JPS63183560A - ２−（アミノメチル）ピロリジン誘導体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （アミノメチル）ピロリジンの合成中間体として有用で
ある 一般式 （式中Ｒ１＋　Ｒ２＋　Ｒ３は水素原子、アルキル基、
フェニル基、置換されたフェニル基を示す。）で表わさ
れる２−（アミノメチル）ピロリジン誘導体およｄその
光学活性体ならびにその製造方法に関する。

さらに製造方法は下記の２つの製造方法に関する。

（製造方法１） 一般式 （式中Ｒ１＋　Ｒ２１Ｒ３は水素原子、アルキル基、フ
ェニル基、置換されたフェニル基を示す。）で表わされ
るプロリンアミド誘導体およびその光学活性体をたとえ
ばテトロヒドロフラン、ジグライム等のエーテル系溶媒
中アシルオキシ水素化ホウ素金属錯体を用いて還元する
ことを特徴とする一般式 （式中の記号は前述と同様のものを示す。）で表わされ
る２−（アミノメチル）ピロリジン誘導体およびその晃
学活性体の製造方法。

（製造方法２） 一般式 （式中Ｒ１＋　Ｒ２ｘ　Ｒ３は水素原子、アルキル基、
フェニル基、置換されたフェニル基を示す。）で表わさ
れる２−シアノピロリジン誘導体およびその光学活性体
をたとえば芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、アルフー
ル類、エーテル類又はそれらの混合溶媒中、ラネー・ニ
ッケルを用いて還元す゛ることを特徴とする 一般式 （式中の記号は前述と同様のものを示す。）で表わされ
る２−（アミノメチル）ピロリジン誘導体およびその光
学活性体の製造方法。

毘未Δ皮直　　　　・ 一般式（Ｉ）で表わされる本発明の化合物は、文献等に
未記載の新規化合物である。

また、従来の２−（アミノメチル）ピロリジンの製造方
法は、次の文献の如きものが知られている。

・ケミカル・コミュニケーションズ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ
　　Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ）＋旦Ｊ。

・ベリヒテ・デル・ドイチェン・ケミジエン・ゲゼルシ
ャフト（Ｂｅｒｉｃｈｔｅ　　ｄｅｒ　　Ｄｅｕｔｓｃ
ｈｅｎ　　Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅｎ　　Ｇｅ５ｅｌｌｓｃ
ｈａｆｔＬ　旦Ｊ、１９８７．（１９・ヘルベティカ・
ケミ力・アクタ（Ｈｅｌｖｅｔｉｃａ　　Ｃｈｅｍｉｃ
ａ　　Ａｃｔａ）、　８Ｊ、２ＯジャーナルＯオブ・ザ
・ルシアン・フィジカル−ケミカル・ソサエティ（Ｊｏ
ｕｎａｌ　　ｏｆｔｈｅ　　Ｒｕ５ｓｉａｎ　　Ｐｈｙ
ｓｉｃａｌ　−Ｃｈｅｍｉｃａｌ　　５ｏｃｉｅｔＬ＋
　　　Ｚｈｕｒｎａｌ　　Ｒｕｓｓｋａｇｏ　　Ｆｉｚ
ｉ、ｋｏ−Ｋｈｉｍｉｃｈｅｓｋａｇｏ　　ｏｂｓｈｃ
ｈｅｓｔｖａ）ｆｌ１２２１６　（１９３０） ・テトラヒドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
　　Ｌｅｔｔｅｒｓ）＋　　２ＬｆＩＪ　２２１７　　
（１・特公昭６０−１３０４号 以上の文献には製造方法１および製造方法２で表わされ
る本発明の製造方法についての記載はない。

口ｆ″。

上記の文献に記載されている従来の２−（アミノメチル
）ピロリジンの製造方法は、 １）工程が長く、収率が低い。

２）工業的に不利な試薬や操作が必要である。

３）光学活性体を得ることができない。

などの欠点を有しており、２−（アミノメチル）ピロリ
ジンの工業的製造方法として適切ではない。

そこで本発明者らは、２−（アミノメチル）ピロリジン
またはその光学活性体の高収率で工業化可能な製造方法
を見い出すべく鋭意研究を重ね、一般式（Ｉ）で表わさ
れる本発明の新規な２−（アミノメチル）ピロリジン誘
導体を合成中間体とする製造方法が優れていることを見
い出し、上記の問題点を解決した。

。　　′　、の 本発明者らは、以下の２つの製造方法により２−（アミ
ノメチル）ピロリジンまたはその光学活性体を合成した
。

（製造方法１） プロリンより容易に誘導される一般式（ＩＩ）で表わさ
れるプロリンアミド誘導体を水素化ホウ素ナトリウムま
たは水素化ホウ素リチウム等の水素化ホウ素金属錯体好
ましくは水素化ホウ素ナトリウムと酢酸、トリフルオロ
酢酸、安息香酸等の有機カルボキシル化合物より容易に
得られるアシルオキシ水素化ホウ素金属錯体を化学量論
的に等量またはそれ以上用いて、一般式（Ｉ）に示す新
規２−（アミノメチル）ピロリジン誘導体を得た。

使用する溶媒はテトラヒドロフラン、ジオキサン、モノ
グライム等のエーテル系溶媒が好ましく、反応温度は室
温から溶媒の還流温度で反応時間は１０分間から５時間
で実施できる。

（製造方法２） ラネー・ニッケルを還元触媒として化学量論的に等量ま
たはそれ以上用いて、一般式（Ｉ）に示す新規２−（ア
ミノメチル）ピロリジン誘導体を得た。使用する溶媒は
、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、アルコール類、エ
ーテル類、又はそれらの混合溶媒を適宜選択して使用で
きる。

反応温度は、室温から溶媒の沸点で実施できる。

特に５０〜６０℃で実施するのが好ましい。反応時間は
、使用する溶媒や反応温度で異なるが３０分〜１０時間
で実施できる。

出発物質（原料）である一般式（Ｉ［［）の２−シアノ
ピロリジン誘導体に関する従来の製造方法は、１）特開
昭６０−１３７５６号 ２）テトラヒドロン・レターズ（Ｔｅｔｒ、ａｈｅｄ　
ｒ　ｏ　ｎ　　Ｌ　ｅ　ｔ　ｔ　ｅ　ｒ　ｓ　）　１モ
１２２９　（１３）ブリティン・オブ・ザ・ケミカル・
ソサエティ・オブ・ジャパｙ（Ｂｕｌｌｅｔｉｎ　　ｏ
ｆｔｈｅ　　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　　５ｏｃｉｅｔＹ　　
。

ｆ　　Ｊａｐａｎ）　ｆＬＱＪ２９５Ｅ３　（１９７７
）等が知られるように■収率が低（純品が得られない。

■毒物であるシアン化合物を用いて合成する等、工業的
製造方法としては適切でないものも多い。

そこで本発明者らはＡｋｂａｒ　　５ａｅｎｄｎｙａ［
シンテシス（ＳＶｎｔｈｅｓｉｓ）、１９８５、Ｎｏ、
２．１８４コにより開発されたニトリル合成法をプロリ
ンアミド誘導体に応用できることを見い出し、この方法
により一般式（ＩＩＩ）で表わされる２−シアノピロリ
ジン誘導体を合成した。

本発明の製造方法１または製造方法２によって得られた
新規２−（アミノメチル）ピロリジン誘導体は常法であ
る水素添加または酸処理により容易に脱保護基を行ない
、制癌剤の配位子として有用な２−（アミノメチル）ピ
ロリジンを得ることができる。

発刊ｊ弓碩１ 本発明の製造方法１によれば、従来の方法に比べ次の利
点がある。

１、アシルオキシ水素化ホウ素錯体を用いると、アシル
オキシカルボニル基を還元することなく、選択的に側鎖
のアシド基をアミノメチル基に還元することができる。

従来のリチウムアルミニウムハイドライド、ジボラン等
の一般的還元剤は、上記の選択性を育しない。

２、反応収率は５０〜８０％と高く、脱保護基を行ない
、純度の高い、２−（アミノメチル）ピロリジンが得ら
れる。

３、入手容易な、光学活性なプロリンを使用することに
より、光学活性な２−（アミノメチル）ピロリジンが得
られる（ラセミ化が起こる率が低い） ４、アシルオキシ水素化ホウ素錯体は、反応、後処理が
容易である。リチウムアルミニウムハイドライド、ジボ
ラン等は、危険性、毒性を有しており、その取り扱い、
後処理が煩雑である。

５、式１で表わされる新規２−（アミノメチル）ピロリ
ジン誘導体は水溶性が小さく、水溶液からの単離が容易
である。

また、製造方法２によれば従来の方法に比べ次の利点が
ある。

１、一般式（ＩＩ）で表わされる２−シアノピロリジン
誘導体は保護基を残したまま、シアノ基を選択的に還元
することができ一般式（Ｉ）で表わされる２−（アミノ
メチル）ピロリジン誘導体を容易に合成できる。

２、反応収率は５０〜８０％と高く、脱保護基を行ない
純度の高い、２−（アミノメチル）ピロリジンから得ら
れる。

３、入手容易な、光学活性なプロリンを使用することに
より、光学活性な２−（アミノメチル）ピロリジンが得
られる（ラセミ化が起こる率が低い）。

以下に実施例および参考例をあげて、本発明を説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

災息旌１ １−ペンジルオキシ力ルポニルビロリジン−２−カルボ
キサミド２７．２ｇ　（０，１１ｍｏ　Ｉ）、水素化ホ
ウ素ナトリウム４１．４ｇ　（１，０９ｍｏｌ）をジグ
ライム２２０ｍ１に懸濁し、氷水冷下、トリフルオロ酢
酸１２５．０ｇ　（１，０９ｍｏｌ）とジグライム５５
ｍ１の溶液を滴下し、５０〜６０″Ｃで３時間反応する
。反応液を塩酸水に展開し、過剰の試薬を分解し、水酸
化ナトリウム水溶液でアルカリ性とした後、塩化メチレ
ンで抽出する。

塩化メチレン層を硫酸マグネシウムで乾燥後、塩化水素
で酸性と、塩化メチレンを留去し、酢酸エチル５００ｍ
１を添加し、析出した結晶を分離、乾燥し、２−アミノ
メチル１−ベンジンオキシカルボニルピロリジン塩酸塩
２２．６ｇ　（７６％）を得る。

融点＝１３８〜１４０℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：１．５〜２゜４　（ｍ
、４Ｈ）、　　　２．９〜３．８　（ｍ、４Ｈ）、３．
９〜４．４　（ｍ、ＩＨ）、５．０５　（ｓ、２Ｈ）、
７．２２　（ｓ、５Ｈ）、７゜８〜９．２　（ｍ、３Ｈ
）。

２８９０、　１７００ 参ｆｆ１ ２−アミノメチル−１−ベンジルオキシカルボニルピロ
リジン塩酸塩２２．６ｈ　（０，０８４ｍｏ１）をメタ
ノール４５ｍＬ　５％−パラジウム炭素０．３８ｇを用
いて、室温下３気圧の水素で還元する。触媒をろ別し、
溶媒を留去し、得られた残渣を水酸化カリウム存在下、
減圧留去することにより、無色透明液の２−（アミノメ
チル）ピロリジン７．５８ｇ　（９０％）を得る。

沸点７４〜８０℃（２７〜３０ｍｍＨｇ）’Ｈ−ＮＭＲ
（Ｄ２０）δ：１．０〜２．１（ｍ、７Ｈ）２．３〜３
．３　（ｍ、５Ｈ）参１目１ （Ｓ）　−１−ｔｅｒｔ−プチルオキシ力ルポニルプロ
リ７１０．７５ｇ　（０，０５ｍｏｌ）、）リエチルア
ミン５．０６ｇ　（０，０５ｍｏ　ｌ）。

トリエチルアミン５．０６ｇ　（０，０５ｍｏｌ）。

ジクロルメタン１１８ｍ１の溶液に、水冷、撹拌下、ク
ロル炭酸イソブチル６．８２ｇ　（０，０５ｍｏｌ）を
滴下し、混合酸無水物の溶液を調製する。この溶液を水
冷、撹拌下、濃アンモニア水２０ｍ１中にゆっくり添加
する。室温で１時間撹拌する。ジクロルメタン層を分取
し、５％−硫酸水素カリウム水溶液１５０ｍ１で２回、
飽和食塩水１００ｍ１で２回洗浄する。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を減圧留去すると（Ｓ）−１−ｔ
ｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルプロリンアミド７．８
ｇ（収率７３％）を得る。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　６　：　１．４４　（Ｓ
、９Ｈ）、１．５〜２．４　（ｍ、４Ｈ）、３゜２〜３
．８　（ｍ、２Ｈ）、４．０〜４．４　（ｍ。

ＩＨ） 支直旌１ （Ｓ）　−１−ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルピロ
リジン−２−カルボキサミド２．１４ｇ（０，０１ｍｏ
　ｌ）、水素化ホウ素ナトリウム３゜７８ｇ　（０，１
０ｍｏｌ）をジグライム３０ｍ１に懸濁し、氷水冷下酢
酸８．０ｇ　（０，１０ｍ。

ｌ）とジグライム１０ｍ１の溶液を滴下し、５゜〜６０
６Ｃで３時間反応する。反応液を硫酸水素カリウム水溶
液に展開し、過剰の試薬を分解し、中性物質を塩化メチ
レン１００ｍ１で抽出する。

水層を水酸化ナトリウムでアルカリ性にし、塩化メチレ
ン１００ｍ１で抽出し、塩化メチレン層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去し、オイル状の（Ｓ）−２−
アミノメチル−１−ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル
ピロリジン１．３７ｇ（６０％）を得る。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：　１．２５　（ｓ、　
２）、１．４５　（ｓ、９Ｈ）１．５〜２．４　（ｍ、
４Ｈ）、２．６〜２．９　（ｍ、２Ｈ）、３．２〜３゜
８　（ｍ、２Ｈ）３．７〜４．０　（ｍ、ＩＨ）ＩＲ，
ＫＢｒ　　　　−ｔ ｃ　ｍ　　　；　３３８０　＊ ａＸ ３３００．１７００ 参」１舛」− 得られた（Ｓ）−２−アミノメチル−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルオキシカルボニルピロリジン１．３７ｇ　（０，０
６ｍｏ　ｌ）をメタノール中、塩化水素により保護基の
脱離を行い、（Ｓ）−２−（アミノメチル）ピロリジン
・２塩酸塩０．８０ｇ（７７％）を得る。

融点１０５〜１０６℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２０）δ：１．５〜２．６（ｍ、４Ｈ
）、３．１〜３．６　（ｍ、４Ｈ）３．８〜４．１　（
ｍ、ＩＨ） ＩＲ，Ｋ”ｒ　　　　−１。

ｍａｘ　　Ｃｍ　　　＋３４６０ α訃＋＋　２　、０℃（ｃ＝１．５０．　Ｈ２Ｏ）参１
Ｌ伝」１ （Ｒ）−１−（４−メトキシベンジルオキシカルボニル
）プロリン５５．８ｇ　（０，２ｍｏ　ｌ）。

トリエチルアミン２０．２ｇ　（０，２ｍｏ　Ｉ）。

クロロホルム４７２ｍ１の溶液に、水冷、撹拌下クロル
炭酸インブチル２７．３ｇ　（０，２，ｍｏ　Ｉ）を滴
下し、混合酸無水物の溶液を調製する。この溶液を、水
冷攪拌した、濃アンモニア水１００ｍｌ中にゆっくり添
加する。室温で１時間攪拌後、クロロホルム層を分取し
、５％硫酸水素カリウム水溶液１ρ、飽和食塩水３００
ｍ１，４００ｍ１で順次洗浄する。無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去して（Ｒ）−１−（４−メ
トキシベンジルオキシカルボニル）プロリンアミド４８
゜０ｇ（収率８゛６％）を得る。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：１．５〜２．５（ｍ、
４Ｈ）、３．２〜３．８　（ｍ、２Ｈ）、３゜７２　（
ｓ、３Ｈ）、４．１〜４．６　（ｍ、ＩＨ）。

５．０１　（ｓ、２Ｈ）、６．７ＥＩ　（ｄ、２Ｈ）。

７．２０　（ｄ、２Ｈ） （Ｒ）−１−（Ｐ−メトキシ）フェニルメチルオキシカ
ルボニルピロリジン−２−カルボキサミド１１．１２ｇ
　（０，０４ｍｏｌ）、水素化ホウ素ナト’／ｌｚウム
１５．Ｉｇ　（０，４０ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン
１００ｍ１に懸濁し、氷水冷下、安息香酸４８．８ｇ　
（０，４０ｍｏ　ｌ）とテトラヒドロフラン２００ｍ１
の溶液を滴下し、さらに５０〜ｅｏ’ｃで４時間反応す
る。反応液を水に展開し、水酸化ナトリウム水溶液でｐ
Ｈ＝９．１０にし、酢酸エチル１００ｍ１で２回抽出し
、酢酸エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去し、油状の（−Ｒ）−２−アミノメチル−１−（ｐ−
メトキシ）フェニルメチルオキシカルボニルを得る。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：１．５〜２゜５　（ｍ
ｙ　　４Ｈ）、２．６〜２．９　（ｍ、２Ｈ）３、２〜
３．８　（ｍ、　２Ｈ）　、　３．７〜４．帆（ｍ、Ｉ
Ｈ）、３．７２　（ｓ、３Ｈ）、５．０（ｓ、２Ｈ）、
Ｃ３，７Ｂ　（ｄ、２Ｈ）、７．２０　（ｄ、２Ｈ） 畜」１舛５一 実施例３で得た（Ｒ）−２−アミノメチル−１−（Ｐ−
メトキシ）フェニルメチルオキシカルボニルピロリジン
の酢酸エチル溶液を、塩化水素で酸性とし、保護基の除
去を行ない、エタノール、酢酸エチルで晶析し、（Ｒ）
−２−（アミノメチル）ピロリジン２塩酸塩４．４０ｇ
　（６３％）を得る。

融点１０５〜１０７℃ ■ＲνＫＢｒ　Ｃｍ−１；３４６０ ａ　Ｘ ’Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２０）　６　：　１．５〜２．８　（
ｍ、４Ｈ）、３．．１〜３．８　（ｍ、４Ｈ）、３．６
〜４．１　　（ｍ、ＩＨ） αＤ−＋２．１℃（ｃｍ１．５０．Ｈ２Ｏ）参３」１亀 １−ベンジルオキシカルボニル−ρ−プロリンアミド４
．５ｇをジクロロメタン３０ｍ１に溶解し、トリエチル
アミン３．８４ｇを加えて−８゜Ｃまで冷却する。トリ
クロロアセチルクロライド３．６０ｇをジクロルメタン
２０ｍ１に溶がした溶液を一８℃〜０℃で滴下する。冷
水２５ｍ１を反応液に加え有機層を分取する。５％水酸
化ナトリウム水溶液３０ｍ１，５％希硫酸３０ｍ１，１
％食塩水３０ｍ１で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。瘉媒を減圧濃縮すると１−ベンジルオ
キシカルボニル−２−シアノピロリジン４．８０ｇを得
る。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：　７．２５　（ｓ。

５Ｈ）、５．２０　（ｓ、２Ｈ）、４．ＢＯ（ｍ。

ＩＨ）、３．２〜３．６　（ｍ、２Ｈ）、１．７〜２．
３　（ｍ、４Ｈ） ＩＲｖＮａ”ｃｍ−”　；２９６０゜ ａ　Ｘ ２２５０．１７１０，１４１０．１３６０゜尖息匠１ 参考例６で得られた１−ベンジルオキシカルボニル−２
−シアノピロリジン４．０ｇをメタノール／トルエン（
１：２．）溶液９０ｍ１に溶解し、水酸化ナトリウム０
．１５ｇと変性ラネー・ニッケル（湿性）５〜工Ｏｇを
加える。室温下、２気圧の水素で１時間還元する。解媒
を冷却後、酢酸エチル６０　ｍ　ｌ　ｓ水６０ｍ１を加
えた後、有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去して、２−アミノメチル−１−ペンジル
オキシ力ルポニルビロリジン３．４ｇを得る。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：　１．２２　（ｓ。

２Ｈ）、　　１．７〜２．０　　（ｍ、４Ｈ）、　　２
．６〜２．８　　（ｍ、２Ｈ）、３．２〜３．５　　（
ｍ。

２Ｈ）、３．７〜４．０　　（ｍ、　　ＩＨ）、５．０
８　　（ｓ、２Ｈ）、７．２４　（ｓ、５Ｈ）ＩＲνＮ
ａＣ’　　　−’　　；３７３０゜ｍａｘ　　Ｃｍ ３３００．２９５０．　１７００．　１４１０゜１３６
０、　１１００ ｍ１１１ ２−アミノメチル−１−ベンジルオキシカルボニルピロ
リジン３．２ｇをメタノール３０ｍ１に溶解し、５％パ
ラジウム炭素１ｇを加え、室温下２気圧の水素で２５分
分間光する。触媒をろ去後溶媒を留去すると２−（アミ
ノメチル）ピロリジン１．５ｇを得る。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩａ　）δ：１．０〜２゜２　（
ｍ、４Ｈ）、２．５〜３．３　（ｍ、４Ｈ）。

４．６〜４．９　（ｍ、ＩＨ） 尖息旌ｊ （Ｒ）−１−ベンジルオキシカルボニルピロリジン−２
−カルボキサミド４．５ｇを用い、参考例６．実施例４
．参考例５と同様の操作を行ない（Ｒ）−２−（アミノ
メチル）ピロリジン１．４ｇを得る。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　６　：　１．　Ｏ〜２゜
２　（ｍｓ　４Ｈ）　、　２．３〜３．３　（ｍ、　４
Ｈ）　。

４．６〜４．９　（ｍ、ＩＨ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３は水素原子、アルキル基
   、フェニル基、置換さたフェニル基を示す。 ）で表わさる２−（アミノメチル）ピロリジン誘導体お
   よびその光学活性体。 ２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３は水素原子、アルキル基
   、フェニル基、置換さたフェニル基を示す。）で表わさ
   れるプロリンアミド誘導体およびその光学活性体を溶媒
   中でアシルオキシ水素化ホウ素金属錯体を用いて還元す
   ることを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中の記号は前述と同様のものを示す。）で表わされ
   る２−（アミノメチル）ピロリジン誘導体およびその光
   学活性体の製造方法。 ３）アシルオキシ水素化ホウ素金属錯体が水素化ホウ素
   ナトリウムまたは水素化ホウ素リチウム等の水素化ホウ
   素金属錯体より誘導されるのである特許請求の範囲第２
   項記載の製造方法４）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３は水素原子、アルキル基
   、フェニル基、置換されれたフェニル基を示す。）で表
   わされる２−シアノピロリジン誘導体およびその光学活
   性体を溶媒中でラネー・ニッケルを用いて還元すること
   を特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中の記号は前述と同様のものを示す。）で表わされ
   る２−（アミノメチル）ピロリジン誘導体およびその光
   学活性体の製造方法。