JPS63190179A - 銅の表面処理法 - Google Patents
銅の表面処理法Info
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 39
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims description 5
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims abstract description 35
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M sodium chlorite Chemical compound [Na+].[O-]Cl=O UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 4
- 229960002218 sodium chlorite Drugs 0.000 abstract description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract description 3
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 abstract description 2
- AXZAYXJCENRGIM-UHFFFAOYSA-J dipotassium;tetrabromoplatinum(2-) Chemical compound [K+].[K+].[Br-].[Br-].[Br-].[Br-].[Pt+2] AXZAYXJCENRGIM-UHFFFAOYSA-J 0.000 abstract description 2
- -1 e.g. Substances 0.000 abstract description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 abstract description 2
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 abstract description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- VKJKEPKFPUWCAS-UHFFFAOYSA-M potassium chlorate Chemical compound [K+].[O-]Cl(=O)=O VKJKEPKFPUWCAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- 229910001487 potassium perchlorate Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 7
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WROHAQZYIUQHNL-UHFFFAOYSA-N [Na].[Na].[Na].[P] Chemical compound [Na].[Na].[Na].[P] WROHAQZYIUQHNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000012261 resinous substance Substances 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/82—After-treatment
- C23C22/83—Chemical after-treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/382—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、多層プリント配線板の製造に於いて、内層回
路板とプリプレグとを積層一体化するに先立って行われ
る内層回路(銅)の前処理等に好適に使用される銅の表
面処理法に関する。
路板とプリプレグとを積層一体化するに先立って行われ
る内層回路(銅)の前処理等に好適に使用される銅の表
面処理法に関する。
(従来の技術)
多層プリント配線板は8次のようにして製造される。す
なわち1通常の銅張積層板のw4箔を加工してプリント
配線板を形成することにり内層用プリント配線板をつく
り、この内層用プリント配線板の回路(銅)を過硫酸ア
ンモニウム水溶液、又は塩化第2銅と塩酸を含む水溶液
等の薬液で処理して銅表面を粗面化した後、更に亜塩素
酸ナトリウム系処理液で処理することによって酸化銅皮
膜を形成した後、この内層用プリント配線板にプリブリ
グを介して外層用銅張積層板を積層接着し。
なわち1通常の銅張積層板のw4箔を加工してプリント
配線板を形成することにり内層用プリント配線板をつく
り、この内層用プリント配線板の回路(銅)を過硫酸ア
ンモニウム水溶液、又は塩化第2銅と塩酸を含む水溶液
等の薬液で処理して銅表面を粗面化した後、更に亜塩素
酸ナトリウム系処理液で処理することによって酸化銅皮
膜を形成した後、この内層用プリント配線板にプリブリ
グを介して外層用銅張積層板を積層接着し。
外層用銅張積層板の回路加工、スルーホール明け、スル
ーホール壁面への無電解銅めっき等を行うことによって
製造している。
ーホール壁面への無電解銅めっき等を行うことによって
製造している。
(発明が解決しようとする問題点)
この方法は次の問題点があった。
この多層プリント配線板はスルーホールめっきのためス
ルーホール壁面へのめっき液触媒付与の工程での酸性溶
液によって、またドリル穴明は時に内層銅の切削断面に
付着する樹脂状物の除去工程で用いる酸性溶液によって
、また無電解銅めっき液などによって、これらの溶液が
酸化銅皮膜形成層と絶縁樹脂層の間にしみ込み、接着性
や導体間の絶縁抵抗が低下するという問題があった。
ルーホール壁面へのめっき液触媒付与の工程での酸性溶
液によって、またドリル穴明は時に内層銅の切削断面に
付着する樹脂状物の除去工程で用いる酸性溶液によって
、また無電解銅めっき液などによって、これらの溶液が
酸化銅皮膜形成層と絶縁樹脂層の間にしみ込み、接着性
や導体間の絶縁抵抗が低下するという問題があった。
発明は上記した酸化銅皮膜の耐薬品性が低いことによっ
ておこる問題を解決できる回路とプリプレグの樹脂層と
の接着力に優れる銅の表面処理法を提供するものである
。
ておこる問題を解決できる回路とプリプレグの樹脂層と
の接着力に優れる銅の表面処理法を提供するものである
。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、銅表面の酸化剤の含む水溶液で処理し銅表面
に酸化銅皮膜を形成させ1次にその酸化銅皮膜を表面が
銅および銅よりも貴な金属からなる接触片と接触させ、
酸化銅皮膜と接触片とを相対的に移動させながら、pH
が9以上であるホルムアルデヒド供給源で処理し酸化銅
皮膜を還元することを特徴とするものである。
に酸化銅皮膜を形成させ1次にその酸化銅皮膜を表面が
銅および銅よりも貴な金属からなる接触片と接触させ、
酸化銅皮膜と接触片とを相対的に移動させながら、pH
が9以上であるホルムアルデヒド供給源で処理し酸化銅
皮膜を還元することを特徴とするものである。
本発明で銅表面に酸化銅を形成する方法には種々の方法
がある。一般的には、亜塩素酸ナトリウム、過硫酸カリ
ウム、塩素酸カリウム、過塩素酸カリウムなどの酸化剤
を含む処理液で銅表面を処理、すなわち、浸漬、吹付は
等をする。この酸化銅処理液組成の1例は NaCl0
zが5〜150 g / 1 、 N a P Oa
・12 Hz Oが10〜60g/l、NaOHが1
g/l 〜50 g7p、ものである、処理条件の1例
は上記処理液の温度が55〜95℃で銅表面と酸化銅処
理液の接触時間15秒以上である。
がある。一般的には、亜塩素酸ナトリウム、過硫酸カリ
ウム、塩素酸カリウム、過塩素酸カリウムなどの酸化剤
を含む処理液で銅表面を処理、すなわち、浸漬、吹付は
等をする。この酸化銅処理液組成の1例は NaCl0
zが5〜150 g / 1 、 N a P Oa
・12 Hz Oが10〜60g/l、NaOHが1
g/l 〜50 g7p、ものである、処理条件の1例
は上記処理液の温度が55〜95℃で銅表面と酸化銅処
理液の接触時間15秒以上である。
酸化銅を形成するための銅表面の前処理として5脱脂を
行い過硫酸アンモニウム水溶液、又は塩化第2銅と塩酸
を含む水溶液等の薬液と接触させて銅表面を粗面化した
後、酸化銅を形成するための処理が行われるのが好まし
い。
行い過硫酸アンモニウム水溶液、又は塩化第2銅と塩酸
を含む水溶液等の薬液と接触させて銅表面を粗面化した
後、酸化銅を形成するための処理が行われるのが好まし
い。
接触片は、その表面が銅および銅よりも貴なる金属1例
えば銅、金、白金、パラジウムなどより成っている。接
触片としてはロールが好ましい。
えば銅、金、白金、パラジウムなどより成っている。接
触片としてはロールが好ましい。
ロール構造の1例としては、ゴムロールの表面に上記の
金属をめっきした布材を皮膜したロールが用いられる。
金属をめっきした布材を皮膜したロールが用いられる。
使用できる布材の1例としては、セーレン社が市販して
いる銅めっきした布材が使用できる。この銅めっきした
布材に更に金、やパラジウムなどの貴金属をめっきした
ものがより好ましい。
いる銅めっきした布材が使用できる。この銅めっきした
布材に更に金、やパラジウムなどの貴金属をめっきした
ものがより好ましい。
ロール以外に、ある程度の面接触をする棒状のもの、ブ
ラシ状のもの、又布状のものでも良い。
ラシ状のもの、又布状のものでも良い。
これらの接触片は酸化銅皮膜上を相対的に移動する。す
なわち一方を動かせても良いし、双方を動かせても良い
、ロールで酸化銅皮膜が形成された基板を移送する。又
、移送される基板にロールを回動自在に接触させる等の
ように接触片と酸化動皮膜とを線又は面接触させて摺動
することが好ましい、接触片として例えば布を用い、こ
の布と酸化銅皮膜とをある程度の面接触をさせ摺動しな
がら移動させることも出来る。酸化銅皮膜と接触片とを
相対的に移動させなからpHが9以上であるホルムアル
デヒド供給源を含む水溶液で処理し酸化銅を還元する。
なわち一方を動かせても良いし、双方を動かせても良い
、ロールで酸化銅皮膜が形成された基板を移送する。又
、移送される基板にロールを回動自在に接触させる等の
ように接触片と酸化動皮膜とを線又は面接触させて摺動
することが好ましい、接触片として例えば布を用い、こ
の布と酸化銅皮膜とをある程度の面接触をさせ摺動しな
がら移動させることも出来る。酸化銅皮膜と接触片とを
相対的に移動させなからpHが9以上であるホルムアル
デヒド供給源を含む水溶液で処理し酸化銅を還元する。
処理は浸漬、吹付は等により行う。
ホルムアルデヒド供給源としては、ホルムアルデヒド、
パラホルムアルデヒド、芳香族ホルムアルデヒド化合物
である。この水溶液のpH9以上。
パラホルムアルデヒド、芳香族ホルムアルデヒド化合物
である。この水溶液のpH9以上。
望ましくは1000以上である。pH1i整剤としては
水酸化成アルカリ等が用いられる。ホルムアルデヒド供
給源は添加量は0.O1モル/1以上。
水酸化成アルカリ等が用いられる。ホルムアルデヒド供
給源は添加量は0.O1モル/1以上。
望ましくは0.02モルフ1以上である。
本発明において銅表面に形成される酸化銅は大きさが数
ミクロンいかの微細な凹凸形状を有する。
ミクロンいかの微細な凹凸形状を有する。
その形状の効果によって9 この表面と積層されるプリ
プレグの樹脂層と接着力が向上される。
プレグの樹脂層と接着力が向上される。
次にpH9以上であるホルムアルデヒド供給源を含む水
溶液は還元性を有するので上記の酸化銅と接触すること
によって酸化鋼を還元しうる。還元ども微細な凹凸形状
が残るので、この表面と積層される樹脂層との接着力が
向上できると共にこの接着界面は酸性溶液や無電解銅め
っき液によって浸されにくくなる。
溶液は還元性を有するので上記の酸化銅と接触すること
によって酸化鋼を還元しうる。還元ども微細な凹凸形状
が残るので、この表面と積層される樹脂層との接着力が
向上できると共にこの接着界面は酸性溶液や無電解銅め
っき液によって浸されにくくなる。
酸化銅をpHが9以上であるホルムアルデヒド供給源を
含む水溶液を接触させると酸化銅の還元が速やかにおこ
る。
含む水溶液を接触させると酸化銅の還元が速やかにおこ
る。
酸化銅を還元できる時間が著しく短縮され通常数分以内
で完了できるようになる。
で完了できるようになる。
次に接触片としてのロールを用いると酸化銅の還元処理
が連続化できる。又、プリント配線板の銅導体の配線は
独立した部分があることまた微細化されているが、ロー
ル等の接触片を用いれば一様に接触することが可能であ
る。
が連続化できる。又、プリント配線板の銅導体の配線は
独立した部分があることまた微細化されているが、ロー
ル等の接触片を用いれば一様に接触することが可能であ
る。
本発明は、多層化接着する内層回路の前処理としてだけ
でなく、プリント配線板にレジストを形成する前の回路
表面、フレキシブル基板と銅箔の貼合せ前のw4箔面と
樹脂層の接着力を向上させるための銅の表面処理として
用いられる。
でなく、プリント配線板にレジストを形成する前の回路
表面、フレキシブル基板と銅箔の貼合せ前のw4箔面と
樹脂層の接着力を向上させるための銅の表面処理として
用いられる。
(実施例)
あらかじめ内層配線を形成した内層用プリント配線板を
過硫酸アンモニウム水溶液で粗化処理した後9次の処理
液と条件で処理して酸化銅皮膜を形成した。
過硫酸アンモニウム水溶液で粗化処理した後9次の処理
液と条件で処理して酸化銅皮膜を形成した。
水酸化ナトリウム =15g/jリン三ナトリ
ウム(NaPO4・12Hx O)−30g/41 亜塩素酸ナトリウム −90g/l純 水
−11になる量液温度
−85℃ 処理時間 −120秒酸化銅皮膜を形
成した内層配線板を水洗した。
ウム(NaPO4・12Hx O)−30g/41 亜塩素酸ナトリウム −90g/l純 水
−11になる量液温度
−85℃ 処理時間 −120秒酸化銅皮膜を形
成した内層配線板を水洗した。
次に、pHが12.5.37%ホルマリン濃度が5 m
J / Itの上記の酸化銅を還元する水溶液中に内
層配線板送りロールを垂直に設けた。このロールはゴム
製ロールの表面にセーレン社製の銅めっき布材に更に金
めつきを施したものを被覆したロールを用いた。酸化銅
を還元する水溶液の液温は50℃にした。内層配線板の
上記のロールによる搬送速度を4Qcm/分として、酸
化銅を還元する水溶液と5分間接触させた0次に水洗し
、80℃で30分間乾燥した後、この内層配線板の両面
をエポキシ樹脂プリプレグではさみ、更にその両面を銅
箔ではさみ加圧、加熱(圧力50 k g / cm8
.温度170℃時間120分間)を行い多層化接着して
、内層配線式鋼張積層板を作成した。
J / Itの上記の酸化銅を還元する水溶液中に内
層配線板送りロールを垂直に設けた。このロールはゴム
製ロールの表面にセーレン社製の銅めっき布材に更に金
めつきを施したものを被覆したロールを用いた。酸化銅
を還元する水溶液の液温は50℃にした。内層配線板の
上記のロールによる搬送速度を4Qcm/分として、酸
化銅を還元する水溶液と5分間接触させた0次に水洗し
、80℃で30分間乾燥した後、この内層配線板の両面
をエポキシ樹脂プリプレグではさみ、更にその両面を銅
箔ではさみ加圧、加熱(圧力50 k g / cm8
.温度170℃時間120分間)を行い多層化接着して
、内層配線式鋼張積層板を作成した。
以上の如くして得た内層回路入銅張積層板の諸特性を表
1に示す、諸特性の評価方法は次の通りである。
1に示す、諸特性の評価方法は次の通りである。
・内層銅箔引き剥し試験、JIS−C6481・耐塩酸
性試験i130X30mmに切断し1表面#R箔を除去
した試験片に直径1mmの穴を36穴あけ、19%塩酸
に浸漬させて塩酸が内層面に浸み込むまでのしがんを計
測する。
性試験i130X30mmに切断し1表面#R箔を除去
した試験片に直径1mmの穴を36穴あけ、19%塩酸
に浸漬させて塩酸が内層面に浸み込むまでのしがんを計
測する。
Cu S Oa / 5 Ht O−10g / I−
EDTA/2Na =30g/1 pH=12.5 (NaOHを用いて調整)37%CH
z O= 5 m j / 1純水 −
全量が11になる量比較例 実施例と同様にして酸化銅皮膜を形成した後。
EDTA/2Na =30g/1 pH=12.5 (NaOHを用いて調整)37%CH
z O= 5 m j / 1純水 −
全量が11になる量比較例 実施例と同様にして酸化銅皮膜を形成した後。
この内層用銅張積層板を用いて実施例と同じ方法で内層
回路入銅張積層板を作成した。
回路入銅張積層板を作成した。
諸特性を表1に示す。
(発明の効果)
以上説明したように1本発明に於てはプリプレグ等の樹
脂材料と導体回路等の銅との密着性が向上し、多層プリ
ント板に於ては、耐塩酸性、耐無電解銅めっき液性に優
れた多層印刷配線板を得ることができる。
脂材料と導体回路等の銅との密着性が向上し、多層プリ
ント板に於ては、耐塩酸性、耐無電解銅めっき液性に優
れた多層印刷配線板を得ることができる。
(以下余白)
手続補正書(自発)
昭和62年2月3日
Claims (1)
- 1、銅表面の酸化剤の含む水溶液で処理し銅表面に酸化
銅皮膜を形成させ、次にその酸化銅皮膜を表面が銅およ
び銅よりも貴な金属からなる接触片と接触させ、酸化銅
皮膜と接触片とを相対的に移動させながら、pHが9以
上であるホルムアルデヒド供給源で処理し酸化銅皮膜を
還元することを特徴とする銅の表面処理法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2073887A JPS63190179A (ja) | 1987-01-31 | 1987-01-31 | 銅の表面処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2073887A JPS63190179A (ja) | 1987-01-31 | 1987-01-31 | 銅の表面処理法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63190179A true JPS63190179A (ja) | 1988-08-05 |
Family
ID=12035536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2073887A Pending JPS63190179A (ja) | 1987-01-31 | 1987-01-31 | 銅の表面処理法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63190179A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002115078A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-19 | Hitachi Chem Co Ltd | 銅の表面処理法 |
JP2006249519A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Hitachi Chem Co Ltd | 銅の表面処理方法及び銅 |
JP2018016886A (ja) * | 2016-07-15 | 2018-02-01 | ナミックス株式会社 | プリント配線板に用いる銅箔の製造方法 |
-
1987
- 1987-01-31 JP JP2073887A patent/JPS63190179A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002115078A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-19 | Hitachi Chem Co Ltd | 銅の表面処理法 |
JP4618466B2 (ja) * | 2000-10-11 | 2011-01-26 | 日立化成工業株式会社 | 銅の表面処理法 |
JP2006249519A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Hitachi Chem Co Ltd | 銅の表面処理方法及び銅 |
JP2018016886A (ja) * | 2016-07-15 | 2018-02-01 | ナミックス株式会社 | プリント配線板に用いる銅箔の製造方法 |
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