニオン・モリー社から、表面積範囲20〜45
m/11、平均凝集粒径1〜6ミクロンのものが入手
できる。この粉末の代表例は、99、99 %の純粋な
酸化イツトリウムである。この粉末を、ポリエチレンの
容器またはゴム引きの容器に入れ、酸化ジルコニウムま
たは酸化・イツトリウムのようなセラミック製粉砕媒(
grindingmedia) を用いて、たとえば
5ないし24時間ボール会ミルにかけ、凝集をほぐす(
de−agglomerate)。
粉砕(milling)後、泥漿(slurr)’)
を400メツシユのふるいで大きな凝集粒子を除去し、
平均粒径1〜2゜0ミクロン、最大凝集粒径10ミクロ
ンの粉末を得る。この粉末は超音波ホーン(ultra
−sonic horn)により噴霧乾燥(spray
dry)することにより、さらに凝集をほぐすことが
できる。噴霧乾燥する前に、3重量係までのポリビニー
ルピロリドン(poly−vinyl pyrolid
one) (代表例では比率4 : 1 )PVP 4
0/PVP 10 ) (7)ような有機性結合用賦形
剤(organic binder vehicle)
を加えて凝集をほぐす。酢酸のような分散剤もまたこの
粉末に少量加えられる。有機性結合剤と分散剤を加えた
、上記凝集のほぐされた粉末は、泥漿を11/hr
の割合で乾燥することのできる噴霧乾燥器にかけられる
。この噴霧乾燥法は半球ドームのような非平面状体を製
造するのに一般に用いられている。半球ドームに用いら
れるような非平面状モールドにおいては、その中で粉末
の密度が均一になるよう、自由流動性の粉末を用いるの
が好都合である。
を400メツシユのふるいで大きな凝集粒子を除去し、
平均粒径1〜2゜0ミクロン、最大凝集粒径10ミクロ
ンの粉末を得る。この粉末は超音波ホーン(ultra
−sonic horn)により噴霧乾燥(spray
dry)することにより、さらに凝集をほぐすことが
できる。噴霧乾燥する前に、3重量係までのポリビニー
ルピロリドン(poly−vinyl pyrolid
one) (代表例では比率4 : 1 )PVP 4
0/PVP 10 ) (7)ような有機性結合用賦形
剤(organic binder vehicle)
を加えて凝集をほぐす。酢酸のような分散剤もまたこの
粉末に少量加えられる。有機性結合剤と分散剤を加えた
、上記凝集のほぐされた粉末は、泥漿を11/hr
の割合で乾燥することのできる噴霧乾燥器にかけられる
。この噴霧乾燥法は半球ドームのような非平面状体を製
造するのに一般に用いられている。半球ドームに用いら
れるような非平面状モールドにおいては、その中で粉末
の密度が均一になるよう、自由流動性の粉末を用いるの
が好都合である。
上記特定の粒径を持つ粉末が得られた時点で、その粉末
は実質的に希望する形状の粗材体(roughbody
)の製造に適したプレス用モールドに入れられる。例え
ば、半球ドーム用のプレス・モールドは、ドームの凹面
形成用にテフロンで被覆されたアルミニウム製内型と、
ドームの凸面を規定するウレタン・ラバー膜を備えてい
てもよい。このモールドの上部の穴から粉末を入れ、穴
を密封し、モールドから空気を抜く。このモールド全体
を等方性静圧プレスのなかに置き、高温で圧密される。
は実質的に希望する形状の粗材体(roughbody
)の製造に適したプレス用モールドに入れられる。例え
ば、半球ドーム用のプレス・モールドは、ドームの凹面
形成用にテフロンで被覆されたアルミニウム製内型と、
ドームの凸面を規定するウレタン・ラバー膜を備えてい
てもよい。このモールドの上部の穴から粉末を入れ、穴
を密封し、モールドから空気を抜く。このモールド全体
を等方性静圧プレスのなかに置き、高温で圧密される。
模範的には約25000〜6000口psi(1157
7〜21.092に9f /gj)の範囲の高圧が用い
られる。
7〜21.092に9f /gj)の範囲の高圧が用い
られる。
モールドから粗ドーム体(rough dome)
を取り出し、炉に入れて空気中で1350〜1450℃
の温度で加熱し、モールドにあらかじめ入れである結合
用賦形剤を焼除する。本体は時間的に90分まで、その
高温に保つ。代表例では、焼成された物体の密度は、理
論密度の約75俤であり、寸法は10〜12%ぐらい縮
小している。
を取り出し、炉に入れて空気中で1350〜1450℃
の温度で加熱し、モールドにあらかじめ入れである結合
用賦形剤を焼除する。本体は時間的に90分まで、その
高温に保つ。代表例では、焼成された物体の密度は、理
論密度の約75俤であり、寸法は10〜12%ぐらい縮
小している。
得られた粗ドーム体の最終的緻密化は二つの手順により
行なわれる。最初の手順では、粗ドームは理論密度の約
95%の密度まで緻密化されるか、あるいは約91チを
越える密度をもち、実質的に空隙の閉じた状態の物体を
得るよう緻密化される。
行なわれる。最初の手順では、粗ドームは理論密度の約
95%の密度まで緻密化されるか、あるいは約91チを
越える密度をもち、実質的に空隙の閉じた状態の物体を
得るよう緻密化される。
これは、該物体を1700〜1900℃の温度範囲に設
定した高真空タングステン炉に入れて行なわれる。タン
グステン炉はY、03体の汚染を減らすために用いる。
定した高真空タングステン炉に入れて行なわれる。タン
グステン炉はY、03体の汚染を減らすために用いる。
特に、黒鉛型の炉にあっては、Y2O3体が著しく酸素
をとられたり、加炭されたりする可能性がある。この種
の炉(タングステン炉)は、従来、焼結工程で用いられ
てきた黒鉛型の炉におげろように、炭素のような還元剤
が化学反応によってY2O3を還元するのを減じるため
に用いられる。該物体は、代表例では60分以下の時間
、高温に保たれる。該物体はY、o、製の容器に納めら
れている(enclosed) か、あるいはそれで
保護されている(shielded) のが望ましい
。この焼結工程では、特に該物体が保護されていない場
合には、その表面部分にわずかにタングステンの被膜が
付着する場合がある。この被膜は最終的に緻密化するま
えに、ふつうは物理的に除去される。
をとられたり、加炭されたりする可能性がある。この種
の炉(タングステン炉)は、従来、焼結工程で用いられ
てきた黒鉛型の炉におげろように、炭素のような還元剤
が化学反応によってY2O3を還元するのを減じるため
に用いられる。該物体は、代表例では60分以下の時間
、高温に保たれる。該物体はY、o、製の容器に納めら
れている(enclosed) か、あるいはそれで
保護されている(shielded) のが望ましい
。この焼結工程では、特に該物体が保護されていない場
合には、その表面部分にわずかにタングステンの被膜が
付着する場合がある。この被膜は最終的に緻密化するま
えに、ふつうは物理的に除去される。
この焼結体は、それが実質的に理論密度の100係にな
るように1700〜1900℃の範囲の高温および、2
5000〜300DOpsi(17,577〜21.0
92 kfilfloJ) のアルゴン・ガス圧力の
もとに、5〜10時間保つか、あるいは実質的に理論密
度0100チの密度に達するまで保つかされる。どちら
かといえば、1回の処理時間を約5〜10時間とする限
り、最高温度で短時間、それも最小時間、加熱するのが
望ましい。該物体をこの最終緻密化に用いられる高温黒
鉛炉に入れるときには、それをY2O,製の容器で保護
する。この緻密化処理により、ドームは十分緻密化され
(理論密度の99、9 % )、かつ透過性のものとな
る。
るように1700〜1900℃の範囲の高温および、2
5000〜300DOpsi(17,577〜21.0
92 kfilfloJ) のアルゴン・ガス圧力の
もとに、5〜10時間保つか、あるいは実質的に理論密
度0100チの密度に達するまで保つかされる。どちら
かといえば、1回の処理時間を約5〜10時間とする限
り、最高温度で短時間、それも最小時間、加熱するのが
望ましい。該物体をこの最終緻密化に用いられる高温黒
鉛炉に入れるときには、それをY2O,製の容器で保護
する。この緻密化処理により、ドームは十分緻密化され
(理論密度の99、9 % )、かつ透過性のものとな
る。
最終緻密化の段階で、酸素を含まない雰囲気により材料
が還元されることにより生じた、前記工程での黒っぽい
物体(dark body)は、炉のなかで空気に触れ
、酸素を取り戻し、透明(clear trans−p
arent)になる。該物体は、1450℃から約18
00℃までの温度のもとに置かれるが、そこでの保持時
間は試料の大きさと厚さにより、30分ないし60分と
される。この焼鈍によりドームは実質的に透明化するの
で、それを通常の方法で粗研磨(grind)および仕
上研磨(polish) L、所定の表面仕上度と許容
差に仕上げる。たとえば、固定したダイヤモンド研磨工
具によって研磨できるし、アルミナ粉と高速ラッピング
剤によって規定表面仕上度に仕上げることができる。
゛あるいは、水蒸気と水素の雰囲気中に該物体
を置き、1400℃ないし最高的1800℃の温度範囲
で、30分間保持し、熱処理してもよい。しかし、この
方法の欠点は、Hlが取り込まれ、それにより有害な光
学的吸収帯が生じる可能性のあることである、 いま第1A図と同1B図に着目するに、厚さの異なる3
種類の試料につき、波長と表面反射損に関する未補正の
インライン(in−1tne)透過度との関係がグラフ
で示しである。表に示したものは、第1A図および同1
B図に示した6種類の試料および、本発明にもとづいて
製造された材料の他の試料に関する工程度数(proc
ess parameter)である。第1A図におい
て、曲ffM12は厚さ0.040インチ(1,02羽
)、曲線14は厚さ0.250インチ(6,35冨l)
、そして、曲線16は厚さ0.375インチ(9,53
mm)の試料に対する曲線である。これらの試料は、2
.5〜6ミクロンの波長範囲にわたり少なくとも73俤
、6.5ミクロンを越えるところでは少なくとも60%
の透光性を有する(第1A図)。表面反射損に関する未
補正でインラインの透過度の百分率は、近紫外線、可視
光線および赤外線について示されている。第1A図の曲
線12に対応する曲線12′(第1B図)は、1.1〜
2.6ミクロンにおいて少なくとも80係、0.3〜1
.1ミクロンにおいて少なくとも70係の透過度を示す
。もっと厚い試料も、0.3〜6.0ミクロンの赤外線
で、顕著な透過度を示す。
が還元されることにより生じた、前記工程での黒っぽい
物体(dark body)は、炉のなかで空気に触れ
、酸素を取り戻し、透明(clear trans−p
arent)になる。該物体は、1450℃から約18
00℃までの温度のもとに置かれるが、そこでの保持時
間は試料の大きさと厚さにより、30分ないし60分と
される。この焼鈍によりドームは実質的に透明化するの
で、それを通常の方法で粗研磨(grind)および仕
上研磨(polish) L、所定の表面仕上度と許容
差に仕上げる。たとえば、固定したダイヤモンド研磨工
具によって研磨できるし、アルミナ粉と高速ラッピング
剤によって規定表面仕上度に仕上げることができる。
゛あるいは、水蒸気と水素の雰囲気中に該物体
を置き、1400℃ないし最高的1800℃の温度範囲
で、30分間保持し、熱処理してもよい。しかし、この
方法の欠点は、Hlが取り込まれ、それにより有害な光
学的吸収帯が生じる可能性のあることである、 いま第1A図と同1B図に着目するに、厚さの異なる3
種類の試料につき、波長と表面反射損に関する未補正の
インライン(in−1tne)透過度との関係がグラフ
で示しである。表に示したものは、第1A図および同1
B図に示した6種類の試料および、本発明にもとづいて
製造された材料の他の試料に関する工程度数(proc
ess parameter)である。第1A図におい
て、曲ffM12は厚さ0.040インチ(1,02羽
)、曲線14は厚さ0.250インチ(6,35冨l)
、そして、曲線16は厚さ0.375インチ(9,53
mm)の試料に対する曲線である。これらの試料は、2
.5〜6ミクロンの波長範囲にわたり少なくとも73俤
、6.5ミクロンを越えるところでは少なくとも60%
の透光性を有する(第1A図)。表面反射損に関する未
補正でインラインの透過度の百分率は、近紫外線、可視
光線および赤外線について示されている。第1A図の曲
線12に対応する曲線12′(第1B図)は、1.1〜
2.6ミクロンにおいて少なくとも80係、0.3〜1
.1ミクロンにおいて少なくとも70係の透過度を示す
。もっと厚い試料も、0.3〜6.0ミクロンの赤外線
で、顕著な透過度を示す。
本発明にもとづいて製造される酸化イツトリウムのドー
ム体は、実質的に純粋、すなわち実質的に99.9 %
の酸化イツトリウムからなるため、高い熱伝導性および
それに伴う性質を示す。またそれはドーバン) (do
pant;微量添加剤)を加えたものに比べて、高い熱
衝撃耐性を示す。本発明にもとづいて製造されたT20
.の試料につき測定された、温度と熱伝導度との関係を
第2図に示す。
ム体は、実質的に純粋、すなわち実質的に99.9 %
の酸化イツトリウムからなるため、高い熱伝導性および
それに伴う性質を示す。またそれはドーバン) (do
pant;微量添加剤)を加えたものに比べて、高い熱
衝撃耐性を示す。本発明にもとづいて製造されたT20
.の試料につき測定された、温度と熱伝導度との関係を
第2図に示す。
(発明の効果)
本発明では、焼結は空隙の閉じた状態(理論密度の約9
1係から96%の間)を得るためにのみ行なわれる。し
たがって、完全に緻密な焼結体を得るために用いられる
従来法で要求されるよりも低い温度、短かい時間で処理
されるため、完全焼結体を造るときに必要な微量添加剤
を必要としない。焼結工程でW(タングステン)装発熱
体(heating element)を使用するのは
、微量添加剤を何ら使用しないで、材料を空隙の閉じた
状態に焼結するために有利であると考えられる。さらに
、タングステン炉の使用は、黒鉛製発熱体使用時にみら
れるような炭素還元によるT20.への悪影響防止に有
益である。また、本技術にしたがって製造される醒化イ
ツトリウム体においては、その緻密化は、かなり低目の
温度で行なわれ、また材料の劣化を促進し、粒子の成長
を促すと考えられている環境に曝される時間を短くして
行なわれる。
1係から96%の間)を得るためにのみ行なわれる。し
たがって、完全に緻密な焼結体を得るために用いられる
従来法で要求されるよりも低い温度、短かい時間で処理
されるため、完全焼結体を造るときに必要な微量添加剤
を必要としない。焼結工程でW(タングステン)装発熱
体(heating element)を使用するのは
、微量添加剤を何ら使用しないで、材料を空隙の閉じた
状態に焼結するために有利であると考えられる。さらに
、タングステン炉の使用は、黒鉛製発熱体使用時にみら
れるような炭素還元によるT20.への悪影響防止に有
益である。また、本技術にしたがって製造される醒化イ
ツトリウム体においては、その緻密化は、かなり低目の
温度で行なわれ、また材料の劣化を促進し、粒子の成長
を促すと考えられている環境に曝される時間を短くして
行なわれる。
本発明にしたがって作られる材料の平均粒径は、一般に
、約150ミクロンである。
、約150ミクロンである。
本発明にしたがって作られる材料につき計算された吸収
係数は、およそ0.1 cm−1未満である。この値は
、第1A図の曲線12および16のデータ、ならびに下
記の数式を用い、波長4ミクロンの場合につき計算した
ものである。
係数は、およそ0.1 cm−1未満である。この値は
、第1A図の曲線12および16のデータ、ならびに下
記の数式を用い、波長4ミクロンの場合につき計算した
ものである。
ただし、T2とT1は透過度をパーセントで表したもの
、t2とtlは厚さくcIrt)である。
、t2とtlは厚さくcIrt)である。
本発明の望ましい実施態様について説明したが、当該技
術分野の専門家であれば、それらの概念を含んだ別の態
様を実施し得るのは自明のことである。したがって、こ
れらの実施態様は開示されたもののみに限定されるべき
ではなく、添付される特許請求の範囲の精神と範囲によ
ってのみ限定されるべきであることが理解されよう。
術分野の専門家であれば、それらの概念を含んだ別の態
様を実施し得るのは自明のことである。したがって、こ
れらの実施態様は開示されたもののみに限定されるべき
ではなく、添付される特許請求の範囲の精神と範囲によ
ってのみ限定されるべきであることが理解されよう。
第1A図と1B図は、本発明にもとづいて製造された酸
化イツトリウムの試料につき、パーセント・インライン
(percent 1n−A’1ns)光学透過度を可
視光線(第1B図)ならびに赤外線(第1A図)波長領
域にわたって、波長の関数として示したグラフである。 第2図は、本発明の技法に従って製造されたY、 O,
につき、温度と熱伝導性との関係を示すグラフである。 (外4名) 妻、IB凹 jtr長、(ミツ0ン) 塾2凹 j二臭
化イツトリウムの試料につき、パーセント・インライン
(percent 1n−A’1ns)光学透過度を可
視光線(第1B図)ならびに赤外線(第1A図)波長領
域にわたって、波長の関数として示したグラフである。 第2図は、本発明の技法に従って製造されたY、 O,
につき、温度と熱伝導性との関係を示すグラフである。 (外4名) 妻、IB凹 jtr長、(ミツ0ン) 塾2凹 j二臭
Claims (26)
- (1)理論密度の少なくとも99%の密度を有する酸化
イットリウムから成る物体であって、該物体の試料が厚
さ0.375インチ(9.53mm)のとき、2〜5ミ
クロンの波長範囲にわたって、表面反射損(surfa
ce reflection loss)に関し、少な
くとも73%の未補正のインライン直角入射光に係る透
過度(in−line transmission u
ncorrected)を有することを特徴とする物体
。 - (2)平均粒径が約150ミクロン未満であることを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の物体。 - (3)波長4ミクロンにおける吸収係数が約0.1cm
^−^1未満であることを特徴とする特許請求の範囲第
(1)項記載の物体。 - (4)理論密度の少なくとも99%の密度を有し、実質
的に99.99%の純度を有する酸化イットリウムから
成る物体で、該物体に係る試料が厚さ0.040インチ
(1.02mm)のとき、3〜5ミクロンの波長範囲に
わたって、表面反射損に関し、少なくとも80%の未補
正のインライン透過度を有することを特徴とする物体。 - (5)波長4ミクロンにおける吸収係数が約0.1cm
^−^1未満であることを特徴とする特許請求の範囲第
(4)項記載の物体。 - (6)3〜7ミクロンの波長範囲にわたってインライン
透過度が少なくとも76%であることを特徴とする特許
請求の範囲第(5)項記載の物体。 - (7)理論密度の少なくとも99.9%の密度を有する
純度約99.9%の多結晶酸化イットリウムから成る物
体で、該物体に係る試料が厚さ約0.04インチ(1.
02mm)のとき少なくとも2.5〜6.8ミクロンの
波長範囲にわたって、少なくとも80%のインライン透
過度を有することを特徴とする物体。 - (8)表面反射損に関して、該インライン透過度が未補
正であることを特徴とする特許請求の範囲第(7)項記
載の物体。 - (9)酸化イットリウムが約150ミクロンの平均粒径
を有することを特徴とする特許請求の範囲第(7)項記
載の物体。 - (10)酸化イットリウムが0℃にて少なくとも15W
att/m−°Kの熱伝導率を有することを特徴とする
特許請求の範囲第(9)項記載の物体。 - (11)酸化イットリウムが波長4.0ミクロンで約0
.1cm^−^1未満の吸収係数を有することを特徴と
する特許請求の範囲第(10)項記載の物体。 - (12)酸化イットリウムより成る物体を製造する方法
であって: 酸化イットリウムの原料粉を用意し; 上記粉末を所定の形状と大きさを有する物体に成形する
ために圧密(compacting)し; 上記により圧密された物体を空隙の閉じた状態(clo
sed porosity state)とするため、
高温で焼結(sintering)し;そして 上記により焼結された物体が理論密度の実質上100%
の密度になるまで、所定時間、高圧のもとで熱し、緻密
化(densifying)する手順から成ることを特
徴とする方法。 - (13)原料粉が約1.0μmないし2.0μmの平均
粒径を有することを特徴とする特許請求の範囲第(12
)項記載の方法。 - (14)焼結が高真空のタングステン発熱体炉の中で行
なわれることを特徴とする特許請求の範囲第(12)項
記載の方法。 - (15)空気雰囲気において実質上100%の理論密度
を有する該物体を加熱(annealing)し、この
材料の表面に化学量論的な組成を取り戻させる手順から
成ることを特徴とする特許請求の範囲第(14)項記載
の方法。 - (16)焼結が高真空のタングステン発熱体炉の中で行
なわれることを特徴とする特許請求の範囲第(12)項
記載の方法。 - (17)緻密化が25000psiないし30000p
si(17.577〜21.092kgf/mm^2)
の範囲の高圧のもとで、1700℃ないし1900℃の
範囲の温度において行なわれることを特徴とする特許請
求の範囲第(16)項記載の方法。 - (18)焼結温度が1700℃ないし1900℃の範囲
にあることを特徴とする特許請求の範囲第(17)項記
載の方法。 - (19)焼結温度が1800℃ないし1900℃の範囲
にあることを特徴とする特許請求の範囲第(18)項記
載の方法。 - (20)加熱(annealing)が約1450℃の
温度で行なわれることを特徴とする特許請求の範囲第(
15)項記載の方法。 - (21)酸化イットリウムより成る物体を製造する方法
であって: 1ないし2.0ミクロンの平均粒径を有し、10ミクロ
ンの最大凝集粒径(agglomerated par
ticlesize)を有する酸化イットリウム粉を用
意し; 上記粉末を理論密度の約75%の密度を有する物体とす
るために固結(consolidating)し; 上記により固結された物体が空隙の閉じた状態となるよ
う1700〜1900℃の範囲の温度で、最高温度での
保持時間を30分以内として真空中で緻密化(dens
ifying)し; 上記により焼結され、空隙の閉じた状態とされた物体を
25000〜30000psi(17.577〜21.
092kgf/mm^2)の範囲の圧力、1700〜1
900℃の範囲の温度のもとに置き、その密度が理論密
度の実質上100%になるまで緻密化し;そして 上記緻密化された物体を、1400〜1800℃の範囲
の温度のもとに、30ないし60分間空気雰囲気中で加
熱(annealing)する手順より成ることを特徴
とする方法。 - (22)焼結がタングステン発熱体を用いた高真空炉に
おいて行なわれることを特徴とする特許請求の範囲第(
21)項記載の方法。 - (23)加熱が約1450℃の温度で行なわれることを
特徴とする特許請求の範囲第(22)項記載の方法。 - (24)約0.04インチ(1.02mm)の厚さを有
する試料では少なくとも80%の未補正のインライン透
過度を有し、少なくとも99.9%の酸化イットリウム
から成る非平面体(non−planar body)
の製造方法であって: 1ないし2.0ミクロンの平均粒径を有し、かつ10ミ
クロンの最大凝集粒径を有する酸化イットリウム粉を用
意し; 上記粉末を自由に流動する粉末(free flowi
ngpowder)とするために、該粉末に結合剤担体
(binder vehicle)および分散剤(di
spersant)を加え、そして噴雰乾燥(spra
y drying)し; 上記自由流動性粉末を非平面モールドに入れて、250
00〜30000psi(17.577〜21.092
kgf/mm^2)の範囲の等方性静圧(isosta
ticpressure)を加え; さらに空気雰囲気中で所定時間、1350〜1450℃
の温度のもとに置き、結合剤担体を除き(removi
ng); さらに真空中で、1700〜1900℃の範囲の温度で
、その最高温度のもとで、30分間以内保持し、空隙の
閉じた状態に緻密化し; 上記で焼結された物体を、密度が理論密度の100%に
なるまで25000〜30000psi(17.577
〜21.092kgf/mm^2)の範囲の圧力、17
00〜1900℃の範囲の温度のもとに置き、理論密度
の実質上100%まで緻密化し;そして 上記で緻密化された物体を、水素と水蒸気から成る雰囲
気内で、1700〜1900℃の範囲の温度で、高温状
態で30ないし60分間、その密度が理論密度の実質上
100%になるまで加熱(annealing)する手
順から成ることを特徴とする方法。 - (25)非平面体が半球ドームであることを特徴とする
特許請求の範囲第(24)項記載の方法。 - (26)結合剤としての担体を、非平面体の密度が理論
密度の約75%になるまでの時間保持し、除くことを特
徴とする特許請求の範囲第(25)項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/010,247 US4761390A (en) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | Optically transparent yttrium oxide |
US10247 | 1998-01-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63201061A true JPS63201061A (ja) | 1988-08-19 |
JPH0555465B2 JPH0555465B2 (ja) | 1993-08-17 |
Family
ID=21744793
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63022676A Granted JPS63201061A (ja) | 1987-02-02 | 1988-02-02 | 透光性酸化イットリウム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4761390A (ja) |
EP (1) | EP0277811A3 (ja) |
JP (1) | JPS63201061A (ja) |
CA (1) | CA1303825C (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02229764A (ja) * | 1989-03-03 | 1990-09-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 透光性イツトリア焼結体の製造方法 |
JP2003025240A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Hitachi Ltd | 特殊締付、緩め工具 |
JP2015501775A (ja) * | 2011-11-10 | 2015-01-19 | セラムテック−イーテック ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングCeramTec−Etec GmbH | 流動層造粒による透明セラミック物体の製造法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CA2088238C (en) * | 1992-01-30 | 1998-08-18 | Masato Oku | Method of manufacturing optical fiber preform |
US5631522A (en) * | 1995-05-09 | 1997-05-20 | General Electric Company | Low sodium permeability glass |
US6136736A (en) * | 1993-06-01 | 2000-10-24 | General Electric Company | Doped silica glass |
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US6796869B1 (en) * | 2000-12-28 | 2004-09-28 | General Electric Company | Ceramic arc tube by annealing |
KR100885199B1 (ko) * | 2001-07-05 | 2009-02-24 | 고노시마 가가쿠고교 가부시키가이샤 | 투과성 희토류 산화물 소결체 및 그 제조 방법 |
JP5046480B2 (ja) * | 2004-09-24 | 2012-10-10 | 京セラ株式会社 | 耐食性部材とその製造方法、およびこれを用いた半導体・液晶製造装置用部材 |
JP3974152B2 (ja) * | 2006-01-26 | 2007-09-12 | Towa株式会社 | 低密着性材料、樹脂成形型及び防汚性材料 |
DE102006027957A1 (de) * | 2006-06-14 | 2007-12-20 | Schott Ag | Optische Elemente sowie Abbildungsoptiken |
DE102006027958A1 (de) * | 2006-06-14 | 2007-12-20 | Schott Ag | Optokeramiken, daraus hergestellte optische Elemente sowie Abbildungsoptiken |
EP2123615A4 (en) * | 2007-01-17 | 2012-05-09 | Toto Ltd | CERAMIC ELEMENT AND CORROSION RESISTANT ELEMENT |
US9012823B2 (en) * | 2012-07-31 | 2015-04-21 | Raytheon Company | Vehicle having a nanocomposite optical ceramic dome |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3545987A (en) * | 1966-09-28 | 1970-12-08 | Gen Electric | Transparent yttria-based ceramics and method for producing same |
JPS4939885B1 (ja) * | 1968-08-19 | 1974-10-29 | ||
JPS4841681B1 (ja) * | 1969-11-21 | 1973-12-07 | ||
US3640887A (en) * | 1970-04-06 | 1972-02-08 | Gen Electric | Transparent zirconia- hafnia- and thoria-rare earth ceramics |
US3878280A (en) * | 1970-05-05 | 1975-04-15 | Us Army | Method for production of transparent yttrium oxide |
JPS536645B2 (ja) * | 1972-08-25 | 1978-03-10 | ||
SU500206A1 (ru) * | 1973-10-18 | 1976-01-25 | Ордена Трудового Красного Знамени Институт Проблем Материаловедения Ан Усср | Высокоогнеупорный электроизол ционный материал |
SU531795A1 (ru) * | 1975-03-31 | 1976-10-15 | Московский Ордена Ленина И Ордена Трудового Красного Знамени Химикотехнологический Институт Им.Д.И.Менделеева | Способ изготовлени изделий из прозрачной керамики |
US4098612A (en) * | 1977-07-11 | 1978-07-04 | Gte Laboratories Incorporated | Transparent yttria ceramics and method for producing same |
US4174973A (en) * | 1979-01-29 | 1979-11-20 | Gte Laboratories Incorporated | Transparent yttria ceramics containing magnesia or magnesium aluminate |
US4571312A (en) * | 1982-06-18 | 1986-02-18 | General Electric Company | Preparation of yttria-gadolinia ceramic scintillators by sintering and gas hot isostatic pressing |
-
1987
- 1987-02-02 US US07/010,247 patent/US4761390A/en not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-01-25 CA CA000557289A patent/CA1303825C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-02-02 EP EP88300874A patent/EP0277811A3/en not_active Withdrawn
- 1988-02-02 JP JP63022676A patent/JPS63201061A/ja active Granted
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Publication number | Publication date |
---|---|
CA1303825C (en) | 1992-06-23 |
EP0277811A2 (en) | 1988-08-10 |
EP0277811A3 (en) | 1989-07-12 |
US4761390A (en) | 1988-08-02 |
JPH0555465B2 (ja) | 1993-08-17 |
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