JPS63185979A - フルオロアルキルβ−ラクタム類の製造方法 - Google Patents
フルオロアルキルβ−ラクタム類の製造方法Info
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- JPS63185979A JPS63185979A JP62015231A JP1523187A JPS63185979A JP S63185979 A JPS63185979 A JP S63185979A JP 62015231 A JP62015231 A JP 62015231A JP 1523187 A JP1523187 A JP 1523187A JP S63185979 A JPS63185979 A JP S63185979A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、β−ラクタム系抗生物質、殊に6−フルオロ
ニチルカルパ(ネム系抗生物質の合成中間体の立体選択
的製造方法に関するものである。
ニチルカルパ(ネム系抗生物質の合成中間体の立体選択
的製造方法に関するものである。
(従来の技術)
カルバペネム系抗生物質は浸れた抗菌活性を示すことよ
シ、抗菌剤としての開発が待たれている。就中、既に知
られている下記式 で示される6−フルオロニチルカルパペネム誘導体は浸
れた抗菌活性を有し、且つ比較的安定性を有することよ
シ注目されている(特開昭59−84886号公報参照
)。
シ、抗菌剤としての開発が待たれている。就中、既に知
られている下記式 で示される6−フルオロニチルカルパペネム誘導体は浸
れた抗菌活性を有し、且つ比較的安定性を有することよ
シ注目されている(特開昭59−84886号公報参照
)。
上記特許公報によれば、6−フルオロエfA/カルバ4
ネム紡導体は、下記反応式、によって得られる合成中間
体を経て製造されている。
ネム紡導体は、下記反応式、によって得られる合成中間
体を経て製造されている。
反応図 1
H
なお、式(V)および(Va )の化合物は、下記互変
異性体として存在することが知られている。
異性体として存在することが知られている。
ところで、上記合成中間体を製造するに際し、一般にフ
ッ素化工程の収率が低く、目的物の効率のよい製造を妨
げている。
ッ素化工程の収率が低く、目的物の効率のよい製造を妨
げている。
例えば、反応図1のf)→g)の工程又は反応図2の−
)ii)工程は対応するヒドロキシル体金ジエチルアミ
ノサルファトリフルオライド(以下「DAST」という
)で処理し、ヒドロ卑シル基の結合する炭素原子上の立
体配置の反転したフッ素化物を立体選択的に得ているが
:その収率は約301前後と低い値を示すのみである。
)ii)工程は対応するヒドロキシル体金ジエチルアミ
ノサルファトリフルオライド(以下「DAST」という
)で処理し、ヒドロ卑シル基の結合する炭素原子上の立
体配置の反転したフッ素化物を立体選択的に得ているが
:その収率は約301前後と低い値を示すのみである。
一方、本発明者らはそれ自体既知の発酵生産物質である
抗生物質OA −6129BをDAST処理する下記反
応式によジヒドロ中シル基をフッ素置換し半合成的に6
−フルオロエチルカルバペネム誘導体の勇造方法を開示
した(特開昭61−151190号公報参照)。
抗生物質OA −6129BをDAST処理する下記反
応式によジヒドロ中シル基をフッ素置換し半合成的に6
−フルオロエチルカルバペネム誘導体の勇造方法を開示
した(特開昭61−151190号公報参照)。
反応図3
(発明が解決しようとする問題点)
全合成的製造方法により、光学活性ヒドロキシル基を立
体選択的に好収率で、且つ、経済的なフッ素置換体を提
供することが本発明の目的である。
体選択的に好収率で、且つ、経済的なフッ素置換体を提
供することが本発明の目的である。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、上記問題を解決すべく用いるフッ素化試
薬、フッ素化工程について研究したところ、前記反応図
に示すフッ素化工程において、いわゆるYaroven
ko試薬又は石川試薬を用いると、対応するヒドロキシ
化合物を立体選択的に反転したフッ素化物を好収率で得
ることができ、また更に、フッ素化工程は反応図2の−
)ii)によれば、反応図1のf)→g)のニーによる
よりも経済的、且つ高収率で6−フルオロエチルカルパ
(ネム合成中間体を製造できることを見い出し、本発明
を完成した。
薬、フッ素化工程について研究したところ、前記反応図
に示すフッ素化工程において、いわゆるYaroven
ko試薬又は石川試薬を用いると、対応するヒドロキシ
化合物を立体選択的に反転したフッ素化物を好収率で得
ることができ、また更に、フッ素化工程は反応図2の−
)ii)によれば、反応図1のf)→g)のニーによる
よりも経済的、且つ高収率で6−フルオロエチルカルパ
(ネム合成中間体を製造できることを見い出し、本発明
を完成した。
なお反応図2の工程を選ぶことの優位性は式(V&)で
示される化合物の方が、アゼチジノン類よυ該フッ素化
反応に対して安定であることに起因するものと考えられ
る。
示される化合物の方が、アゼチジノン類よυ該フッ素化
反応に対して安定であることに起因するものと考えられ
る。
しかして、本発明は下記式(夏)
?H
式中、Rは容易に離脱し得るカルボキシル保護基を表わ
す、 で示さiる6−((Is)−1−ヒドロキシエチル〕−
3,7−シオキソー1−アザビシクロ(3,2,0〕へ
〕ブタンー2−カル?ン酸エステルを、フッ素化オレフ
ィンと有機塩基とから形成されるフッ素化試剤と反応さ
せることを特徴とする、式(It)式中、Rは上記と同
じ意味を表わす、 で示される、6− ((IR)−1−フルオロエチル〕
−3,7−&オキソー1−7デピシクロ(3,2,0)
へブタン−2−カルゲン酸エステル類の製造方法を提供
するものである。
す、 で示さiる6−((Is)−1−ヒドロキシエチル〕−
3,7−シオキソー1−アザビシクロ(3,2,0〕へ
〕ブタンー2−カル?ン酸エステルを、フッ素化オレフ
ィンと有機塩基とから形成されるフッ素化試剤と反応さ
せることを特徴とする、式(It)式中、Rは上記と同
じ意味を表わす、 で示される、6− ((IR)−1−フルオロエチル〕
−3,7−&オキソー1−7デピシクロ(3,2,0)
へブタン−2−カルゲン酸エステル類の製造方法を提供
するものである。
本発明において、式(1)で示される化合物は、例えば
、前述し九特開昭59−84886号公報に記載の方法
によって製造される式(Va)で示される化合物の互変
異性体として調製できる。
、前述し九特開昭59−84886号公報に記載の方法
によって製造される式(Va)で示される化合物の互変
異性体として調製できる。
なお、Rで示した容易に離脱し得るカル−キシル保獲基
は、β−ラクタム系抗生物質の化学において通常用いら
れているそれ自体公知のものが挙げられる。よシ具体的
には、環元的又は生理的条件下で容易に離脱してカルが
キシル基を生じるp−ニトロベンジル、ベンジルモジく
ハヘンノヒドリル基等の置換又は未置換のアラルキル基
や、1−アセト牛ジエチル、1−エトキシカルゲニルオ
キシエチル、ピパロイルオキシメチル、ヘキサノイルオ
キシメチル、フタリジルもしくはエトキシカル?ニルメ
ト中ジメチル基等保護基を好適なものとして挙げること
ができる。
は、β−ラクタム系抗生物質の化学において通常用いら
れているそれ自体公知のものが挙げられる。よシ具体的
には、環元的又は生理的条件下で容易に離脱してカルが
キシル基を生じるp−ニトロベンジル、ベンジルモジく
ハヘンノヒドリル基等の置換又は未置換のアラルキル基
や、1−アセト牛ジエチル、1−エトキシカルゲニルオ
キシエチル、ピパロイルオキシメチル、ヘキサノイルオ
キシメチル、フタリジルもしくはエトキシカル?ニルメ
ト中ジメチル基等保護基を好適なものとして挙げること
ができる。
フッ素化反応に用いるフッ素化オレフィンとしては、い
わゆるYarovenko試薬や石川試薬を形成するフ
ッ素化オレフィンが挙げられ、例えば、2−クロロ−t
+L2− トリフルオロエテン、ヘキサフルオログロベ
ンが好ましい。有機塩基としては、一般にジエチルアミ
ンが好適に用いられるが、ピペリジン等の第二級アミン
類をも用いることができる。
わゆるYarovenko試薬や石川試薬を形成するフ
ッ素化オレフィンが挙げられ、例えば、2−クロロ−t
+L2− トリフルオロエテン、ヘキサフルオログロベ
ンが好ましい。有機塩基としては、一般にジエチルアミ
ンが好適に用いられるが、ピペリジン等の第二級アミン
類をも用いることができる。
なお、フッ素化オレフィンと有機塩基は該反応に際し、
予めそれらの付加体を1lllijlして用いるのがよ
い。かかる付加体を式(1)の化合物に作用されること
によシ本発明は実施できる。
予めそれらの付加体を1lllijlして用いるのがよ
い。かかる付加体を式(1)の化合物に作用されること
によシ本発明は実施できる。
即ち、有機塩基のジエチルエーテルまたは塩化メチレン
溶液に2−クロロ−1,1,2−トリフルオロエテンま
たはへキサフルオログロペンを液状tたは気体のまま加
え、付加体t−調製し、該付加体を実質的にフッ素化反
応に悪影響を及ぼさない有機溶媒下、式(1)の化合物
に作用せし゛めればよい。
溶液に2−クロロ−1,1,2−トリフルオロエテンま
たはへキサフルオログロペンを液状tたは気体のまま加
え、付加体t−調製し、該付加体を実質的にフッ素化反
応に悪影響を及ぼさない有機溶媒下、式(1)の化合物
に作用せし゛めればよい。
該反応は、一般に一20°〜40℃、好ましくは00〜
25℃下、式(1)の化合物の含有液に攪拌しながら予
め調製し九付加体を滴下、反応せしめればよい。反応は
約0.5〜20時間で終了する。
25℃下、式(1)の化合物の含有液に攪拌しながら予
め調製し九付加体を滴下、反応せしめればよい。反応は
約0.5〜20時間で終了する。
この生成物は、精製することなく3位置111!誘導体
の合成原料として用いることができる。
の合成原料として用いることができる。
なお、作用させる付加体(フッ素化試剤)の使用量は式
(1)の化合物に対して1〜5倍モル当量、好ましくは
1〜2倍モル当量とするのがよい。
(1)の化合物に対して1〜5倍モル当量、好ましくは
1〜2倍モル当量とするのがよい。
(実施例)
以下、本発明を実施例によシ、更に詳細に説明する。
実施例1
化合物(1)2.72f(7,81mmol)t−塩化
メチレン70m1にけんだくさせ、0℃でかくはんしな
がら石川試薬1.76 M (5,08mmol )
1に@下した。
メチレン70m1にけんだくさせ、0℃でかくはんしな
がら石川試薬1.76 M (5,08mmol )
1に@下した。
反応液は0〜lO℃で3時間、ついで室温で40分かく
はんした。反応終期には反応液は均一になった。反応液
を再び氷冷し、0.1M燐酸緩衝液(pii7.4)7
0yを加え、0℃で10分間かくはんした。水層と有機
層を分離し、水層を2回塩化メチレンにて抽出した。有
機層をあわせて水、飽和食塩水(2回)にて順次洗浄し
、N&2so4にて乾燥した。溶媒を留去して得られた
シロップ(4,7))を塩化メチレン101111に溶
解し、これt−n −ヘキサン240mに滴下した。生
じたけんだく液を遠心分離(3000rpm、10 m
in、) L、上清は廃棄し、オイル状の沈殿物として
表題化合物を2、74 >得た(収率98チ)。この化
合物のシリカダルTLC(展開溶媒系:トルエン/酢酸
エチル(1/1 ) )におけるRf値は0.59を示
した。
はんした。反応終期には反応液は均一になった。反応液
を再び氷冷し、0.1M燐酸緩衝液(pii7.4)7
0yを加え、0℃で10分間かくはんした。水層と有機
層を分離し、水層を2回塩化メチレンにて抽出した。有
機層をあわせて水、飽和食塩水(2回)にて順次洗浄し
、N&2so4にて乾燥した。溶媒を留去して得られた
シロップ(4,7))を塩化メチレン101111に溶
解し、これt−n −ヘキサン240mに滴下した。生
じたけんだく液を遠心分離(3000rpm、10 m
in、) L、上清は廃棄し、オイル状の沈殿物として
表題化合物を2、74 >得た(収率98チ)。この化
合物のシリカダルTLC(展開溶媒系:トルエン/酢酸
エチル(1/1 ) )におけるRf値は0.59を示
した。
理化学的性質
IR(KBr錠)
y CH”5 : 1770 、1750 、1520
、1350 cm−’ax NMR(CDC1,) δ: 1.52(3H,dd、Jm6.’0and24
.4Hz 。
、1350 cm−’ax NMR(CDC1,) δ: 1.52(3H,dd、Jm6.’0and24
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C1CHF ) 、2.52(IH,dd−J−7−4
and18.0Hz 、 H−4) 、 2.96 (
IH,dd 、 J −7,2and18.OHz、H
−4’ ) 、 3.37 (LH、ddd。
and18.0Hz 、 H−4) 、 2.96 (
IH,dd 、 J −7,2and18.OHz、H
−4’ ) 、 3.37 (LH、ddd。
Jstl、6 、7.2 and 18.5 Hz 、
H−6) #4.16 (1)1. td 、J=
7.3and 1.6 Hz tH−5)、4.77
(IH,s 、H−2)。
H−6) #4.16 (1)1. td 、J=
7.3and 1.6 Hz tH−5)、4.77
(IH,s 、H−2)。
4.6−5.5 (I H1m −CH3CV)、5.
28(2H+ s 、 b@nzyl) + 7.5
0(2H+d+J−9,5Hz 、 Ar−H) 、
8.20 (2H,d 。
28(2H+ s 、 b@nzyl) + 7.5
0(2H+d+J−9,5Hz 、 Ar−H) 、
8.20 (2H,d 。
J w 9.5 Hz 、 Ar−H)特許出、a人
三楽株式会社
三楽株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、Rは容易に離脱し得るカルボキシル保護基を表わ
す、 で示される6−〔(1S)−1−ヒドロキシエチル〕−
3,7−ジオキソ−1−アザビシクロ〔3,2,0〕ヘ
プタン−2−カルボン酸エステル類を、フッ素化オレフ
ィンと有機塩基とから形成されるフッ素化試剤と反応さ
せることを特徴とする、式(III)▲数式、化学式、表
等があります▼(III) 式中、Rは上記と同じ意味を表わす、 で示される、6−〔(1R)−1−フルオロエチル〕−
3,7−ジオキソ−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プタン−2−カルボン酸エーテル類の製造方法。 2、Rが置換又は未置換のアラルキル基である特許請求
の範囲第1項記載の製造方法。 3、フッ素化オレフィンがヘキサフルオロプロペンまた
は2−クロロ−1,1,2−トリフルオロエテンである
特許請求の範囲第1項又は第2項記載の製造方法。 4、有機塩基がジエチルアミンまたはピペリジンである
特許請求の範囲第1項から第3項のいずれかに記載の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62015231A JPS63185979A (ja) | 1987-01-27 | 1987-01-27 | フルオロアルキルβ−ラクタム類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62015231A JPS63185979A (ja) | 1987-01-27 | 1987-01-27 | フルオロアルキルβ−ラクタム類の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63185979A true JPS63185979A (ja) | 1988-08-01 |
Family
ID=11883088
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62015231A Pending JPS63185979A (ja) | 1987-01-27 | 1987-01-27 | フルオロアルキルβ−ラクタム類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63185979A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006103986A1 (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-05 | Tosoh F-Tech, Inc. | 光学活性なフルオロプロリン誘導体の製造方法 |
-
1987
- 1987-01-27 JP JP62015231A patent/JPS63185979A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006103986A1 (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-05 | Tosoh F-Tech, Inc. | 光学活性なフルオロプロリン誘導体の製造方法 |
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